触控屏的预备结构和触控屏制造技术

本申请提供了一种触控屏的预备结构和触控屏。该预备结构经过激光刻蚀后形成触控屏的至少部分结构，预备结构包括至少一个吸光层、至少一个基材层和至少一个预备电极层，预备电极层为预备驱动电极层或预备感应电极层，各基材层位于一个吸光层和一个预备电极层之间，且吸光层在各预备电极层上的投影至少覆盖各预备电极层的部分区域。上述技术方案中，在激光刻蚀的过程中，吸光层可以在激光气化贯穿预备电极层后，将激光蚀刻时多余的能量吸收，避免大量的激光能量聚焦于预备电极层，从而避免或者缓解了对预备电极层和基材层之间附着力的破坏，也避免了对导线的较大程度的破坏，保证了宽度较小的导线的导通性和可靠性。

Preliminary structure and touch screen of touch screen

The application provides a preliminary structure and a touch screen of a touch screen. After laser etching, the preparation structure forms at least part of the structure of the touch screen. The preparation structure includes at least one light absorption layer, at least one substrate layer and at least one prepared electrode layer. The prepared electrode layer is a prepared driving electrode layer or a prepared induction electrode layer. Each substrate layer is located between one light absorption layer and one prepared electrode layer, and the projection of the light absorption layer on each prepared electrode layer At least part of the area of each prepared electrode layer is covered. In the above technical scheme, in the process of laser etching, the absorption layer can absorb the extra energy during laser etching after laser gasification penetrates the prepared electrode layer, so as to avoid a large amount of laser energy focusing on the prepared electrode layer, thus avoiding or alleviating the damage of adhesion between the prepared electrode layer and the substrate layer, and avoiding the greater damage to the conductor, thus ensuring that Continuity and reliability of conductor with smaller width.

【技术实现步骤摘要】
触控屏的预备结构和触控屏
本申请涉及触控屏领域，具体而言，涉及一种触控屏的预备结构和触控屏。
技术介绍
目前，电容式触控屏的生产工艺广泛采用激光蚀刻的方法雕刻线路，形成所需的电极层，例如感应电极层或者驱动电极层。作用原理为：通过激光的烧蚀，将基材表面上的电极层的导电物质气化，形成所需的电极层。但是，因为激光的烧蚀作用，激光所通过的路径边缘不可避免的造成电极层与基材附着力的破坏，激光聚焦的能量越高，激光所雕刻出的导电线路边缘受破坏的作用越明显。导线的宽度越小，激光刻蚀过程对导线的破坏程度越大。为了弥补激光烧蚀所造成的损伤，导线必须保证足够的宽度。在所有的显示终端，提高屏占比能够带来更好的视觉感受及美学效果。现有技术中，一种“86”电容式触控屏的屏占比达到89.82％，横向边缘导线的宽度为39.1mm，纵向边缘导线的宽度为35.5mm，另一种“86”电容式触控屏的屏占比达到91.67％，横向边缘导线的宽度为32.1mm，纵向边缘导线的宽度为28.5mm。为了达到较高的屏占比，必须减小电容屏边框的宽度，要达到更小的边框宽度，就必须减小触控屏边缘导线的宽度。由于激光刻蚀的特点，现有技术中很难保证宽度较小的导线的电导通性和可靠性。因此，为了确保宽度较小的导线的导通性与可靠性，同时保证产品的稳定性与可靠性，必须减少激光烧蚀过程对线路边缘的侵蚀。
技术实现思路
本申请的主要目的在于提供一种触控屏的预备结构和触控屏，以解决现有技术中激光刻蚀导致的电极层与基材层附着力较差的问题。为了实现上述目的，根据本申请的一个方面，提供了一种触控屏的预备结构，该预备结构经过激光刻蚀后形成上述触控屏的至少部分结构，上述预备结构包括至少一个吸光层、至少一个基材层和至少一个预备电极层，上述预备电极层为预备驱动电极层或预备感应电极层，各上述基材层位于一个上述吸光层和一个上述预备电极层之间，且上述吸光层在各上述预备电极层上的投影至少覆盖各上述预备电极层的部分区域。进一步地，每平方米的上述吸光层吸收的激光能量大于360J。进一步地，各上述吸光层在至少在一个上述预备电极层上的投影至少覆盖对应的上述预备电极层的预备边缘布线区，上述预备电极层经过激光刻蚀后，上述预备边缘布线区形成上述电极层的边缘布线区。进一步地，各上述吸光层在至少一个上述预备电极层上的投影覆盖对应的上述预备电极层。进一步地，上述预备电极层、上述基材层和上述吸光层分别有一个。进一步地，上述预备电极层有两个，两个上述预备电极层分别为上述预备感应电极层和上述预备驱动电极层，上述基材层和上述吸光层分别有一个，上述吸光层、上述预备驱动电极层、上述基材层和上述预备感应电极层依次叠置设置。进一步地，上述预备电极层有两个，两个上述预备电极层分别为上述预备感应电极层和上述预备驱动电极层，上述基材层有两个，分别为第一基材层和第二基材层，上述吸光层有两个，分别为第一吸光层和第二吸光层，上述第一吸光层、上述第一基材层和上述预备驱动电极层形成预备驱动电极膜，上述第二吸光层、上述第二基材层和上述预备感应电极层形成预备感应电极膜，上述预备感应电极膜和上述预备驱动电极膜在厚度方向上未叠置设置，使得上述预备感应电极膜的激光刻蚀过程和上述述预备驱动电极膜的激光刻蚀过程不互相影响。进一步地，上述吸光层的材料包括黑色吸光材料和/或蓝色吸光材料。进一步地，上述吸光层的厚度在8～14μm之间。根据本申请的另一方面，提供了一种触控屏，上述触控屏的至少部分结构由任一种上述的触控屏的预备结构经过激光刻蚀形成。应用本申请的技术方案，本申请的上述技术方案中，通过在基材的远离一个电极层的一侧设置吸光层。这样，在激光刻蚀的过程中，吸光层可以在激光气化贯穿预备电极层后，将激光蚀刻时多余的能量吸收，避免大量的激光能量聚焦于预备电极层，从而避免或者缓解了对预备电极层和基材层之间附着力的破坏，也避免了对导线的较大程度的破坏，保证了宽度较小的导线的导通性和可靠性。当吸光层覆盖对应边框的位置时，可以满足缩小边框的要求，例如可以使得边缘的导线的宽度可以从现有的0.2mm左右减小到0.05mm左右，导线间距保持0.035mm，使得触控屏的边缘更窄，基本达到曝光工艺的要求，也达到更美观的需求，还可以保证了产品的稳定性与可靠性。另外，现有技术中的产品一般需要使用2～3次激光蚀刻才可以将预备电极层的导线蚀刻开，现在由于在预备结构中设置了吸光层，其可以吸收多余的激光，所以可以增大刻蚀的激光功率，使得通过1～2次激光刻蚀就可以将预备电极层的导线蚀刻开来，减少了激光刻蚀的次数，进而提高了生产效率。并且，吸光层的设置还能避免或者缓解因预备电极层(如印刷导电银浆线路)膜厚不均导致所需激光能量的差异问题(膜厚越厚，所需激光能量越高，导致膜厚偏薄的线路由于能量过大导致的烧焦问题)，保证了产品的良率。附图说明构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本申请的进一步理解，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：图1至图7示出了本申请七种触控屏的预备结构的结构示意图；以及图8示出了本申请的一种触控屏的预备结构在激光刻蚀过程的结构示意图。其中，上述附图包括以下附图标记：10、吸光层；20、基材层；30、预备电极层；11、第一吸光层；12、第二吸光层；21、第一基材层；22、第二基材层；31、预备驱动电极层；32、预备感应电极层；320、感应电极层；40、激光器；41、激光光路。具体实施方式应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属
的普通技术人员通常理解的相同含义。需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。正如
技术介绍
所介绍的，现有技术中的触控屏的电极层的形成过程中，激光刻蚀会导致电极层与基材层附着力变差，为了解决如上的技术问题，本申请提出了一种触控屏的预备结构、触控屏和电子设备。本申请的一种典型的实施方式中，提供了一种触控屏的预备结构，该预备结构经过激光刻蚀后形成上述触控屏的至少部分结构，如图1至图7所示，上述预备结构包括至少一个吸光层10、至少一个基材层20和至少一个预备电极层30，上述预备电极层30为预备驱动电极层31或预备感应电极层32，各上述基材层20位于一个上述吸光层10和一个上述预备电极层30之间，且上述吸光层10在各上述预备电极层30上的投影至少覆盖各上述预备电极层30的部分区域，每平方米的上述吸光层10吸收的激光能量大于360J。本申请的上述预备结构，通过在基材的远离一个电极层的一侧设置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控屏的预备结构，其特征在于，所述预备结构经过激光刻蚀后形成所述触控屏的至少部分结构，所述预备结构包括至少一个吸光层(10)、至少一个基材层(20)和至少一个预备电极层(30)，所述预备电极层(30)为预备驱动电极层(31)或预备感应电极层(32)，各所述基材层(20)位于一个所述吸光层(10)和一个所述预备电极层(30)之间，且所述吸光层(10)在各所述预备电极层(30)上的投影至少覆盖各所述预备电极层(30)的部分区域。/n

【技术特征摘要】
1.一种触控屏的预备结构，其特征在于，所述预备结构经过激光刻蚀后形成所述触控屏的至少部分结构，所述预备结构包括至少一个吸光层(10)、至少一个基材层(20)和至少一个预备电极层(30)，所述预备电极层(30)为预备驱动电极层(31)或预备感应电极层(32)，各所述基材层(20)位于一个所述吸光层(10)和一个所述预备电极层(30)之间，且所述吸光层(10)在各所述预备电极层(30)上的投影至少覆盖各所述预备电极层(30)的部分区域。


2.根据权利要求1所述的预备结构，其特征在于，每平方米的所述吸光层(10)吸收的激光能量大于360J。


3.根据权利要求1所述的预备结构，其特征在于，各所述吸光层(10)在至少在一个所述预备电极层(30)上的投影至少覆盖对应的所述预备电极层(30)的预备边缘布线区，所述预备电极层(30)经过激光刻蚀后，所述预备边缘布线区形成所述电极层的边缘布线区。


4.根据权利要求1所述的预备结构，其特征在于，各所述吸光层(10)在至少一个所述预备电极层(30)上的投影覆盖对应的所述预备电极层(30)。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的预备结构，其特征在于，所述预备电极层(30)、所述基材层(20)和所述吸光层(10)分别有一个。


6.根据权利要求1至4中任一项所述的预备结构，其特征在于，所述预备电极层(30)有两个，两个所述预备电极...

【专利技术属性】
技术研发人员：方俊，
申请(专利权)人：广州视源电子科技股份有限公司，广州视睿电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44