设定点发生器、光刻设备、光刻设备操作方法、以及器件制造方法技术

本发明专利技术涉及一种设定点发生器，用于移动光刻设备的图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以形成图案化的辐射束，其中所述设定点发生器包括用于所述图案形成装置的有限数目种移动轮廓，并且其中所述设定点发生器配置成基于期望的移动轮廓选择所述有限数目种移动轮廓中的一种并输出选择的移动轮廓作为用于所述图案形成装置的设定点。

Set point generator, lithography equipment, operation method of lithography equipment, and device manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】设定点发生器、光刻设备、光刻设备操作方法、以及器件制造方法相关申请的交叉引用本申请要求于2017年5月23日提交的欧洲申请17172452.9的优先权，所述申请通过引用其全部内容并入本文。专利技术背景
本专利技术涉及一种用于移动光刻设备的图案形成装置的设定点发生器、一种包括这样的设定点发生器的光刻设备、一种用于操作这样的光刻设备的方法和一种器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是一种将期望的图案施加到衬底(通常是在衬底的目标部分上)上的机器。光刻设备可以例如用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成要在IC的单个层上形成的电路图案。可以将所述图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或几个管芯)上。典型地，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。常规的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器，在步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐射每个目标部分；在扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案，同时沿与所述方向平行或反向平行的方向同步扫描衬底来辐射每个目标部分。还可以通过将图案印制到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底上。在光刻设备中，图案形成装置可以被对辐射透明的层保护，所述辐射被用于将图案成像到目标部分上。所述层可以被实施为保持距图案形成装置一短距离的隔膜。这样的隔膜也被称为“表膜”。透明层允许辐射束在传输通过所述透明层的同时为图案形成装置提供对损害、污染等的某种保护。在实施例中，表膜是薄的、透明的膜，其在图案形成装置面向投影系统的一侧通过框架附接到图案形成装置。所述表膜及其框架保持表膜与图案形成装置之间的空间没有灰尘和其它外来粒子或杂质粒子。以这种方式，靠近图案形成装置的任何粒子都保持远离物体平面并因此将失焦或成像不清晰以减少或防止成像缺陷。透明层可以被设置在图案形成装置面向投影系统的一侧并沿所述侧延伸。光刻设备的一些部件可以在光刻设备的操作期间执行移动。例如，保持衬底的衬底台和支撑图案形成装置的支撑件可以执行扫描移动。由此所述支撑件可以被移动以遵循衬底台的移动，从而将图案的各个部分从图案形成装置投影到衬底上。由于支撑件的移动，透明层可以经受可以引起透明层变形的力，诸如加速力/减速力、穿过透明层的气流等。由于透明层的变形，可能影响图案从图案形成装置到衬底上的投影，从而引起可能导致重叠误差的不准确性。已公布的专利公开出版物WO2016/169727A1(其由此通过引用其全部内容并入本文)公开了一种光刻设备，包括透明层变形确定装置和补偿器装置，所述变形确定装置用于确定透明层的变形轮廓，透明层的变形轮廓表示在光刻设备的扫描移动期间透明层的变形，所述补偿器装置配置成响应于透明层的变形轮廓来控制投影系统、衬底台和支撑件中的至少一个，以在设备的扫描移动期间补偿透明层的变形。在实践中，透明层的变形不同于衬底内目标部分间的变形，使得所述补偿非常困难，因为它要求在补偿方案和/一批次的校准中有更多的自由度。即使当这是可行的，这也将增加诱发的控制噪声。另外，当使用目标部分的不同场尺寸时，补偿方案需要能够应付每个可能的场尺寸。
技术实现思路
期望提供图案到衬底上的准确的投影。根据本专利技术的实施例，提供了一种用于移动光刻设备的图案形成装置的设定点发生器，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以形成图案化的辐射束，其中所述设定点发生器包括用于图案形成装置的有限数目种移动轮廓，并且其中设定点发生器配置成基于期望的移动轮廓选择所述有限数目种移动轮廓中的一种，并且设定点发生器配置成输出所选择的移动轮廓作为图案形成装置的设定点。根据本专利技术的另一实施例，提供了一种光刻设备，包括：-支撑件，所述支撑件构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以形成图案化的辐射束；-衬底台，所述衬底台构造成保持衬底；-投影系统，所述投影系统配置成将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；-致动系统，所述致动系统包括：-致动器装置，所述致动器装置配置成移动所述支撑件；和-控制单元，所述控制单元包括根据本专利技术的设定点发生器和移动轮廓确定器，其中所述移动轮廓确定器配置成确定用于目标部分的图案形成装置的期望的移动轮廓，并配置成向所述设定点发生器提供所述期望的移动轮廓，并且其中所述控制单元配置成基于来自所述设定点发生器的输出驱动所述致动器。根据本专利技术的又一实施例，提供了一种根据本专利技术操作光刻设备的方法，其中所述方法包括：a.根据有限数目种移动轮廓中的一种移动所述图案形成装置，其中透明层耦接到所述图案形成装置；b.移动衬底；c.将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；d.确定表示在所述光刻设备的扫描移动期间所述透明层的变形轮廓的量；和e.对所述有限数目种移动轮廓中的每一种重复步骤a.到d.。根据本专利技术的另外的实施例，提供了一种器件制造方法，其中使用了根据本专利技术的光刻设备。附图说明现在将参考所附示意性附图、仅通过举例方式来描述本专利技术的实施例，在附图中相应的附图标记表示指示相应的部件，并且在附图中：-图1描绘了根据本专利技术的实施例的光刻设备；-图2示意性地描绘了图1的光刻设备的一部分；-图3A和图3B描绘了扫描移动和变形轮廓的图解表示；-图4描绘了用于测量变形轮廓的传感器；-图5描绘了高度示意性的透明层变形确定装置的示意性框图；-图6描绘了另一高度示意性的透明层变形确定装置的示意性框图；-图7描绘了衬底上的图案在所述光刻设备的扫描移动期间投影时的序列；-图8描绘了又一高度示意性的透明层变形确定装置的示意性框图；-图9描绘了具有多个目标部分的衬底的一部分；-图10A描绘了由现有技术的光刻设备在图9的衬底上进行的非曝光操作和曝光操作的现有技术的序列；和-图10B描绘了由根据本专利技术的实施例的光刻设备在图9的衬底上进行的非曝光操作和曝光操作的序列。具体实施方式图1示意性地描绘了根据本专利技术的一个实施例的光刻设备。所述设备包括∶-照射系统(照射器)IL，所述照射系统配置成调节辐射束B(例如UV辐射或EUV辐射)。-支撑结构(例如掩模台)MT，所述支撑结构构造成支撑图案形成装置(例如掩模)MA并连接到第一定位器PM，所述第一定位器配置成根据某些参数准确地定位图案形成装置；-衬底台(例如，晶片台)WTa或WTb，所述衬底台构造成保持衬底(例如，涂覆有抗蚀剂的晶片)W并且连接到第二定位器PW，所述第二定位器配置成根据某些参数准确地定位所述衬底；和-投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，所述投影系统配置成将由图案形成装置MA本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种设定点发生器，用于移动光刻设备的图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以形成图案化的辐射束，其中所述设定点发生器包括用于所述图案形成装置的有限数目种移动轮廓，并且其中所述设定点发生器配置成基于期望的移动轮廓选择所述有限数目种移动轮廓中的一种并输出选择的移动轮廓作为用于所述图案形成装置的设定点。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170523 EP 17172452.91.一种设定点发生器，用于移动光刻设备的图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以形成图案化的辐射束，其中所述设定点发生器包括用于所述图案形成装置的有限数目种移动轮廓，并且其中所述设定点发生器配置成基于期望的移动轮廓选择所述有限数目种移动轮廓中的一种并输出选择的移动轮廓作为用于所述图案形成装置的设定点。


2.根据权利要求1所述的设定点发生器，其中，所述光刻设备布置成将所述图案化的辐射束投影到衬底上的多个目标部分上，其中所述设定点发生器配置成选择一组至少一种移动，并且其中所述设定点发生器配置成从所述组为所述多个目标部分中的每一个选择一种移动轮廓。


3.根据权利要求2所述的设定点发生器，其中，所述有限数目种移动轮廓每一种都包括用于在用所述图案化的辐射束曝光所述多个目标部分中的一个期间移动所述图案形成装置的曝光部分，其中至少一种移动轮廓的所述组包括至少两种移动轮廓，并且其中在所述组中所述移动轮廓的所述曝光部分在所述图案形成装置的移动速率方面是相同的。


4.根据权利要求2或3所述的设定点发生器，其中，至少一种移动轮廓的所述组包括至少两种移动轮廓，并且其中在所述组中所述移动轮廓的所述曝光部分的持续时间是相同的。


5.根据权利要求2-4中任一项所述的设定点发生器，其中，至少一种移动轮廓的所述组包括至少两种移动轮廓，并且其中移动轮廓的所述组每个都包括紧随所述曝光部分的预曝光部分，并且其中在所述组中所述移动轮廓的所述预曝光部分是相同的。


6.根据权利要求1-5中任一项所述的设定点发生器，其中所述期望的移动轮廓具有期望的移动持续时间，其中所选择的移动轮廓具有比所述期望的移动持续时间长的移动持续时间。


7.一种光刻设备，包括：
-支撑件，所述支撑件构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以形成图案化的辐射束；
-衬底台，所述衬底台构造成保持衬底；
-投影系统，所述投影系统配置成将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；
-致动系统，所述致动系统包括：
-致动器装置，所述致动器装...

【专利技术属性】
技术研发人员：让菲利普·泽维尔·范达默，L·J·A·凡鲍克霍文，P·F·范吉欧斯，G·彼得斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL