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一种二维金属有机框架材料的制备方法及产物技术

技术编号:22911618 阅读:35 留言:0更新日期:2019-12-24 21:15
本发明专利技术涉及一种二维金属有机框架材料的制备方法及产物。本发明专利技术主要采用将金属源、衬底以及有机源放入化学气相沉积反应器中,所述衬底设置在所述金属源上方,采用化学气相沉积法,在所述衬底表面生成二维金属有机框架材料。本发明专利技术采用化学气相沉积的方法制备二维金属有机框架,通过调控反应过程的反应条件,可以控制所制得的二维MOF材料的层数以及横向尺寸,从而实现了大面积连续二维MOF薄膜的制备。

Preparation and products of a two-dimensional organometallic framework material

【技术实现步骤摘要】
一种二维金属有机框架材料的制备方法及产物
本专利技术涉及材料工程领域,尤其涉及一种二维金属有机框架材料的制备。
技术介绍
二维(2D)材料是由单层或少数层原子或者分子层组成,层内由较强的共价键或离子键连接,而层间则由作用力较弱的范德瓦耳斯力结合。它们因独特的2D分子结构和优异的物理性能使其成为电子信息、物理学、材料学等领域的热门研究课题。目前,2D光电材料主要包括石墨烯(Gr)、拓扑绝缘体(TI)、过渡金属硫系化合物(TMDCs)、黑磷(BP)等。二维材料表面修饰工程对材料的物理化学性质有重要调控作用,现有的无机二维材料基本都是采用后合成修饰方法,但修饰位点均一性差。而二维金属有机框架(Metal-OrganicFrameworks),简称MOF,作为二维材料家族新成员,可以通过配体预设计的方法实现二维材料表面的定向定位修饰,有利于二维材料更加广泛的应用。并且,由于二维金属有机框架具有结构和功能可调、活性点位多、比表面积大等独特性质,在能源和电子器件等领域具有巨大的应用前景。目前,二维金属有机框架材料单层/少层制备方法多采用表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种二维金属有机框架材料的制备方法,其特征在于,包括步骤:/n将金属源、衬底以及有机源放入化学气相沉积反应器中,所述衬底设置在所述金属源上方,采用化学气相沉积法,在所述衬底表面生成二维金属有机框架材料。/n

【技术特征摘要】
1.一种二维金属有机框架材料的制备方法,其特征在于,包括步骤:
将金属源、衬底以及有机源放入化学气相沉积反应器中,所述衬底设置在所述金属源上方,采用化学气相沉积法,在所述衬底表面生成二维金属有机框架材料。


2.根据权利要求1所述二维金属有机框架材料的制备方法,其特征在于,所述化学气相沉积法为有机金属化学气相沉积法。


3.根据权利要求1所述二维金属有机框架材料的制备方法,其特征在于,所述金属源为有机金属化合物。


4.根据权利要求1所述二维金属有机框架材料的制备方法,其特征在于,所述有机源为含氮杂环化合物。


5.根据权利要求1所述二维金属有机框架材料的制备方法,其特征在于,所述采用化学气相沉积法,在所述衬底表面生成二维金属有机框架材料,其中对所述金属源的反应温度设为70-90℃。

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【专利技术属性】
技术研发人员:周晔周奎韩素婷
申请(专利权)人:深圳大学
类型:发明
国别省市:广东;44

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