顶发光OLED的阳极结构、显示装置及其制造方法制造方法及图纸

本公开提供了一种顶发光OLED的阳极结构、显示装置及其制造方法，该阳极结构包括基底以及于基底表面依次堆叠设置的防扩散欧姆接触粘结层、反射金属层、抗腐蚀防扩散层以及能级匹配层，可与基底表面的驱动电路互联的材料可以提供良好的欧姆接触、粘附性、延展性和防扩散性，减少因粘附性差和应力集中导致的膜层卷曲脱落，防止因反射金属层材料扩散导致的驱动电路短路；抗腐蚀防扩散层，可保护反射层在工艺过程中免于腐蚀变质，同时还应有很高的防扩散性能，阻止反射金属层和能级匹配层的材料之间相互渗透；而能级匹配层能够提供较高的功函数，并且由于该堆叠的阳极结构还能保证在后续OLED器件、以及显示装置的制备工艺流程中不易劣化。

Anode structure, display device and manufacturing method of top emitting OLED

The invention provides an anode structure, a display device and a manufacturing method of a top emitting OLED. The anode structure includes a substrate and a non-proliferation ohmic contact bonding layer, a reflective metal layer, a corrosion-resistant and non-proliferation layer and a energy level matching layer which are successively stacked on the substrate surface. The materials which can be interconnected with the driving circuit on the substrate surface can provide good ohmic contact, adhesion Ductility and non-proliferation, reduce the curl and fall off of film caused by poor adhesion and stress concentration, and prevent the short circuit of driving circuit caused by the diffusion of reflective metal layer material; anti-corrosion and non-proliferation layer can protect the reflective layer from corrosion and deterioration in the process, and also have high anti-proliferation performance, prevent the mutual penetration between the reflective metal layer and the material of energy level matching layer The energy level matching layer can provide a higher work function, and the stacked anode structure can ensure that it is not easy to degrade in the subsequent OLED device and display device manufacturing process.

【技术实现步骤摘要】
顶发光OLED的阳极结构、显示装置及其制造方法
本公开涉及显示
，特别涉及一种顶发光OLED的阳极结构、显示装置及其制造方法。
技术介绍
有机发光器件，例如有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)由于其具备自发光、对比度高、厚度薄、反应速度快等特性，因此当前被广泛应用于显示领域。相关技术中，OLED器件分为底发光OLED和顶发光OLED，由于顶发光式OLED器件相对于底发光式OLED器件具有较高的开口率，因此成为近年来研究热点。目前顶发光式OLED器件对于阳极性能的要求主要有高功函数及高反射率以提升光的利用率和空穴注入效率，以便进而提升OLED显示器的发光效率。在此基础上，OLED器件的阳极结构还需要进一步考虑阳极制作过程中以及后续OLED器件制备工艺流程中不易劣化，因此阳极结构的设计、材料的选择以及制作工艺均极为关键。
技术实现思路
本公开实施例提供了一种顶发光OLED的阳极结构、显示装置及其制造方法，以提高OLED的性能。所述技术方案如下：根据本公开实本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种顶发光OLED的阳极结构，其特征在于，包括基底以及于基底表面依次堆叠设置的防扩散欧姆接触粘结层、反射金属层、抗腐蚀防扩散层以及能级匹配层。/n

【技术特征摘要】
1.一种顶发光OLED的阳极结构，其特征在于，包括基底以及于基底表面依次堆叠设置的防扩散欧姆接触粘结层、反射金属层、抗腐蚀防扩散层以及能级匹配层。


2.根据权利要求1所述的阳极结构，其特征在于，
所述防扩散欧姆接触粘结层材料为铌、铬、镍、钛中的一种、两种或两种以上与钼的合金，所述防扩散欧姆接触粘结层厚度为1nm-100nm；
所述反射金属层材料为铂、铝、银、铜中的一种、两种或两种以上的合金，所述反射金属层厚度为30nm-100nm；
所述抗腐蚀防扩散层材料为铑、钛、镍、钌、铌、金中的一种、两种或两种以上与钯的合金，所述抗腐蚀防扩散层厚度为3nm-50nm；
所述能级匹配层材料为铂、铱、镍中的一种、两种或两种以上的合金，所述能级匹配层的厚度为1nm-80nm。


3.根据权利要求2所述的阳极结构，其特征在于，
所述防扩散欧姆接触粘结层材料为镍钼合金，所述镍钼合金中镍与钼的原子比为1：2，厚度为15nm；
所述反射金属层材料为铂，厚度为40nm；
所述抗腐蚀防扩散层材料为钯钛合金，所述钯钛合金的原子比为1：2，厚度为6nm；
所述能级匹配层材料为铂，厚度为6nm；
或者，所述防扩散欧姆接触粘结层材料为铌钼合金，所述铌钼合金中铌与钼的原子比为1：1，厚度为20nm；
所述反射金属层材料为铂，厚度为40nm；
所述抗腐蚀防扩散层材料为钯钌合金，所述钯钌合金的原子比为1：3，厚度为6nm；
所述能级匹配层材料为铱，厚度为7nm。


4.一种显示装置，其特征在于，包括多个顶发光OLED，所述顶发光OLED包括如权利要求1至3任意一项所述的阳极。


5.一种显示装置的制备方法，其特征在于，包括形成阳极结构的步骤，包括：提供基底；于所述基底表面依次堆叠形成防扩散欧姆接触粘结层、反射金属层、抗腐蚀防扩散层以及能级匹配层。


6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，通过磁控溅射或电子束蒸镀依次形成防扩散欧姆接触粘结层、反射金属层、抗腐蚀防扩散层以及能级匹配层；
所述防扩散欧姆接触粘结层材料为铌、铬、镍、钛中的一种、两种或两种以上与钼的合金；
所述反射金属层材料为铂、铝、银、铜中的一种、两种或两种以上的合金；
所述抗腐蚀防扩散层材料为铑、钛、镍、钌、铌、金中的一种、两种或两种以上与钯的合金；
所述能级匹配层材料为铂、铱、镍中的一种、两种或两种以上的合金。


7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，通过磁控溅射依次形成所述防扩散欧姆接触粘结层、反射金属层、抗腐蚀防扩散层以及能级匹配层，包括：
对已置放所述基底的腔体抽真空，加热烘烤去除所述基底表面气体和水分，真空度小于等于3×10-4Pa，烘烤温度为90℃；
同时开启镍靶和钼靶，混镀镍和钼膜，混合比例为1：2，以形成厚度为15nm的所述防扩散欧姆接触粘结层；
关闭镍靶和钼靶，切换到铂靶，在所述防扩散欧姆接触粘结层上形成厚度为40nm的所述反射金属层；
关闭铂靶，启动钯靶和钛靶，在所述反射金属层表面混镀钯和...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨明伦，
申请(专利权)人：杨明伦，
类型：发明
国别省市：贵州;52