膜、膜的光学均质性的评价方法及膜的制造方法技术

技术编号:23154093 阅读:50 留言:0更新日期:2020-01-18 15:21
本发明专利技术提供适合作为图像显示装置中的光学膜使用的、具有优异光学均质性的膜及该膜的制造方法。另外,本发明专利技术提供能够以比现有的评价方法更高的精度对膜的光学均质性进行评价的评价方法。本发明专利技术的膜为包含重均分子量为20万以上的树脂的流延膜,将对使用该膜由投影法得到的投影图像进行傅里叶变换而得到的膜逆空间图像中彼此正交的方向h及方向v的线轮廓分别设为线轮廓h及线轮廓v,将对在所述投影法中以不使用所述膜的方式得到的背景图像进行傅里叶变换而得到的背景逆空间图像中彼此正交的方向h’及方向v’的线轮廓分别设为线轮廓h’及线轮廓v’,将从线轮廓h减去线轮廓h’而得到的线轮廓(h‑h’)的最大强度设为Y

Evaluation method of optical homogeneity of film and film and manufacturing method of film

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】膜、膜的光学均质性的评价方法及膜的制造方法
本专利技术涉及膜、膜的光学均质性的评价方法及膜的制造方法。
技术介绍
对于在液晶显示装置、有机EL显示装置等图像显示装置中使用的光学膜而言,由于使用者介由该光学膜而直接以目视方式观看所显示的图像,因此要求非常高的光学均质性。作为这样的光学膜的制造方法,使用了下述方法:将含有挥发性溶剂和构成光学膜的树脂的溶液涂布于基材上,进行干燥,然后剥离(例如,专利文献1)。在这样的伴有涂布及干燥的制造方法中,根据涂布条件、干燥条件的不同,有时会产生厚度不均及取向不均。膜即使在具有目视无法确认那样的水平的不均的情况下,当最终作为图像显示装置中的光学膜进行了组装时,有时也因该不均而导致光学均质性受损、观看到图像的畸变等。因此,对于在图像显示装置中作为光学膜使用的膜,要求目视不易确认的水平的极高精度的均质性。因此,仍然存在针对进一步提高膜的光学均质性的要求。作为抑制了膜的不均的光学膜,例如专利文献1中记载了下述聚酰亚胺系光学膜:在从聚酰亚胺系光学膜的投影图像切取的矩形区域中,灰度(grayscale)的标准偏差σ以及该矩形区域的二值化图像的黑色部分的面积被调节至规定的范围内。专利文献2中记载了膜面内的透射光的亮度的不均以标准偏差计为平均亮度的15%以内的光学用透明膜。专利文献3中记载了基于边缘(fringe)投影法的形状测定方法,即,将来自光源部的光照射至方格板,并将透过该方格板的光作为方格图像进行投影,对该方格图像进行拍摄,根据方格图像的畸变将被测定物的三维系形状进行数值化。现有技术文献专利文献专利文献1:国际公开第2016/152459号专利文献2:日本特开平9-48866号公报专利文献3:日本特开2011-226871号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是,上述专利文献中记载的方法均不能被称为足以以在图像显示装置中作为光学膜使用的膜所要求的极高精度对膜的光学均质性进行评价的方法。就专利文献1中记载的方法而言,由于是在1cm×5cm的分析区域内进行的评价,因此并非能够对由纵向上产生的不均引起的光学均质性的降低进行充分评价的方法。专利文献2中记载的方法并非能够精度良好地对由透射光的亮度差小的、浓淡浅的不均引起的光学均质性的降低进行评价的方法。就专利文献3中记载的方法而言,由于是检测形状的方法,因此无法对由折射率的不均引起的光学均质性的降低进行评价。因此,就利用这些方法进行评价而得到的膜而言,均不能说其具有充分的光学均质性。因此,本专利技术是鉴于上述现有技术所具有的课题而作出的,其课题在于提供适合作为图像显示装置中的光学膜使用的、具有优异光学均质性的膜及该膜的制造方法。另外,本专利技术的课题在于提供能够以比现有的评价方法更高的精度对膜的光学均质性进行评价的评价方法。用于解决课题的手段为解决上述课题,本申请的专利技术人针对提高光学膜的光学均质性的方法及该光学均质性的评价方法进行了深入研究。其结果,着眼于从膜的基于投影法的投影图像经傅里叶变换得到的逆空间图像,发现满足特定要件的膜具有优异的光学均质性,从而完成了本专利技术。即,本专利技术包括以下的优选方式。〔1〕一种膜,其为包含重均分子量为20万以上的树脂的流延膜(castfilm),其中,将膜逆空间图像中彼此正交的方向h及方向v的线轮廓(lineprofile)分别设为线轮廓h及v,所述膜逆空间图像是对使用该膜由投影法得到的投影图像进行傅里叶变换而得到的,将背景逆空间图像中彼此正交的方向h’及方向v’的线轮廓分别设为线轮廓h’及v’,所述背景逆空间图像是对在上述投影法中以不使用上述膜的方式得到的背景图像进行傅里叶变换而得到的,将从线轮廓h减去线轮廓h’而得到的线轮廓(h-h’)的最大强度设为Ymh,将显示出最大强度Ymh的频率设为Xmh,将从线轮廓v减去线轮廓v’而得到的线轮廓(v-v’)的最大强度设为Ymv,将显示出最大强度Ymv的频率设为Xmv时,Ymh及Ymv均为30以下,Ymh、Ymv、Xmh及Xmv满足以下关系:[数学式1](Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2<20。〔2〕如上述〔1〕所述的膜,其中,树脂为聚酰亚胺或聚酰胺酰亚胺。〔3〕膜的光学均质性的评价方法,其至少包括下述工序:工序(1),利用投影法得到投影图像,所述投影法是将来自光源的光向膜照射、并将透过膜的光向投影面投影;工序(2),在工序(1)的投影法中以不使用膜的方式将来自光源的光向投影面投影,得到背景图像;工序(3),通过灰度化将工序(1)中得到的投影图像及工序(2)中得到的背景图像分别进行数值化,并将已数值化的图像数据进行傅里叶变换,得到逆空间图像;工序(4),从投影图像的逆空间图像中正交的两个方向的各线轮廓分别减去背景图像的逆空间图像中正交的上述两个方向的各线轮廓,从而得到经空白校正的线轮廓;以及,工序(5),对工序(4)中得到的经空白校正的线轮廓的最大强度(Ymh及Ymv)进行测定。〔4〕膜的制造方法,其至少包括下述工序:将至少含有树脂及溶剂的清漆涂布于支承体上的工序;对清漆的涂膜进行干燥而得到膜的工序;以及,使用上述〔3〕所述的评价方法对膜进行评价的工序。〔5〕如上述〔4〕所述的膜的制造方法,其中,在对膜进行评价的工序中,基于利用上述〔3〕所述的评价方法测定的最大强度(Ymh及Ymv),对膜的光学均质性进行评价,判断膜的品质的优劣。专利技术的效果根据本专利技术,能够提供具有优异光学均质性的膜及该膜的制造方法。另外,根据本专利技术,能够以比现有的评价方法更高的精度对膜的光学均质性进行评价。附图说明[图1]为示出得到投影图像的工序中的配置例的概略图。[图2]为用于对得到实施例及比较例的投影图像的工序中的配置进行说明的概略图。[图3]为用于对线轮廓中的Ymax、Xmax及Xcen进行说明的图。[图4]为示出由实施例1的投影图像得到的标准化前的线轮廓的图。[图5]为示出由实施例1的投影图像得到的标准化后的线轮廓的图。[图6]为示出由实施例1的背景图像得到的标准化后的线轮廓的图。[图7]为示出从由实施例1的投影图像得到的标准化后的线轮廓中减去由实施例1的背景图像得到的标准化后的线轮廓而得到的线轮廓的图。[图8]为示出对下述线轮廓进行平滑化而得到的线轮廓的图,所述线轮廓是从由实施例1的投影图像得到的标准化后的线轮廓中减去由实施例1的背景图像得到的标准化后的线轮廓而得到的。具体实施方式以下,对本专利技术的实施方式详细地进行说明。需要说明的是,本专利技术的范围并不限定于此处说明的实施方式,可以在不超出本专利技术的主旨的范围内进行各种变更。本专利技术的膜为包含重均分子量为20万以上的树脂的流延膜,其中,将对使用该膜由投影法得到的投影图像进行傅里叶变换而得到的本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种膜,其为包含重均分子量为20万以上的树脂的流延膜,其中,/n将膜逆空间图像中彼此正交的方向h及方向v的线轮廓分别设为线轮廓h及线轮廓v,所述膜逆空间图像是对使用所述膜由投影法得到的投影图像进行傅里叶变换而得到的,/n将背景逆空间图像中彼此正交的方向h’及方向v’的线轮廓分别设为线轮廓h’及线轮廓v’,所述背景逆空间图像是对在所述投影法中以不使用所述膜的方式得到的背景图像进行傅里叶变换而得到的,/n将从线轮廓h减去线轮廓h’而得到的线轮廓(h-h’)的最大强度设为Y

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170605 JP 2017-110960;20180322 JP 2018-0550121.一种膜,其为包含重均分子量为20万以上的树脂的流延膜,其中,
将膜逆空间图像中彼此正交的方向h及方向v的线轮廓分别设为线轮廓h及线轮廓v,所述膜逆空间图像是对使用所述膜由投影法得到的投影图像进行傅里叶变换而得到的,
将背景逆空间图像中彼此正交的方向h’及方向v’的线轮廓分别设为线轮廓h’及线轮廓v’,所述背景逆空间图像是对在所述投影法中以不使用所述膜的方式得到的背景图像进行傅里叶变换而得到的,
将从线轮廓h减去线轮廓h’而得到的线轮廓(h-h’)的最大强度设为Ymh,将显示出最大强度Ymh的频率设为Xmh,将从线轮廓v减去线轮廓v’而得到的线轮廓(v-v’)的最大强度设为Ymv,将显示出最大强度Ymv的频率设为Xmv时,Ymh及Ymv均为30以下,Ymh、Ymv、Xmh及Xmv满足以下关系:
[数学式1]
(Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2<20。


2.如权利要求1所述的膜,其中,树脂为聚酰亚胺或聚酰胺酰亚胺。

【专利技术属性】
技术研发人员:野殿光纪唐泽真义岸田明子牧寺雅巳池内淳一
申请(专利权)人:住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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