一种高铝含碱玻璃抛光液及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高铝含碱玻璃抛光液及其制备方法，所述高铝含碱玻璃抛光液包括稀土抛光粉和表面活性剂，所述稀土抛光粉包括氧化铈、以及其它任意一种或多种稀土氧化物，所述述稀土抛光粉中的总稀土含量大于等于88％，其中，氧化铈在总稀土中的含量大于等于55％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：D

A kind of high aluminum alkali glass polishing fluid and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种高铝含碱玻璃抛光液及其制备方法
本专利技术涉及玻璃产品表面抛光
，具体涉及一种高铝含碱玻璃抛光液及其制备方法。
技术介绍
玻璃抛光是指在特定的抛光机台上，用合适的抛光盘、抛光布、抛光刷等硬件设备设施，同时使用合适的抛光液，对玻璃制品进行表面修整以去除微细划伤、凸凹点、皱褶、微小异物的一种作业。目前市场上的抛光液一类是以氧化锆、氧化铁为抛光主体材料，适合软质玻璃制品，比如各种镜头玻璃等。另一类是以稀土为主体抛光材料的无碱玻璃抛光液，适合于无碱的液晶屏玻璃(TFT-LCD玻璃)的减薄和表面修整。若采用上述抛光液对高铝含碱玻璃进行抛光作业时，会由于高铝含碱玻璃材质“硬”而易产生二次微细划伤；或者由于抛光量不足，而无法去除玻璃原有划伤等缺陷，或者由于高铝含碱玻璃含碱出现“粘附”现象，导致清洗时有抛光粉残留在玻璃表面形成“白霜”，不仅使玻璃的透光率下降而且会对后序加工带来不良影响。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种高铝含碱玻璃抛光液，解决现有抛光液用于高铝含碱玻璃抛光导致二次划伤、抛光粉残留在玻璃表本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高铝含碱玻璃抛光液，其特征在于，包括稀土抛光粉和表面活性剂，所述稀土抛光粉包括氧化铈、以及其它任意一种或多种稀土氧化物，所述述稀土抛光粉中的总稀土含量大于等于88％，其中，氧化铈在总稀土中的含量大于等于55％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：/nD

【技术特征摘要】
1.一种高铝含碱玻璃抛光液，其特征在于，包括稀土抛光粉和表面活性剂，所述稀土抛光粉包括氧化铈、以及其它任意一种或多种稀土氧化物，所述述稀土抛光粉中的总稀土含量大于等于88％，其中，氧化铈在总稀土中的含量大于等于55％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：
D0≤10μm、D10≤4μm、D50为0.8～2μm、D90≥0.5μm。


2.根据权利要求1所述的一种高铝含碱玻璃抛光液，其特征在于，D50为1～1.5μm。


3.根据权利要求1所述的一种高铝含碱玻璃抛光液，其特征在于，所述高铝含碱玻璃抛光液包括以下重量百分比组分：
稀土抛光粉48％～65％、表面活性剂0.5％～3％、增强剂1％～6％，余量为水。


4.根据权利要求3所述的一种高铝含碱玻璃抛光液，其特征在于，所述表面活性剂与水的重量比为0.01～0.10。


5.根据权利要求3所述的一种高铝含碱玻璃抛光液，其特征在于，所述表面活性剂至少包括十二烷基磺酸钠、聚乙烯醇丙烯醚C-201、聚丙烯共聚物、聚氧乙烯醚胺物中的一种；所述增强剂至少包括醋酸锌、硫...

【专利技术属性】
技术研发人员：李树晨，任书明，刘再进，宫汝华，罗瑞，李盛印，
申请(专利权)人：四川旭虹光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51