纹路识别模组和显示设备制造技术

技术编号:22975031 阅读:20 留言:0更新日期:2019-12-31 23:32
本发明专利技术涉及一种纹路识别模组和显示设备。所述纹路识别模组,包括:光源阵列、电致变色器阵列与图像传感器阵列;电致变色器阵列位于光源阵列与图像传感器阵列之间;光源阵列包括多个光源,电致变色器阵列包括多个电致变色器,图像传感器阵列包括多个图像传感器;纹路识别模组被配置为在纹路采集的过程中在第一时刻第一发光区中的光源发光,第一发光区的成像图像包括第一非成像区与第一成像区,以及在纹路采集的过程中第一电致变色区中的电致变色器处于遮光状态,以阻止从光源发出的且经纹路反射的光到达第一非成像区,位于第一电致变色区外的电致变色器处于透光状态。根据本发明专利技术的实施例,可以消除分时点亮光源出现的残像现象。

Pattern recognition module and display device

【技术实现步骤摘要】
纹路识别模组和显示设备
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种纹路识别模组和显示设备。
技术介绍
相关技术中,窄边框显示屏技术逐渐成为主流,实现这种技术的手段之一是将具有指纹识别功能的图像传感器集成到显示屏中,实现屏下指纹识别,以提高显示屏的显示区域的面积。在光学指纹识别过程中,当手指等带有纹路的操作体与图像传感器的距离较大时,由于经过操作体反射后的光线的散射,会造成获取的图像模糊的问题,进而导致根据图像传感器接收到的光线识别出的纹路信息不准确。为解决上述问题,一般通过准直器来调制光线达到来区分纹路信息,但是在屏下放置光学准直层导致纹路识别模组整体变厚。因此,寻找无光路纹路识别是纹路识别领域的热点。相关技术中,一种无光路纹路识别的方案是,使用具有一定发光面积的点光源,纹路的成像区是一个环状的,成像面积小,通过多次点亮不同的发光区域来获取多个环状的成像区,然后,将多个环状的成像区进行拼接得到一个大的纹路图像。然而,分时点亮不同的发光区域会出现残像现象。
技术实现思路
本专利技术提供一种纹路识别模组和显示设备,以解决相关技术中的不足。根据本专利技术实施例的第一方面,提供一种纹路识别模组,包括:光源阵列、电致变色器阵列与图像传感器阵列;所述电致变色器阵列位于所述光源阵列与所述图像传感器阵列之间;所述光源阵列包括多个光源,所述电致变色器阵列包括多个电致变色器,所述图像传感器阵列包括多个图像传感器;所述图像传感器配置为接收从所述光源发出的且经纹路反射、所述电致变色器透射至图像传感器的光以进行纹路采集;所述纹路识别模组被配置为在纹路采集的过程中在第一时刻第一发光区中的多个光源发光,以作为所述图像传感器阵列的感光光源;所述第一发光区的成像图像包括第一非成像区与第一成像区;所述第一成像区用于获取第一纹路图像;以及在纹路采集的过程中,第一电致变色区中的多个电致变色器处于遮光状态,以阻止从所述光源发出的且经纹路反射的光到达所述第一非成像区,位于所述第一电致变色区之外的电致变色器处于透光状态,以透过从所述光源发出的且经纹路反射的光,所述图像传感器接收从电致变色器透过的光以获得所述第一纹路图像。在一个实施例中,所述电致变色器,包括:第一透明电极、电致变色层、离子导体层、离子存储层以及第二透明电极;所述第二透明电极位于靠近所述图像传感器阵列的一侧,所述离子存储层位于所述第二透明电极上,所述离子导体层位于所述离子存储层上,所述电致变色层位于所述离子导体层上,所述第一透明电极位于所述电致变色层上;当在所述第一透明电极与所述第二透明电极之间施加正向直流电压时,所述离子存储层中的离子被抽出,在所述离子通过所述离子导体层进入所述电致变色层后,所述电致变色层变色并吸收从所述光源发出的且经纹路反射至所述电致变色层的光,所述电致变色器处于遮光状态;当在所述第一透明电极与所述第二透明电极之间施加反向直流电压时,所述电致变色层中的离子被抽出后通过所述离子导体层进入所述离子存储层,所述电致变色层褪色至透光状态,所述电致变色器处于透光状态。在一个实施例中,所述电致变色层的材料为三氧化钨、三氧化钼或者二氧化钛。在一个实施例中,所述纹路识别模组还包括线偏振片,所述线偏振片位于所述光源阵列与所述电致变色器阵列之间;所述线偏振片的透振方向为第一方向;所述电致变色器,包括:第三透明电极、液晶层与第四透明电极;所述液晶层位于所述第三透明电极与所述第四透明电极之间;当所述第三透明电极与所述第四透明电极之间未施加电信号时,所述液晶层的透振方向为所述第一方向,所述电致变色器处于透光状态;当所述第三透明电极与所述第四透明电极之间施加电信号时,所述液晶层的透振方向为所述第二方向,所述第二方向与所述第一方向垂直,所述电致变色器处于遮光状态。在一个实施例中,所述第一电致变色区的面积大于或者等于所述第一发光区的面积,且小于或者等于所述第一非成像区的面积。在一个实施例中,所述纹路识别模组包括显示面板,所述显示面板包括像素单元阵列,所述像素单元阵列包括多个像素单元;所述光源阵列包括所述像素单元阵列,所述多个光源包括多个像素单元;所述纹路识别模组被配置为在纹路采集的过程中在第一时刻第一发光区中的多个像素单元发光,以作为所述图像传感器阵列的感光光源。在一个实施例中,所述电致变色器阵列固定于所述显示面板靠近所述图像传感器阵列的表面上,或者,所述电致变色器阵列位于所述图像传感器阵列上,所述电致变色器位于所述图像传感器靠近所述光源的表面上。在一个实施例中,所述纹路识别模组还被配置为在纹路采集的过程中在第二时刻第二发光区中的多个光源发光,以作为所述图像传感器阵列的感光光源;所述第二时刻与所述第一时刻不同,所述第二发光区与所述第一发光区重叠,且所述第二发光区的成像图像包括第二非成像区与第二成像区;所述第二成像区用于获取第二纹路图像;所述第二成像区与所述第一非成像区重叠。在一个实施例中,所述第二发光区的形状与所述第一发光区的形状相同。根据本专利技术实施例的第二方面,提供一种显示设备,包括上述的纹路识别模组与控制器;所述控制器分别与所述光源阵列、所述电致变色器阵列电连接;所述控制器被配置为在纹路采集的过程中在第一时刻点亮第一发光区中的多个光源,以作为所述图像传感器阵列的感光光源;所述第一发光区的成像图像包括第一非成像区与第一成像区;所述第一成像区用于获取第一纹路图像;所述控制器还被配置为在纹路采集的过程中,控制第一电致变色区中的多个电致变色器处于遮光状态,以阻止从所述光源发出的且经纹路反射的光到达所述第一非成像区,以及控制位于所述第一电致变色区之外的电致变色器处于透光状态,以透过从所述光源发出的且经纹路反射的光,所述图像传感器接收从电致变色器透过的光以获得所述第一纹路图像。根据上述实施例可知,由于电致变色器阵列位于光源阵列与所述图像传感器阵列之间,且在纹路采集的过程中,在第一时刻点亮第一发光区中的多个光源以进行纹路采集时,第一电致变色区中的多个电致变色器处于遮光状态,以阻止从光源发出的且经纹路反射的光到达所述第一非成像区,位于第一电致变色区之外的电致变色器处于透光状态,以透过从光源发出的且经纹路反射的光,以使图像传感器接收从电致变色器透过的光以获得第一纹路图像,这样,在纹路采集的过程中在第一时刻第一电致变色区阻止了光源发出的光到达第一非成像区,可以消除分时点亮光源会出现的残像现象。应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本专利技术。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本专利技术的实施例,并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。图1是根据本专利技术实施例示出的一种纹路识别模组的结构示意图;图2是根据本专利技术实施例示出的一种成像图像的结构示意图;图3A是根据现有技术示出的一种成像图像的结构示意图;图3B是根据现有技术示出的一种图像本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种纹路识别模组,其特征在于,包括:光源阵列、电致变色器阵列与图像传感器阵列;/n所述电致变色器阵列位于所述光源阵列与所述图像传感器阵列之间;所述光源阵列包括多个光源,所述电致变色器阵列包括多个电致变色器,所述图像传感器阵列包括多个图像传感器;所述图像传感器配置为接收从所述光源发出的且经纹路反射、所述电致变色器透射至图像传感器的光以进行纹路采集;/n所述纹路识别模组被配置为在纹路采集的过程中在第一时刻第一发光区中的多个光源发光,以作为所述图像传感器阵列的感光光源;所述第一发光区的成像图像包括第一非成像区与第一成像区;所述第一成像区用于获取第一纹路图像;以及/n在纹路采集的过程中,第一电致变色区中的多个电致变色器处于遮光状态,以阻止从所述光源发出的且经纹路反射的光到达所述第一非成像区,位于所述第一电致变色区之外的电致变色器处于透光状态,以透过从所述光源发出的且经纹路反射的光,所述图像传感器接收从电致变色器透过的光以获得所述第一纹路图像。/n

【技术特征摘要】
1.一种纹路识别模组,其特征在于,包括:光源阵列、电致变色器阵列与图像传感器阵列;
所述电致变色器阵列位于所述光源阵列与所述图像传感器阵列之间;所述光源阵列包括多个光源,所述电致变色器阵列包括多个电致变色器,所述图像传感器阵列包括多个图像传感器;所述图像传感器配置为接收从所述光源发出的且经纹路反射、所述电致变色器透射至图像传感器的光以进行纹路采集;
所述纹路识别模组被配置为在纹路采集的过程中在第一时刻第一发光区中的多个光源发光,以作为所述图像传感器阵列的感光光源;所述第一发光区的成像图像包括第一非成像区与第一成像区;所述第一成像区用于获取第一纹路图像;以及
在纹路采集的过程中,第一电致变色区中的多个电致变色器处于遮光状态,以阻止从所述光源发出的且经纹路反射的光到达所述第一非成像区,位于所述第一电致变色区之外的电致变色器处于透光状态,以透过从所述光源发出的且经纹路反射的光,所述图像传感器接收从电致变色器透过的光以获得所述第一纹路图像。


2.根据权利要求1所述的纹路识别模组,其特征在于,所述电致变色器,包括:第一透明电极、电致变色层、离子导体层、离子存储层以及第二透明电极;
所述第二透明电极位于靠近所述图像传感器阵列的一侧,所述离子存储层位于所述第二透明电极上,所述离子导体层位于所述离子存储层上,所述电致变色层位于所述离子导体层上,所述第一透明电极位于所述电致变色层上;
当在所述第一透明电极与所述第二透明电极之间施加正向直流电压时,所述离子存储层中的离子被抽出,在所述离子通过所述离子导体层进入所述电致变色层后,所述电致变色层变色并吸收从所述光源发出的且经纹路反射至所述电致变色层的光,所述电致变色器处于遮光状态;
当在所述第一透明电极与所述第二透明电极之间施加反向直流电压时,所述电致变色层中的离子被抽出后通过所述离子导体层进入所述离子存储层,所述电致变色层褪色至透光状态,所述电致变色器处于透光状态。


3.根据权利要求2所述的纹路识别模组,其特征在于,所述电致变色层的材料为三氧化钨、三氧化钼或者二氧化钛。


4.根据权利要求1所述的纹路识别模组,其特征在于,还包括线偏振片,所述线偏振片位于所述光源阵列与所述电致变色器阵列之间;所述线偏振片的透振方向为第一方向;所述电致变色器,包括:第三透明电极、液晶层与第四透明电极;所述液晶层位于所述第三透明电极与所述第四透明电极之间;
当所述第三透明电极与所述第四透明电极之间未施加电信号时,所述液晶层的透振...

【专利技术属性】
技术研发人员:海晓泉
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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