分光光度计制造技术

本发明专利技术提供一种分光光度计，不必在分光光度计的内部设置较大的空间，能够向被测量位置照射观察光，并且能够容易地知道被测量位置。在分光光度计中，在与被测量位置光学上共轭的位置配置狭缝。来自被测量物体的光通过狭缝，在测量光路上行进，通过波长色散元件进行波长色散。在测量光谱时，使观察光源向测量光路外退避。在观察被测量位置时，观察光源插入测量光路内，向狭缝发出观察光。或者，来自被测量物体的光通过狭缝，通过衍射光栅进行衍射。观察光源配置在0阶光的光路上。在观察被测量位置时，观察光源向衍射光栅发出观察光。

Spectrophotometer

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】分光光度计
本专利技术涉及分光光度计。
技术介绍
在测量光谱的分光光度计的被测量范围很小的情况下，即使在被测量位置与目标位置只是稍微偏离时，被测量的光谱与来自目标位置的光的光谱有时也存在很大的变化。因此，在分光光度计的被测量范围很小的情况下，希望在测量前能够观察被测量位置，在测量前能够使被测量位置与目标位置吻合。专利文献1所述的技术是在分光器中能够实现上述愿望的技术的例子。在专利文献1所述的技术中，在注入观察光的情况下，遮光器为关闭状态。另外，LED向遮光器照射观察光，遮光器将照射的观察光向物镜反射，物镜使反射光在被测量物体的表面成像。测量部位根据在被测量物体的表面成像的光的位置进行指定。另外，在进行测量的情况下，遮光器被打开，通过了狭缝镜(スリットミラー)的光被引导向受光部(第0027-0031段)。现有技术文献专利文献专利文献1：(日本)特开2009-288150号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题在专利文献1记载的技术所代表的现有技术中，为了将用于向测量位置照本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种分光光度计，具有：/n受光光学系统，其使来自被测量位置的被测量光成像，生成成像的被测量光；/n狭缝形成体，其形成狭缝，所述狭缝配置在与所述被测量位置在光学上共轭的位置，使所述成像的被测量光通过，生成在测量光路上行进的被测量光；/n波长色散元件，其对在所述测量光路上行进的被测量光进行波长色散，生成进行了波长色散的被测量光；/n传感器，其接受进行了所述波长色散的被测量光，输出表示光谱的信号；/n观察光源，其在观察所述被测量位置时发出观察光；/n插拔机构，其在观察所述被测量位置时向所述测量光路内插入所述观察光源以朝向所述狭缝发出所述观察光，并且在测量所述光谱时使所述观察光源向所述测量光路外退...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170601 JP 2017-1091771.一种分光光度计，具有：
受光光学系统，其使来自被测量位置的被测量光成像，生成成像的被测量光；
狭缝形成体，其形成狭缝，所述狭缝配置在与所述被测量位置在光学上共轭的位置，使所述成像的被测量光通过，生成在测量光路上行进的被测量光；
波长色散元件，其对在所述测量光路上行进的被测量光进行波长色散，生成进行了波长色散的被测量光；
传感器，其接受进行了所述波长色散的被测量光，输出表示光谱的信号；
观察光源，其在观察所述被测量位置时发出观察光；
插拔机构，其在观察所述被测量位置时向所述测量光路内插入所述观察光源以朝向所述狭缝发出所述观察光，并且在测量所述光谱时使所述观察光源向所述测量光路外退避。


2.一种分光光度计，具有：
受光光学系统，其使来自被测量位置的被测量光成像，生成成像的被测量光；
狭缝形成体，其形成狭缝，所述狭缝使所述成像的被测量光通过，生成在测量光路上行进的被测量光；
衍射光栅，其对在所述测量光路上行进的被测量光进行衍射，生成衍射光；
传感器，其接受所述衍射光，并且输出表示光谱的信号；
观察光源，其配置在所述衍射光之内、0阶光的光路上，...

【专利技术属性】
技术研发人员：川崎贵志，藤井秀彦，鹤谷克敏，
申请(专利权)人：柯尼卡美能达株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP