【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种可储存和分配流体的阀组件，具体地，本专利技术涉及一种多个导出阀组件，储存和分配压力气体，可防止压力气体从容器失控排放。
技术介绍
工业部门要求有一种安全和高效的方式来处理低于大气压的有毒的可燃的腐蚀性气体。具体地，这些气体包括掺杂气体。一般地，掺杂气体储存在压力气瓶中，其压力等于给定或特定压力下的各种气体的蒸气压，并取决于特定气体的性质。掺杂气体用作掺杂材料源，用于制造半导体器件。这些掺杂气体用于称为离子注入机的装置。离子注入机位于半导体生产装置的制造区，那里有数百或上千的工作人员从事半导体生产。这些装置在很高电压下工作，通常高达数千千伏。由于高电压，掺杂源气体必须设置在或位于装置内(许多其他的半导体装置的源气体设置在远离人员或主要生产区的地方)。离子注入装置的一个显著特征是在低于大气压的压力下工作。利用装置内的真空从气瓶输送产品气体可形成更安全外壳，因为产品只能在施加真空时才能从气瓶外壳排出。真空输送概念防止了偶然暴露于压力气体。目前有4种不同的方法可解决低于大气压下输送掺杂气体的问题。第一种是用物理吸附材料(如珠状活性碳)充填压缩气瓶，可...
【技术保护点】
一种控制压力流体从压力容器出口排放的装置，所述装置包括：ａ．端口部分，与所述压力容器出口连通，形成流体排放路径；ｂ．气瓶阀，固定在所述端口部分或其上游，可在阻挡流体流过流体排放路径的封闭位置和允许流体沿流体排放路径流动的打开 位置之间移动；ｃ．上游薄膜分配机构，形成与阀件上游的压力状态隔离的内部空间，并与所述阀件接合，通过保持所述阀件于封闭位置，直到薄膜内部空间和端口部分内部之间的压力差移动所述阀件到打开位置，来控制所述阀件的移动；和ｄ．下游薄膜 分配机构，形成与阀件上游的压力状态隔离的内部空间，并与所述阀件接合，...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：DC海德曼，
申请(专利权)人：普莱克斯技术有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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