成形模清洁装置及方法、树脂成形装置以及树脂成形品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种即便在已使成形模升温至可进行树脂成形的温度的状态下，也可以抑制由热所产生的影响并使用的成形模清洁装置及方法、树脂成形装置及树脂成形品制造方法。成形模清洁装置为去除附着在构成成形模的上模及与上模相向的下模的至少任一者的表面上的附着物的装置，包括：激光光源，设置在上模与下模之间的空间外，射出激光束；激光束反射机构，具有反射镜、及使反射镜在所述空间中的第一位置与所述空间外的第二位置之间移动的XY平台，以当反射镜位于第一位置上时由反射镜反射的激光束照射至上模或下模的表面上的方式，设定反射镜的方向；以及激光束移动部，设置在所述空间外，使激光束相对于位于第一位置上时的反射镜移动。

Cleaning device and method of forming die, resin forming device and manufacturing method of resin forming products

【技术实现步骤摘要】
成形模清洁装置及方法、树脂成形装置以及树脂成形品制造方法
本专利技术涉及一种成形模清洁装置及方法、树脂成形装置、以及树脂成形品制造方法。
技术介绍
若在树脂成形装置中使用成形模进行树脂成形，则在取出成形品后树脂也略微附着在成形模的表面上而残留，在利用相同的成形模重复进行树脂成形的期间内附着物逐渐地增加。若在此种附着物已附着在成形模的表面上的状态下进行树脂成形，则存在附着物的形状被转印至树脂成形品上的可能性。因此，定期地进行暂时停止树脂成形品的制造，去除成形模的附着物的清洁。在专利文献1中记载有如下的装置：在构成成形模的上模与下模之间的空间内配置激光光源，一边使激光光源沿着下模的上表面(或上模的下表面)移动一边对下模(上模)照射激光束，由此进行将附着物从下模(上模)上剥离的处理。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2008-149705号公报
技术实现思路
[专利技术所要解决的问题]在树脂成形时，为了使树脂熔融等，必须使成形模升温至例如180℃左右的温度。在专利文献1中记载的装置中，若在已使成形模升温的状态下进行清洁，则由于将激光光源或使其移动的移动装置配置在成形模的附近(例如上模与下模的中间)来使用，因此存在因配置所述激光光源或移动装置的空间的热、或来自成形模的辐射热等热，而产生激光的照射位置等的精度恶化等不良情况的担忧。若为了避免此种不良情况而在将成形模暂时冷却后进行清洁，则存在如下的担忧：产生包含清洁后为了树脂成形而再次使成形模升温并达到稳定的温度为止的时间在内的等待时间，在树脂成形步骤中的产距时间(takttime)延长，树脂成形品的制造效率下降。本专利技术欲解决的问题在于提供一种即便在已使成形模升温至可进行树脂成形的温度的状态下，也可以抑制由热所产生的影响并使用的成形模清洁装置及方法、树脂成形装置、以及树脂成形品制造方法。[解决问题的技术手段]本专利技术的成形模清洁装置是去除附着在构成成形模的第一模及与该第一模相向的第二模的至少任一者的表面上的附着物的装置，包括：a)激光光源，设置在所述第一模与所述第二模之间的空间外，射出所述激光束；b)激光束反射机构，具有反射镜及反射镜移动机构，所述反射镜移动机构使该反射镜在所述空间中的第一位置与所述空间外的第二位置之间移动，所述激光束反射机构以当该反射镜位于所述第一位置上时由该反射镜反射的激光束照射至所述第一模或所述第二模的表面上的方式，设定该反射镜的方向；以及c)激光束移动机构，设置在所述空间外，使所述激光束相对于位于所述第一位置上时的所述反射镜移动。本专利技术的成形模清洁方法是去除附着在构成成形模的第一模及与该第一模相向的第二模的至少任一者的表面上的附着物的方法，其中：在所述第一模与所述第二模之间的空间中配置反射镜，从设置在所述空间外的激光光源射出激光束，并一边通过设置在所述空间外的激光束移动机构来使该激光束相对于所述反射镜移动，一边将该激光束照射至所述反射镜上，且将由所述反射镜所反射的所述激光束照射至所述第一模或所述第二模上。本专利技术的树脂成形装置包括：所述成形模、及所述成形模清洁装置。本专利技术的树脂成形品制造方法：在实施所述成形模清洁方法后，使用所述成形模制造树脂成形品。[专利技术的效果]根据本专利技术，即便在已使成形模升温至可进行树脂成形的温度的状态下，也可以抑制由热所产生的影响并使用。附图说明图1(a)、图1(b)、图1(c)、图1(d)及图1(e)分别是对清洁后尚未进行树脂成形的成形模，以及清洁后分别进行了200次、400次、600次及800次树脂成形后的成形模拍摄表面所得的电子显微镜照片。图2是表示本专利技术的成形模清洁装置及具有其的树脂成形装置的一实施方式的概略结构图。图3是本实施方式的树脂成形装置中的成形模及其附近的放大图。图4(a)及图4(b)分别是表示利用激光束移动部使激光束移动的情况的平面图及侧面图。图5是本实施方式的成形模清洁装置中的反射镜及其附属部的立体及部分剖面图。图6(a)是反射镜的附属部的部分剖面放大图，且为表示一侧的转动轴体附近的图、图6(b)是表示另一侧的转动轴体附近的图、以及图6(c)是表示另一侧的转动轴体与图6(b)的情况相比已朝反射镜的相反侧移动的状态的图。图7(a)是表示利用轴已将握持反射镜的一对握持工具连接的状态的图、及图7(b)是表示一侧的握持工具与图7(a)的情况相比已朝反射镜的相反侧移动的状态的图。图8(a)及图8(b)分别是表示本实施方式的成形模清洁装置位于使用位置及待机位置上的状态的概略图。图9是表示利用在Y方向上延长的连结棒已将激光光源及激光束移动部与反射镜连结的结构的图。图10是表示使用X方向的宽度比X方向上的激光束的照射范围大的反射镜的例子的图。图11(a)是本实施方式的树脂成形装置中的树脂成形时的动作，且为表示将引线框架载置在下模上且已将树脂材料供给至下模的料筒中的状态的图、及图11(b)是表示将成形模合模并已将树脂材料供给至模腔中的状态的图。图12是表示脉冲激光束的光点呈锯齿状地移动的情况的图。图13是表示下模或上模的表面上的激光束的轨跡(细实线)、及通过激光束进行一次锯齿形移动而被照射激光束的区域的边界(粗虚线)的图。图14(a)是表示通过对成形模照射脉冲激光束而在成形模的表面附近生成等离子体的状态的概略图，及图14(b)是通过对等离子体重复照射脉冲激光束来对等离子体进行加热，且附着物气化的状态的概略图。图15(a)及图15(b)分别是表示使用遮蔽部的例子的俯视图及纵剖面图。图16(a)是表示作为下模或上模的表面上的激光束的轨跡的另一例的在照射区域内重复进行单程移动的例、及图16(b)是在下模或上模的整个表面上呈锯齿状地移动的例的图。图17是表示使反射镜在X方向上移动的X方向移动机构的例子的概略图。图18是表示本专利技术的成形模清洁装置的另一实施方式的平面图。图19(a-1)及图19(a-2)分别是表示本专利技术的成形模清洁装置的又一实施方式的图，且为表示使用第一反射镜的状态的平面图及侧面图、以及图19(b)是表示使用第二反射镜的状态的平面图。图20是表示包含成形组件等多个组件的树脂成形单元的一例的概略结构图。图21是表示在树脂成形单元中已将成形模清洁装置搬入一个成形组件中的状态的概略结构图。图22是表示包含多个组件的树脂成形单元的另一例的概略结构图。图23(a)及图23(b)分别表示剖面为圆形的激光束的光点及该光点移动的情况、以及图23(c)及图23(d)分别表示剖面为圆环状的激光束的光点及该光点移动的情况。[符号的说明]1：树脂成形装置10、10A、10B：成形模清洁装置11：激光光源112：底座12：激光束移动部121：振镜本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成形模清洁装置，为去除附着在构成成形模的第一模及与所述第一模相向的第二模的至少任一者的表面上的附着物的装置，其特征在于，包括：/n激光光源，设置在所述第一模与所述第二模之间的空间外，射出激光束；/n激光束反射机构，具有反射镜及反射镜移动机构，所述反射镜移动机构使所述反射镜在所述空间中的第一位置与所述空间外的第二位置之间移动，所述激光束反射机构以当所述反射镜位于所述第一位置上时由所述反射镜反射的所述激光束照射至所述第一模或所述第二模的表面上的方式，设定所述反射镜的方向；以及/n激光束移动机构，设置在所述空间外，使所述激光束相对于位于所述第一位置上时的所述反射镜移动。/n

【技术特征摘要】
20180710 JP 2018-1304981.一种成形模清洁装置，为去除附着在构成成形模的第一模及与所述第一模相向的第二模的至少任一者的表面上的附着物的装置，其特征在于，包括：
激光光源，设置在所述第一模与所述第二模之间的空间外，射出激光束；
激光束反射机构，具有反射镜及反射镜移动机构，所述反射镜移动机构使所述反射镜在所述空间中的第一位置与所述空间外的第二位置之间移动，所述激光束反射机构以当所述反射镜位于所述第一位置上时由所述反射镜反射的所述激光束照射至所述第一模或所述第二模的表面上的方式，设定所述反射镜的方向；以及
激光束移动机构，设置在所述空间外，使所述激光束相对于位于所述第一位置上时的所述反射镜移动。


2.根据权利要求1所述的成形模清洁装置，其特征在于，
所述激光束移动机构是振镜扫描头。


3.根据权利要求1或2所述的成形模清洁装置，其特征在于，
所述激光束反射机构还具有变更所述反射镜的方向的反射方向变更机构。


4.根据权利要求1或2所述的成形模清洁装置，其特征在于，
所述反射镜包含方向互不相同的第一反射镜与第二反射镜，所述激光束反射机构还包括对被照射所述激光束的反射镜进行切换的镜切换机构。


5.根据权利要求1或2所述的成形模清洁装置，其特征在于，还包括：
一对第一转动轴体及第二转动轴体，与所述反射镜的两侧部连接；以及
转动轴体保持工具，在轴方向上可动地保持所述第一转动轴体及所述第二转动轴体的至少一者。


6.根据权利要求1或2所述的成形模清洁装置，为去除附着在对表面的至少一部分施加了涂层的所述成形模上的附着物的装置，其特征在于，
所述激光光源及所述激光束移动机构是以如下的照射强度将激光束照射至所述成形模上者，所述照射强度是在所述附着物上生成了等离子体后能够将所述等离子体加热至所述附着物气化的温度以上的温度的照射强度，且为比对所述涂层造成损伤的照射强度低的照射强度。


7.根据权利要求1或2所述的成形模清洁装置，其特征在于，
所述激光束移动机构是如下的机构：
使所述激光束相对于所述成形模在第一方向上往返移动，并且
每当使所述激光束...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈本纯，
申请(专利权)人：东和株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP