基于单元的电力网格(PG)架构制造技术

技术编号:22978701 阅读:31 留言:0更新日期:2020-01-01 00:53
本公开的各方面针对一种仅金属的基于单元的电力网格(PG)架构。根据一个方面,电力网格(PG)架构包括:具有N×M网格配置的单元构建块结构,N×M网格配置包括布置在第一方向上的N个单元构建块和布置在第二方向上的M个单元构建块,其中第一方向和第二方向彼此正交;以及多个电力网格(PG)单元,其中N个单元构建块中的每个和M个单元构建块中的每个由多个PG单元中的PG单元占据。

Cell based power grid (PG) architecture

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基于单元的电力网格(PG)架构相关申请的交叉引用本申请要求在2017年4月11日向美国专利商标局提交的非临时申请No.15/484,615的优先权和权益,其全部内容通过引用并入本文,如同以它的整体并且为了所有适用目的在下文被完整阐述。
本公开一般地涉及电力网格的领域,并且特别地涉及仅金属的基于单元的电力网格(PG)架构。
技术介绍
电子芯片(例如,片上系统SOC)需要dc电力分发以用于恰当运转。电子芯片上的DC电力分发可以在制造时的放置和布线步骤之前针对每个设计采用预定义的电力网格(PG)架构。放置和布线步骤是这样的过程:通过该过程,个体芯片元件被定位在芯片内并且被互连以形成运转的电路系统。常规地,统一电力网格架构可以被指配给整个电路系统。统一电力网格架构可以包括竖直导线和水平导线的阵列。该架构可能关于可布线性(即,将元件互连的能力)和归因于线路电阻的电压降(例如,IR降,其中I=电流并且R=电阻)而限制设计优化。常规地,为了解决局部可布线性问题,整个电力网格必须被重新设计。类似地,在常规的方法中,为了解决局部电压降问题,整个电本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电力网格(PG)架构,包括:/n单元构建块结构,具有N×M网格配置,所述N×M网格配置包括布置在第一方向上的N个单元构建块和布置在第二方向上的M个单元构建块,其中所述第一方向和所述第二方向彼此正交;以及/n多个电力网格(PG)单元,其中所述N个单元构建块中的每个单元构建块和所述M个单元构建块中的每个单元构建块由所述多个PG单元中的PG单元占据。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170411 US 15/484,6151.一种电力网格(PG)架构,包括:
单元构建块结构,具有N×M网格配置,所述N×M网格配置包括布置在第一方向上的N个单元构建块和布置在第二方向上的M个单元构建块,其中所述第一方向和所述第二方向彼此正交;以及
多个电力网格(PG)单元,其中所述N个单元构建块中的每个单元构建块和所述M个单元构建块中的每个单元构建块由所述多个PG单元中的PG单元占据。


2.根据权利要求1所述的电力网格(PG)架构,其中所述多个PG单元包括一个或多个基本PG单元。


3.根据权利要求2所述的电力网格(PG)架构,其中所述多个PG单元包括至少一个优化PG单元。


4.根据权利要求3所述的电力网格(PG)架构,其中所述至少一个优化PG单元包括布线优化PG单元、电压降优化PG单元、或混合优化PG单元。


5.根据权利要求1所述的电力网格(PG)架构,其中N的值等于M的值。


6.根据权利要求1所述的电力网格(PG)架构,其中所述单元构建块结构包括至少两个不同的水平网格尺寸。


7.根据权利要求6所述的电力网格(PG)架构,其中所述单元构建块结构包括至少两个不同的竖直网格尺寸。


8.一种用于在电力网格(PG)架构上对一个或多个电力网格(PG)单元进行放置和布线的方法,所述方法包括:
确定所述电力网格(PG)架构的N×M网格配置,其中所述N×M网格配置包括NM数量的单元构建块;
确定用于放置在所述单元构建块中的一个单元构建块上的PG单元的类型;以及
将所确定的PG单元的所述类型的PG单元放置在所述单元构建块中的所述一个单元构建块上。


9.根据权利要求8所述的方法,其中PG单元的所述类型是以下之一:基本PG单元、布线优化PG单元、电压降优化PG单元、或混合优化PG单元。


10.根据权利要求8所述的方法,还包括:确定对PG单元的所述类型的确定是否已经针对所述NM数量的单元构建块中的每个单元构建块被作出。


11.根据权利要求8所述的方法,还包括:确定所述PG单元是否为基本PG单元、以及所述基本PG单元是否应当被替换为优化PG单元。


12.根据权利要求11所述的方法,其中所述优化PG单元是布线优化PG单元,并且所述布线优化PG单元包括比所述基本PG单元内的金属迹线的数量少的数量的金属迹线。


13.根据权利要求11所述的方法,其中所述优化PG单元是电压降优化PG单元,并且所述电压降优化PG单元包括比所述基本PG单元内的金属迹线的数量多的数量的金属迹线。


14.根据权利要求11所述的方法,其中所述优化PG单元是混合优化PG单元。


15.根据权利要求8所述的方法,还包括:确定所述N×M网格配置的至少一个水平网格尺寸A和至少一个竖直网格尺寸B。


16.根据权利要求15所述的方法,其中所述水平网格尺寸A等于所述竖直网格尺寸B。


17.根据权利要求15所述的方法,其中所述水平网格尺寸A...

【专利技术属性】
技术研发人员:J·霍斯马尼M·Y·夏利弗V·萨纳卡侯辉博
申请(专利权)人:高通股份有限公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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