液晶用基板的制造方法和液晶用基板的处理装置制造方法及图纸

一种液晶用基板的制造方法和液晶用基板的处理装置，不降低取向处理效果，并实现高的清洗力。液晶用基板的制造方法包含在对基板(20)进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理之后对上述基板(20)进行清洗处理的清洗工序，在上述清洗工序中，当上述基板(20)由沿着上述基板(20)的搬运方向流动的水系清洗材料进行清洗时，在上述基板(20)的摩擦处理方向与上述搬运方向交叉的情况下，上述水系清洗材料的供应压力被调整为小于在上述基板(20)的摩擦处理方向与上述搬运方向一致的情况下的上述水系清洗材料的供应压力。

Manufacturing method of liquid crystal substrate and processing device of liquid crystal substrate

【技术实现步骤摘要】
液晶用基板的制造方法和液晶用基板的处理装置
本专利技术涉及液晶用基板的制造方法和液晶用基板的处理装置，上述液晶用基板的制造方法包含在对基板进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理后对上述基板进行清洗处理的清洗工序。
技术介绍
以往，在作为液晶显示装置的主要构成部件的液晶面板的制造中，在液晶用玻璃基板的表面涂敷聚酰亚胺等高分子膜(取向膜)，通过摩擦处理法、偏振紫外线照射处理法等，进行用于使取向膜具有固定方向的各向异性的取向处理。其中，在摩擦处理法中，通过旋转的摩擦辊在固定方向上摩擦取向膜的表面，从而产生微小的粉尘、削屑等，因此在摩擦处理后，为了除去附着在基板的表面(取向处理面)的异物而使用纯水清洗基板表面。作为包含摩擦处理后的清洗工序的液晶用基板的制造方法的现有例，已知下述专利文献1所记载的例子。该专利文献1所记载的液晶用基板的处理装置具备对液晶用基板进行刷洗的旋转式的刷辊，通过使其旋转方向与摩擦辊的旋转方向相反，能够除掉通过超声波清洗难以除去的、在取向处理面上被基底结构物卡住的异物，能够提高清洗效果。现有技术文献专利文献专利文献1：特开平4-221925号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题但是，由于刷辊的接触，有时取向膜上产生不必要的损伤从而产生取向紊乱，致使取向处理效果降低。另外，由于与刷辊一起使用的水系清洗材料的流动，也可能产生取向紊乱，致使取向处理效果降低。本专利技术是基于上述这样的情况而完成的，其目的在于，不降低取向处理效果，并实现高的清洗力。用于解决问题的方案(1)本专利技术的一个实施方式是液晶用基板的制造方法，其包含在对基板进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理后对上述基板进行清洗处理的清洗工序，上述液晶用基板的制造方法的特征在于，在上述清洗工序中，当上述基板由沿着上述基板的搬运方向流动的水系清洗材料进行清洗时，在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向交叉的情况下，上述水系清洗材料的供应压力被调整为小于在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向一致的情况下的上述水系清洗材料的供应压力。在基板的摩擦处理方向与基板的搬运方向即与清洗材料的流通方向交叉的情况下，容易除去在取向膜面上被基底结构物卡住的异物。因此，即使不使用刷辊也能提高清洗力。另一方面，在这种情况下，与基板的摩擦处理方向沿着搬运方向即沿着清洗材料的流通方向的情况相比，容易产生由于清洗材料的流动而导致的取向紊乱，通过摩擦处理完成的取向处理效果容易降低。因此，通过将清洗材料的供应压力调整得小，既能够提高清洗力，又能够抑制取向处理效果的降低。(2)另外，在本专利技术的某实施方式的液晶用基板的制造方法中，在上述(1)的基础上，上述水系清洗材料通过高压喷射来供应。(3)另外，在本专利技术的某实施方式的液晶用基板的制造方法中，在上述(1)或(2)的基础上，上述基板呈板状，上述搬运方向沿着上述基板的长边方向，在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向交叉的情况下，上述摩擦处理方向沿着上述基板的短边方向，在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向一致的情况下，上述摩擦处理方向沿着上述基板的长边方向。(4)另外，本专利技术的某实施方式是在对基板进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理后对上述基板进行清洗处理的液晶用基板的处理装置，上述液晶用基板的处理装置具备：搬运装置，其在搬运方向上搬运上述基板；以及清洗槽，其通过沿着上述基板的搬运方向流动的水系清洗材料，清洗上述基板，在上述清洗槽中，当上述基板由沿着上述搬运方向流动的水系清洗材料进行清洗时，在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向交叉的情况下，上述水系清洗材料的供应压力被调整为小于在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向一致的情况下的上述水系清洗材料的供应压力。(5)另外，在本专利技术的某实施方式的液晶用基板的处理装置中，在上述(4)的基础上，上述清洗槽具备通过高压喷射来供应上述水系清洗材料的喷嘴淋洗器。(6)另外，在本专利技术的某实施方式的液晶用基板的处理装置中，在上述(4)或(5)的基础上，上述基板呈板状，上述搬运方向沿着上述基板的长边方向，在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向交叉的情况下，上述摩擦处理方向沿着上述基板的短边方向，在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向一致的情况下，上述摩擦处理方向沿着上述基板的长边方向。专利技术效果根据本专利技术，能够不降低取向处理效果，并实现高的清洗力。附图说明图1是本专利技术的实施方式1的清洗工序的侧视图。图2是示出通过帘幕淋洗器和喷嘴淋洗器进行的清洗处理的立体图。图3是示出沿着基板的长边方向的摩擦处理方向的立体图。图4是示出沿着基板的短边方向的摩擦处理方向的立体图。图5是示出通过喷嘴淋洗器进行的清洗处理的立体图。图6是示出基板的摩擦处理方向沿着长边的范围的俯视图。图7是示出基板的摩擦处理方向沿着短边的范围的俯视图。图8是示出比较实验1的实验结果的表1。附图标记说明13…清洗槽，15…搬运装置，20…基板，23…喷嘴淋洗器，24…纯水(水系清洗材料)，100…液晶用基板的处理装置。具体实施方式＜实施方式1＞参照图1至图6来说明本专利技术的实施方式1。在本实施方式中，例示了对基板进行清洗处理的液晶用基板的处理装置100。此外，在以下的说明中，将图1的X轴方向设为基板20的搬运方向，将与纸面正交的Y轴方向设为左右方向，将Z轴方向设为上下方向。另外，将各图的左侧设为搬运方向的上游侧，将各图的右侧设为搬运方向的下游侧。液晶用基板的处理装置100在液晶用基板的制造方法中，在对基板进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理后，用于对上述基板进行清洗处理的清洗工序。具体而言，对在通过摩擦法对涂敷于基板表面的取向膜进行取向处理(摩擦处理)后在表面附着有微小的粉尘、削屑等异物的状态的基板20的异物进行清洗处理。如图1所示，液晶用基板的处理装置100具备多个处理槽。在液晶用基板的处理装置100中，板状的基板20在取向处理面20A(摩擦处理过的面)朝向上侧的水平状态下，被搬入搬运方向的上游侧，并以其长边方向沿着X轴方向且其短边方向沿着Y轴方向的姿势，由下述的搬运装置15从搬运方向的上游侧搬运到下游侧。具体而言，如图1所示，液晶用基板的处理装置100具备4个处理槽，这些槽从上游侧(左侧)按顺序被设为被膜处理槽11、置换槽12、清洗槽13、干燥槽14。液晶用基板的处理装置100具备搬运装置15，在该搬运装置15设置有通过未图示的驱动源沿着搬运方向(X轴方向)搬运基板20的多个搬运辊16。一边由搬运辊16断续地支撑基板20的与取向处理面20A相反的一侧的板面(下表面)，一边由搬运装置15在各槽内沿着搬运方向按顺序搬运基板20，并且在各槽内对基板20进行处理。此外，在本实施方式中，基板20的尺寸设为G4.5至G6尺寸，搬运速度设为2000～3000mm/分钟。被膜处理槽11是用于使异丙醇(IPA21)本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种液晶用基板的制造方法，包含在对基板进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理后对上述基板进行清洗处理的清洗工序，/n上述液晶用基板的制造方法的特征在于，/n在上述清洗工序中，当上述基板由沿着上述基板的搬运方向流动的水系清洗材料进行清洗时，/n在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向交叉的情况下，上述水系清洗材料的供应压力被调整为小于在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向一致的情况下的上述水系清洗材料的供应压力。/n

【技术特征摘要】
20180613 US 62/684,2531.一种液晶用基板的制造方法，包含在对基板进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理后对上述基板进行清洗处理的清洗工序，
上述液晶用基板的制造方法的特征在于，
在上述清洗工序中，当上述基板由沿着上述基板的搬运方向流动的水系清洗材料进行清洗时，
在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向交叉的情况下，上述水系清洗材料的供应压力被调整为小于在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向一致的情况下的上述水系清洗材料的供应压力。


2.根据权利要求1所述的液晶用基板的制造方法，
上述水系清洗材料通过高压喷射来供应。


3.根据权利要求1或权利要求2所述的液晶用基板的制造方法，
上述基板呈板状，
上述搬运方向沿着上述基板的长边方向，
在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向交叉的情况下，上述摩擦处理方向沿着上述基板的短边方向，
在上述基板的摩擦处理方向与上述搬运方向一致的情况下，上述摩擦处理方向沿着上述基板的长边方向。


4.一种液晶...

【专利技术属性】
技术研发人员：谷池康司郎，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP