基板清洗装置及清洗基板的方法制造方法及图纸

一种基板清洗装置，该基板清洗装置包括：清洗单元(100)，清洗单元(100)包括清洗槽(110)以及回收槽(120)，回收槽(120)被设置为能够回收清洗槽(110)中的水，并二次供给至清洗槽(110)中；以及杀菌单元(200)，杀菌单元(200)用于对回收槽(120)中的水进行杀菌。

Base plate cleaning device and method of cleaning base plate

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板清洗装置及清洗基板的方法
本专利技术涉及清洗装置领域，具体地，涉及基板清洗装置及清洗基板的方法。
技术介绍
在显示面板的制备过程中，基板的清洗是制备过程中使用频率最高的工序。尤其是在薄膜晶体管(TFT)的制备过程中，每一道制备工序之前都需要将基板表面清洗干净。这是由于，在显示面板的制备过程中，通常会采用化学气相沉积、蚀刻、溅射等工艺。而上述工艺在制备过程中可能会对其所处理的基板带来污染，导致缺陷的生成，从而会造成元件特性失效的问题。对基板造成污染的污染物主要有粒子、无机物金属粒子、有机物杂质、原生氧化薄膜以及水痕等，通过对基板的清洗，可以除去上述污染物对基板的污染，减少缺陷的生成，提高元件的质量。然而，目前的基板清洗装置及清洗基板的方法仍有待改进。
技术实现思路
本专利技术是基于专利技术人对于以下事实和问题的发现和认识作出的：目前，显示面板多存在生产良率较低的问题。专利技术人经过深入研究以及大量实验发现，这主要是由于用于清洗基板的清洗装置会给基板带来细菌导致的。具体的，在清洗过程中，为了节省水的使用，目前清洗装置的清洗段的水循环使用。清洗装置主要包括清洗槽以及回收槽，回收槽用于回收清洗槽中的水，并将回收水二次供给至清洗槽中，以实现水的循环使用。专利技术人发现，回收槽容易滋生细菌，若将回收槽中带有细菌的水供给至清洗槽，用于基板的清洗，会使细菌附着在基板上，对基板造成污染，进而影响最终产品的生产良率。本专利技术旨在至少一定程度上缓解或解决上述提及问题中至少一个。在本专利技术的一个方面，本专利技术提出了一种基板清洗装置。该基板清洗装置包括：清洗单元，所述清洗单元包括清洗槽以及回收槽，所述回收槽被设置为能够回收所述清洗槽中的水，并二次供给至所述清洗槽中；以及杀菌单元，所述杀菌单元用于对所述回收槽中的水进行杀菌。由此，可以对回收槽中的水进行杀菌，减少细菌对基板的污染，提高最终产品的生产良率。根据本专利技术的实施例，所述杀菌单元包括光杀菌组件。由此，可以利用光照对回收槽中的水进行杀菌。根据本专利技术的实施例，所述杀菌单元进一步包括检测组件以及第一控制组件，所述检测组件被设置为能够检测所述回收槽中的水的细菌含量，所述第一控制组件被设置为基于所述检测组件的检测结果，控制所述光杀菌组件的开关。由此，通过检测组件以及第一控制组件配合光杀菌组件进行杀菌，可以达到节能高效的效果。根据本专利技术的实施例，所述检测组件包括：检测元件，所述检测元件与所述回收槽相连，用于检测所述回收槽中的水的细菌含量；以及数据分析元件，所述数据分析元件分别与所述检测元件以及所述第一控制组件相连，用于基于所述检测元件的检测结果，判断所述第一控制组件控制所述光杀菌组件开关的状态。由此，利用检测组件可以检测回收槽中水的细菌含量，并可以判别是否需要进行杀菌，进而实现节能高效杀菌。根据本专利技术的实施例，所述光杀菌组件包括紫外灯，所述紫外灯被设置为能够照射所述回收槽中的水。由此，可以利用紫外灯直接对回收槽中的水进行杀菌。根据本专利技术的实施例，所述回收槽是由透明材料形成的。由此，可以提高杀菌效率。根据本专利技术的实施例，所述回收槽以及所述清洗槽之间通过水流管路相连，所述水流管路的至少一部分是透明的，所述光杀菌组件被设置为能够照射透明的所述水流管路。由此，可以在水流通过程中进行杀菌，提高杀菌效率。根据本专利技术的实施例，所述基板清洗装置进一步包括泵以及过滤器，所述过滤器设置在所述光杀菌组件以及所述清洗槽之间。由此，可以对杀菌处理之后的水进一步过滤，进一步减轻对基板的污染。根据本专利技术的实施例，所述回收槽包括回收水入口以及二次水出口，所述回收水入口以及所述二次水出口分别通过所述水流管路与所述清洗槽相连，所述清洗槽中的水经所述回收水入口流入所述回收槽中，并经所述二次水出口供给至所述清洗槽中，其中，所述二次水出口以及所述清洗槽之间的所述水流管路的至少一部分是透明的。由此，可以在二次水供给至清洗槽之前实现杀菌，提高杀菌效率。根据本专利技术的实施例，所述回收槽以及所述清洗槽之间具有透明的杀菌储存腔，所述光杀菌组件被设置为能够照射所述杀菌储存腔。由此，可以将回收槽中的水储存在杀菌储存腔中一定的时间，进行较长时间的杀菌，进一步提高杀菌效率。根据本专利技术的实施例，所述杀菌单元进一步包括：反射镜，所述反射镜被设置为能够反射所述光杀菌组件发出的光。反射镜配合光杀菌组件使用，可以实现对细菌的无死角照射。根据本专利技术的实施例，该基板清洗装置进一步包括：第一水流管路，所述第一水流管路设置在所述回收槽以及所述清洗槽之间，所述第一水流管路上具有管路接口以及第一阀，且所述第一阀设置在所述管路接口以及所述清洗槽之间；以及第二水流管路，所述第二水流管路设置在所述回收槽以及所述管路接口之间，所述第二水流管路上具有所述杀菌储存腔以及第二阀，且所述杀菌储存腔设置在所述管路接口以及所述第二阀之间。由此，利用第一阀以及第二阀可以实现对回收槽中水的较长时间的杀菌。根据本专利技术的实施例，该基板清洗装置进一步包括泵以及过滤器，所述泵以及所述过滤器设置在所述第一水流管路上，且所述过滤器设置在所述管路接口以及所述第一阀之间。由此，可以对杀菌处理之后的水进一步过滤，进一步减轻对基板的污染。根据本专利技术的实施例，所述杀菌单元进一步包括第二控制组件，所述第二控制组件被设置为基于所述检测组件的检测结果，控制所述第一阀以及所述第二阀的开关。由此，利用第二控制组件控制第一阀以及第二阀的开闭，实现较长时间的杀菌。在本专利技术的另一方面，本专利技术提出了一种利用前面所述的基板清洗装置清洗基板的方法。根据本专利技术的实施例，该方法包括：利用所述回收槽回收所述清洗槽中的水，利用所述杀菌单元对所述回收槽中的水进行杀菌处理，并将经过所述杀菌处理的水，二次供给至所述清洗槽中。由此，可以对回收槽中的水进行杀菌，减少细菌对基板的污染，提高最终产品的生产良率。根据本专利技术的实施例，所述光杀菌组件被设置为能够照射所述回收槽或被设置为能够照射透明的所述水流管路时，在利用所述杀菌单元进行所述杀菌处理之前，进一步包括：利用所述检测组件检测所述回收槽中水的细菌含量，并将检测结果传输至所述第一控制组件；当所述检测结果高于第一阈值时，所述第一控制组件控制所述光杀菌组件为开启状态；当所述检测结果低于所述第一阈值时，所述第一控制组件控制所述光杀菌组件为关闭状态。通过检测组件以及第一控制组件配合光杀菌组件进行杀菌，可以达到节能高效的效果。根据本专利技术的实施例，所述光杀菌组件被设置为能够照射所述杀菌储存腔时，在利用所述杀菌单元进行所述杀菌处理之前，进一步包括：利用所述检测组件检测所述回收槽中水的细菌含量，并将检测结果传输至所述第一控制组件以及所述第二控制组件；当所述检测结果高于所述第一阈值时，所述第一控制组件控制所述光杀菌组件为开启状态，且所述第二控制组件控制所述第一阀为关闭状态，同时控制所述第二阀为开启状态；当所述检测结果低于所述第一阈值时，所述第一控制组件控制所述光杀菌组件为关闭本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洗装置，其特征在于，包括：/n清洗单元，所述清洗单元包括清洗槽以及回收槽，所述回收槽被设置为能够回收所述清洗槽中的水，并二次供给至所述清洗槽中；以及/n杀菌单元，所述杀菌单元用于对所述回收槽中的水进行杀菌。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】一种基板清洗装置，其特征在于，包括：
清洗单元，所述清洗单元包括清洗槽以及回收槽，所述回收槽被设置为能够回收所述清洗槽中的水，并二次供给至所述清洗槽中；以及
杀菌单元，所述杀菌单元用于对所述回收槽中的水进行杀菌。


根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述杀菌单元包括光杀菌组件。


根据权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于，所述杀菌单元进一步包括检测组件以及第一控制组件，所述检测组件被设置为能够检测所述回收槽中的水的细菌含量，所述第一控制组件被设置为基于所述检测组件的检测结果，控制所述光杀菌组件的开关。


根据权利要求3所述的基板清洗装置，其特征在于，所述检测组件包括：
检测元件，所述检测元件与所述回收槽相连，用于检测所述回收槽中的水的细菌含量；以及
数据分析元件，所述数据分析元件分别与所述检测元件以及所述第一控制组件相连，用于基于所述检测元件的检测结果，判断所述第一控制组件控制所述光杀菌组件开关的状态。


根据权利要求4所述的基板清洗装置，其特征在于，所述光杀菌组件包括紫外灯，所述紫外灯被设置为能够照射所述回收槽中的水。


根据权利要求5所述的基板清洗装置，其特征在于，所述回收槽是由透明材料形成的。


根据权利要求4所述的基板清洗装置，其特征在于，所述回收槽以及所述清洗槽之间通过水流管路相连，所述水流管路的至少一部分是透明的，所述光杀菌组件被设置为能够照射透明的所述水流管路。


根据权利要求7所述的基板清洗装置，其特征在于，进一步包括泵以及过滤器，所述过滤器设置在所述光杀菌组件以及所述清洗槽之间。


根据权利要求7所述的基板清洗装置，其特征在于，所述回收槽包括回收水入口以及二次水出口，所述回收水入口以及所述二次水出口分别通过所述水流管路与所述清洗槽相连，所述清洗槽中的水经所述回收水入口流入所述回收槽中，并经所述二次水出口供给至所述清洗槽中，
其中，所述二次水出口以及所述清洗槽之间的所述水流管路的至少一部分是透

明的。


根据权利要求4所述的基板清洗装置，其特征在于，所述回收槽以及所述清洗槽之间具有透明的杀菌储存腔，所述光杀菌组件被设置为能够照射所述杀菌储存腔。


根据权利要求6-10任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，所述杀菌单元进一步包括：反射镜，所述反射镜被设置...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐顺龙，谢忠伟，
申请(专利权)人：深圳市柔宇科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44