【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光催化屏蔽散热装置，该装置可应用于光催化合成、降解、转化还 原等科研、生产、教学领域。 技术背景-光催化装置近年来的发展方向是提高光源的利用率，实现简便、易行。但是光催化 过程中往往有较大热量，而且有些光源不便直接操作。我们通过国内外催化装置的总结 发现，简单实用的屏蔽散热装置未见报道。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对已有技术存在的缺陷，提供一种新型的光催化屏蔽散热装置， 作为光催化的重要组成部件，避免光催化反应的光线对操作人员产生辐射影响，避免系统外光线对系统内催化反应产生影响，防止系统和光源过热。为达到上述目的，本专利技术的构思是 一种新型光催化装置，包括光屏蔽框架结构和散热系统，下面分述如下一、 光屏蔽框架结构在进行光催化反应研究中，为了防止紫外线对操作人员的伤害，同时防止外界自然 对光化学反应的影响，必须对光源及相关部件进行保护。光屏蔽框架结构即是为此而设 计的。光屏蔽框架结构对光源系统、散热系统提供相应的支撑作用，同时使光催化体系相 对独立，避免系统中光催化反应所用的光线对操作人员产生辐射影响，也避免系统外的 光线对系统内的...
【技术保护点】
一种光催化屏蔽散热装置，包括一个光屏蔽箱体（１），其特征在于所述的光屏蔽箱体（１）能包容光催化系统并配有散热系统。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘引烽，王立平，李煜光，顾蓓蕾，毛金浩，胡和丰，刘丽，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。