极紫外光辐射源装置制造方法及图纸

一种极紫外光辐射源装置包含收集器镜、为产生锡滴的靶材滴产生器、可旋转残屑收集元件、为产生感应耦合电浆的一或多个线圈、为提供用于感应耦合电浆的来源气体的气体入口、以及至少包围收集器镜与可旋转残屑收集元件的腔室。配置气体入口与前述一或多个线圈以致感应耦合电浆与收集器镜间隔设置。

Extreme ultraviolet radiation source device

【技术实现步骤摘要】
极紫外光辐射源装置
本揭露实施例关于一种辐射源装置，特别关于一种极紫外光辐射源装置。
技术介绍
本揭露关于用于半导体制程的图案形成方法、以及用于微影的装置。半导体集成电路产业已经历指数成长。在集成电路材料与设计上的技术进展已产生许多集成电路世代，其中各世代具有比前一世代更小且更复杂的电路。在集成电路进化的过程中，当几何尺寸(即可用制程创造的最小部件(或线))减少，功能密度(即每一晶片面积的互连元件的数量)通常就增加。这种按比例缩小的程序通常透过增加生产效率及降低相关成本来提供益处。此按比例缩小也已经增加处理及制造集成电路的复杂度。举例来说，执行更高解析度微影制程的需求成长。一种微影技术是极紫外光微影(extremeultravioletlithography，EUVL)。极紫外光微影采用其使用光线在极紫外光区内的扫描机，光线具有大约1-100nm的波长。一些极紫外光扫描机提供4x缩小投影列印，这与一些光学扫描机相似，除了极紫外光扫描机使用反射而不是折射光学，也就是使用镜子而非透镜。极紫外光光源的一种型式为激光产生电浆(laser-producedplasma，LPP)。激光产生电浆技术通过将高能量激光光束聚焦在小锡滴靶材上以形成高度离子化电浆来产生极紫外光光线，其中高度离子化电浆射出具有最大发射峰值为13.5nm的极紫外光辐射。接着，通过激光产生电浆收集器镜收集极紫外光光线，并通过光学使其朝微影目标反射，微影目标例如为晶圆。激光产生电浆收集器镜由于粒子、离子、辐射的撞击以及最严重的锡沉积而遭受损坏与劣化。
技术实现思路
依据本揭露的一方面，一种极紫外光辐射源装置的特征在于包含收集器镜、为产生锡滴的靶材滴产生器、可旋转残屑收集元件、为产生感应耦合电浆的一或多个线圈、为提供用于感应耦合电浆的来源气体的气体入口、以及至少包围收集器镜与可旋转残屑收集元件的腔室。配置气体入口与前述一或多个线圈以致感应耦合电浆与收集器镜间隔设置。附图说明本揭露由以下参照所附附图所做的详细说明可得最佳理解。需强调的是，依照业界的标准实务，多种特征并非按比例绘制且仅用于举例说明目的。事实上，多个特征的尺寸可任意增加或减少以使讨论清楚。图1是依据本揭露一些实施例所建构的具有激光产生电浆极紫外光辐射源的极紫外光微影系统的示意图；图2A是依据本揭露一些实施例的用于极紫外光辐射源的残屑收集机构的前视示意图；图2B是依据本揭露一些实施例的用于极紫外光辐射源的残屑收集机构的侧视示意图；图2C是依据本揭露一些实施例的用于极紫外光辐射源的叶片的局部图片；图3是依据本揭露一实施例的极紫外光辐射源的示意图；图4是依据本揭露一实施例的极紫外光辐射源的示意图；图5是依据本揭露一实施例的极紫外光辐射源的示意图；图6是依据本揭露一实施例的极紫外光辐射源的示意图；图7是依据本揭露一实施例的极紫外光辐射源的示意图。【符号说明】100：极紫外光辐射源/极紫外光辐射源装置10A、10B：射频电源105：腔室110：收集器镜115：靶材滴产生器120：滴捕抓器130：第一缓冲气体供应135：第二缓冲气体供应140、22：气体出口15A、15B：线圈150：残屑收集机构151：截头圆锥形支持架152：叶片153：第一端支持154：第二端支持155：下游圆锥体160：出口端口200：曝光机台20、21：气体入口300：激发激光源/激发激光源装置310：激光产生器320：激光导引光学330：聚焦装置A1：光学轴BF：基层DP：靶材滴DP1、DP2：阻尼器EUV：极紫外光辐射LR1：激光LR2：激发激光MF：主层PL：电浆PP1、PP2：基座板ZE：激发区具体实施方式以下揭露提供许多不同的实施例或例子以实施所给标的的不同特征。部件及配置的具体例子描述如下以简明本叙述。当然，这些仅是例子而非作为限制。举例来说，在描述中，第一特征形成于第二特征上或之上可包含第一特征与第二特征以直接接触形成的实施例，亦可包含额外特征形成于第一及第二特征之间的实施例，使得第一特征与第二特征可非直接接触。此外，本揭露可在多个例子中重复参考符号及/或字母。此重复是为了简明目的，而非在本质上规定多个讨论的实施例及/或配置之间的关系。此外，可在此使用空间关系的用语，例如“在…之下(beneath)”、“在…下面(below)”、“较低(lower)”、“在…上面(above)”、“较高(upper)”、或之类的用语，来简明描述以描述如附图所绘示的一元件或特征与另一(另一些)元件或特征的关系。空间关系的用语，除了附图所描绘的定向之外，亦用以包含元件在使用或操作中的不同的定向。装置/元件可另外定向(旋转90度或其他定向)，因此在此使用的空间关系叙述可同样地照此解释。此外，用语“由…制成(madeof)”可指“包含”或“由…组成”。本揭露总体上来说是关于极紫外光微影系统与方法。更特别来说，它是关于减少激光产生电浆的极紫外光辐射源中的收集器镜上的污染的装置与方法。收集器镜，亦称为激光产生电浆收集器镜或极紫外光收集器镜，是激光产生电浆的极紫外光辐射源的重要部件。它收集并反射极紫外光辐射且有助于整个极紫外光转换效率。然而，它由于粒子、离子、辐射的撞击以及残屑沉积而遭受损坏与恶化。特别来说，锡残屑是极紫外光收集器镜的其中一个污染源。极紫外光收集器镜的生命期，即反射率衰减至其本身的一半的持续时间，是极紫外光扫描机的其中一个最重要因子。收集器镜衰减的主要原因是在极紫外光线产生程序所必然造成的收集器镜表面上的残余金属污染(锡残屑)。本揭露其中一目的是针对减少残屑沉积在激光产生电浆收集器镜上，借此增加其可使用的生命期。更具体来说，本揭露是针对通过使用氯基的电浆清洁而自消灭在极紫外光收集器镜上的金属涂层与堆积。本揭露的技术使收集器镜维持在所需状态一段较长时间，借此降低更换收集器镜的频率。换言之，极紫外光扫描机将维持最高的曝光能量与生产量，并且需要较低频率的维护，借此减少更换收集器镜所需为时一周的停机时间。图1为极紫外光微影系统的示意与概略图。极紫外光微影系统包含用以产生极紫外光光线的极紫外光辐射源装置100、例如扫描机的曝光机台200以及激发激光源装置300。如图1所示，在一些实施例中，极紫外光辐射源装置100与曝光机台200安装在无尘室的主层MF上，而激发激光源装置300安装在主层下方的基层BF中。极紫外光辐射源装置100与曝光机台200分别经由阻尼器DP1与DP2安置在基座板PP1与PP2之上。极紫外光辐射源装置100与曝光机台200通过耦合机构相互耦合，耦合机构可包含聚焦单元。微影系统为一种极紫外光微影系统本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种极紫外光辐射源装置，其特征在于，该极紫外光辐射源装置包含：/n一收集器镜；/n一靶材滴产生器，用以产生一锡滴；/n一可旋转残屑收集元件；/n一或多个线圈，用以产生一感应耦合电浆；/n一气体入口，用以提供用于该感应耦合电浆的一来源气体；以及/n一腔室，至少包围该收集器镜与该可旋转残屑收集元件，/n其中配置该气体入口与该或该些线圈以致该感应耦合电浆与该收集器镜间隔设置。/n

【技术特征摘要】
20180629 US 62/692,211;20190410 US 16/380,4231.一种极紫外光辐射源装置，其特征在于，该极紫外光辐射源装置包含：
一收集器镜；
一靶材滴产生器，用...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏彦硕，张俊霖，张汉龙，陈立锐，郑博中，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71