致动器、线性马达和光刻设备制造技术

一种致动器，包括线圈、第一冷却板和第二冷却板。所述冷却板被配置为冷却所述线圈。第一冷却板和第二冷却板被布置在线圈的相对侧以与线圈热接触。所述线圈包括第一线圈部分和第二线圈部分，所述第一线圈部分面向所述第一冷却板，所述第二线圈部分面向所述第二冷却板，所述第一线圈部分和所述第二线圈部分被它们之间的间隔分开。所述第一冷却板、所述第一线圈部分、所述间隔、所述第二线圈部分和所述第二冷却板形成叠置结构，其中线圈部分被布置在冷却板之间，并且所述间隔被布置在所述线圈部分之间。所述致动器还包括布置在间隔中的填充元件。填充元件将第一线圈部分推向第一冷却板并且将第二线圈部分推向第二冷却板。

Actuators, linear motors and lithography equipment

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】致动器、线性马达和光刻设备相关申请的交叉引用本申请要求于2017年5月26日提交的欧洲申请17173011.2的优先权，该欧洲申请的全部内容以引用的方式并入本文中。
本专利技术涉及致动器、包括这种致动器的线性马达以及包括这种致动器的光刻设备。
技术介绍
光刻设备是一种将期望的图案施加到衬底上(通常在衬底的目标部分上)的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可替代地被称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于IC的单层上的电路图案。可以将该图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或几个管芯)上。通常，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器，其中通过将整个图案一次性地曝光到目标部分上来辐照每个目标部分，以及包括所谓的扫描器，其中通过利用在给定方向(“扫描”方向)上的辐射束扫描该图案来辐照每个目标部分的同时，同步地扫描与该方向平行或反向平行的衬底。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底。在光刻设备中，可以使用致动器，例如线性马达形式的致动器，以将力施加在可移动部件上，例如用于保持衬底的衬底台或用于保持图案形成装置的支撑件。致动器包括线圈，以在由电流供电时产生磁场。在光刻设备中，以及在其他应用中，可能期望高磁场，例如使得能够用以产生高的致动器力。高的力可使致动器能够容易产生高的加速度水平。当线圈中的高电流水平增加了线圈中的电耗散时，可以例如在线圈的两侧布置冷却板。冷却板可将热从线圈传导走，从而降低线圈的温度。由于线圈是通过缠绕形成的，因此线圈的整体尺寸可能会显示一定程度的公差。致动器的总尺寸可以被设置为高准确度水平，因为可能需要致动器在例如准确地限定的空间中操作，例如在构成马达一部分的永磁体之间的间隙中。因此，致动器的总尺寸的容许公差可小于线圈的尺寸的公差。结果，线圈和冷却板之间的距离可能遭受相对大的公差。线圈和冷却板之间的距离的公差导致诸如灌封材料之类的中间结构的厚度波动，因此导致线圈和冷却板之间的热阻的相对大的公差。假设向线圈施加某一电流，在线圈和冷却板之间产生的传热差异可能会导致线圈温度的公差带。当产生的热还导致线圈电阻增加时，这种影响甚至会变得更糟，其可能在过热时会导致故障。因此，应基于热阻情境的最坏情况来保持安全裕度，以避免线圈过热。
技术实现思路
期望改进致动器的热性能。根据本专利技术的一方面，提供了一种致动器，所述致动器包括：线圈；第一冷却板和第二冷却板，所述第一冷却板和所述第二冷却板被配置为冷却所述线圈，所述第一冷却板和所述第二冷却板被布置在所述线圈的相对侧以与所述线圈热接触；其中，所述线圈包括第一线圈部分和第二线圈部分，所述第一线圈部分面向所述第一冷却板，所述第二线圈部分面向所述第二冷却板，所述第一线圈部分和所述第二线圈部分被它们之间的间隔分开；其中，所述第一冷却板、所述第一线圈部分、所述间隔、所述第二线圈部分和所述第二冷却板形成叠置结构，其中线圈部分被布置在冷却板之间，并且所述间隔被布置在所述线圈部分之间；以及其中，所述致动器还包括布置在所述间隔中的填充元件，所述填充元件将所述第一线圈部分推向所述第一冷却板，并将所述第二线圈部分推向所述第二冷却板。根据本专利技术的一方面，提供了一种包括这种致动器的线性马达。根据本专利技术的一方面，提供了一种包括这种致动器的光刻设备。附图说明现在将参考所附示意性附图、仅以举例的方式来描述本专利技术的实施例，在附图中对应的附图标记指示对应部件，且在所述附图中：图1示出了其中可以在其中设置有本专利技术的实施例的光刻设备；图2示出了现有技术致动器的示意性截面图；图3示出了根据本专利技术实施例的致动器的示意性截面图；以及图4示出了根据本专利技术的另一实施例的致动器的示意性截面图。具体实施方式图1示意性地示出了根据本专利技术的一个实施例的光刻设备。该设备包括照射系统IL、支撑结构MT、衬底台WT和投影系统PS。照射系统IL被配置为调节辐射束B。支撑结构MT(例如，掩模台)被构造成用于支撑图案形成装置MA(例如掩模)，并被连接到被配置成根据某些参数准确地定位图案形成装置的第一定位器PM。衬底台WT(例如，晶片台)被构造成保持衬底W(例如，涂覆有抗蚀剂的晶片)，且被连接至配置成根据某些参数准确地定位衬底的第二定位器PW。投影系统PS被配置成将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一个或更多个管芯)上。照射系统IL可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。本文中使用的术语“辐射束”包含全部类型的电磁辐射，所述电磁辐射包括紫外(UV)辐射(例如具有等于或约为365nm、355nm、248nm、193nm、157nm或126nm的波长)和极紫外(EUV)辐射(例如具有处于5nm至20nm的范围内的波长)以及诸如离子束或电子束等粒子束。支撑结构MT支撑图案形成装置MA，即承载图案形成装置MA的重量。所述支撑结构MT以依赖于图案形成装置MA的方向、光刻设备的设计以及诸如例如图案形成装置MA是否保持在真空环境中等其他条件的方式保持图案形成装置MA。所述支撑结构MT可以采用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术保持图案形成装置MA。所述支撑结构MT可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。所述支撑结构MT可以确保图案形成装置MA位于期望的位置上(例如相对于投影系统PS)。本文中使用的术语“图案形成装置”应该被广义地理解为指的是能够用于在辐射束B的横截面中将图案赋予辐射束、以便在衬底W的目标部分C中产生图案的任何装置。应当注意，赋予辐射束B的图案可能不完全对应于衬底W的目标部分C中的期望的图案，例如，如果图案包括相移特征或所谓的辅助特征。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分C中产生的器件(例如集成电路)中的特定的功能层相对应。图案形成装置MA可以是透射式或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示(LCD)面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同的方向反射入射的辐射束B。所述被倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束B中。本文中使用的术语“投影系统”应该被广义地理解为包括适合于所使用的曝光辐射或者其他因素(诸如使用浸没液体或使用真空)的任何类型的投影系统，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统，或它们的任何组合。如此处所示，所述设备是本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种致动器，包括：/n线圈；/n第一冷却板和第二冷却板，所述第一冷却板和所述第二冷却板被配置用以冷却所述线圈，所述第一冷却板和所述第二冷却板被布置在所述线圈的相对侧以与所述线圈热接触；/n其中，所述线圈包括第一线圈部分和第二线圈部分，所述第一线圈部分面向所述第一冷却板，所述第二线圈部分面向所述第二冷却板，所述第一线圈部分和所述第二线圈部分被它们之间的间隔分开；/n其中，所述第一冷却板、所述第一线圈部分、所述间隔、所述第二线圈部分和所述第二冷却板形成叠置结构，其中线圈部分被布置在冷却板之间，并且所述间隔被布置在所述线圈部分之间；以及/n其中，所述致动器还包括布置在所述间隔中的填充元件，所述填充元件将所述第一线圈部分推向所述第一冷却板，并将所述第二线圈部分推向所述第二冷却板。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170526 EP 17173011.21.一种致动器，包括：
线圈；
第一冷却板和第二冷却板，所述第一冷却板和所述第二冷却板被配置用以冷却所述线圈，所述第一冷却板和所述第二冷却板被布置在所述线圈的相对侧以与所述线圈热接触；
其中，所述线圈包括第一线圈部分和第二线圈部分，所述第一线圈部分面向所述第一冷却板，所述第二线圈部分面向所述第二冷却板，所述第一线圈部分和所述第二线圈部分被它们之间的间隔分开；
其中，所述第一冷却板、所述第一线圈部分、所述间隔、所述第二线圈部分和所述第二冷却板形成叠置结构，其中线圈部分被布置在冷却板之间，并且所述间隔被布置在所述线圈部分之间；以及
其中，所述致动器还包括布置在所述间隔中的填充元件，所述填充元件将所述第一线圈部分推向所述第一冷却板，并将所述第二线圈部分推向所述第二冷却板。


2.根据权利要求1所述的致动器，其中，所述填充元件包括以压缩状态布置在所述间隔中的弹性元件，所述弹性元件在垂直于所述冷却板的平面的方向上被压缩。


3.根据权利要求2所述的致动器，其中，未压缩形式的所述弹性元件在垂直于所述冷却板的平面的方向上的尺寸超过了所述间隔在所述方向上的尺寸。


4.根据权利要求1所述的致动器，其中，所述填充元件包括垫片。


5.根据前述权利要求中的任一项所述的致动器，还包括灌封材料，其中，所述间隔在所述填充元件外部的体积被所述灌封材料填充。

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【专利技术属性】
技术研发人员：N·C·P·J·海尔茨，F·斯坦德霍德尔斯，E·G·B·霍夫斯泰，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL