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连接等离子弧割炬及相关的系统和方法技术方案

技术编号:22651440 阅读:85 留言:0更新日期:2019-11-26 18:59
在一些方面,用于将等离子割炬引线连接到等离子切割系统的接触部件可包括:基部;基部内的成组的端口,包括:冷却剂供应端口,用于将液体冷却剂从切割系统输送到通过割炬引线连接到接触部件的等离子弧割炬,冷却剂回流端口:i)将回流液体冷却剂从割炬输送到切割系统,并且ii)将操作电流从切割系统输送到割炬,将处理气体输送到割炬的至少一个气体供应端口,以及欧姆触点连接器;以及连接器,其将基部连接到切割系统,并在联接到切割系统时将端口和电连接器中的每个连接到切割系统的相应互补连接。

Connecting plasma arc cutting torch and related systems and methods

In some aspects, the contact parts for connecting the plasma cutting torch lead to the plasma cutting system may include: base part; group ports in the base part, including: coolant supply port, for conveying liquid coolant from the cutting system to the plasma arc cutting torch connected to the contact part through the cutting torch lead, coolant return port: I) returning liquid coolant from the cutting torch To the cutting system, and II) deliver the operating current from the cutting system to the cutting torch, the processing gas to at least one gas supply port of the cutting torch, and the ohmic contact connector; and the connector, which connects the base to the cutting system, and when connected to the cutting system, connects each of the ports and the electrical connector to the corresponding complementary connection of the cutting system.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】连接等离子弧割炬及相关的系统和方法相关申请本申请请求享有2016年12月19日提交的题为"LeadConnectionforaPlasmaArcSystem"的美国临时专利申请序列号62/436203的权益,其内容通过引用整体并入本文。
本公开总体涉及等离子弧割炬,并且更具体地涉及将等离子弧割炬连接到电源以及相关的系统和方法。
技术介绍
一些传统的割炬系统(例如,等离子弧割炬系统)可包括一个或多个电气和气体输送引线,其具有割炬引线连接器以传递电流、密封液体/气体连接,并/或提供割炬和电源之间的固定方法。电源处的传统引线连接通常需要用于气体、冷却剂等中的每个的成组的离散连接,这些连接一次一个地连接,每个连接独立地拧紧和/或紧固在一起。一些常规的割炬连接利用螺纹连接器来实现这些连接。在一些情况下,一些等离子割炬电源具有多个螺纹连接,以将割炬流体地且电气地连接到割炬。具有诸如此类的成组的离散连接可能使安装和维护变得困难且耗时,甚至将割炬引线断开或重新连接到系统都需要经验丰富且知识渊博的技术人员。
技术实现思路
在一些方面,用于将等离子割炬引线连接到液冷等离子切割系统的液冷等离子切割系统接触部件可包括构造成联接到等离子割炬引线的基部;设置在基部内的成组的端口,该组端口包括:冷却剂供应端口,以将液体冷却剂从液冷等离子切割系统输送到通过等离子割炬引线连接到接触部件的等离子弧割炬;冷却剂回流端口:i)限定通路以将回流液体冷却剂从等离子弧割炬输送到液冷等离子切割系统,以及ii)配置成将操作电流从液冷等离子切割系统输送到通过等离子割炬引线连接到基部的等离子弧割炬;至少一个等离子体处理气体供应端口,以将等离子体处理气体从液冷等离子切割系统输送到等离子弧割炬,以及欧姆触点连接器;以及连接器,其设置在基部周围,以将基部联接到液冷等离子切割系统,并在联接到液冷等离子切割系统时,将冷却剂供应、冷却剂回流、气体供应和欧姆触点连接器中的每一个可操作地连接到液冷等离子切割系统的割炬引线插座的相应互补连接处。实施例可包括以下特征中的一个或多个。导引弧触点和第一气体供应端口每个可位于冷却剂供应端口附近。冷却剂回流端口和冷却剂供应端口可相对于中心区域设置在基部的相对侧。在一些情况下,至少一个等离子体处理气体供应端口可周向地设置在冷却剂回流端口和冷却剂供应端口之间。在一些情况下,欧姆触点连接器可设置在基部的与相对于中心区域的至少一个等离子体处理气体供应端口相对的一侧。基部可限定前面,成组的端口从该前面延伸。前面可包括用于等离子弧割炬引线的电接地表面。冷却剂供应端口或冷却剂回流端口中的至少一个可比该组端口中的其它端口从前面轴向地延伸更远。冷却剂回流端口的宽度可大于冷却剂供应端口的宽度。冷却剂回流端口可包括载流多触点带。冷却剂供应端口、气体供应端口和冷却剂回流端口可包括O形环密封部件。在一些情况下,连接器的螺纹可相对于基部轴向定位,以在O形环密封部件与其互补端口接合之前与割炬引线插座接合。接触部件还可包括阀驱动器线缆,该阀驱动器线缆设置在基部的外部,并且构造成将液冷等离子切割系统通信地连接到割炬中的阀。在一些方面,用于将等离子割炬引线连接到液冷等离子切割系统的等离子割炬引线插头可包括:底板,其构造成联接到等离子割炬引线;设置在底板中的成组的端口,该组端口包括:冷却剂供应端口,其沿底板的垂直轴线的上部区域设置,以将液体冷却剂从液冷等离子切割系统输送到通过等离子割炬引线连接到接触部件的等离子弧割炬;沿垂直轴线基本上位于冷却剂供应端口对面的冷却剂回流端口,冷却剂回流端口:i)限定通路以将回流液体冷却剂从等离子弧割炬输送到等离子割炬引线,并且ii)构造成将来自液冷等离子切割系统的操作电流输送到通过等离子割炬引线连接到基部的等离子弧割炬;第一气体供应端口,其位于垂直轴线的第一侧以将第一等离子处理气体从液冷等离子切割系统输送到等离子弧割炬;保护气体供应端口,其位于垂直轴线的第一侧,用于将保护气体从液冷等离子切割系统输送到等离子弧割炬;导引弧触点,其位于基本上与第一侧相对的垂直轴线的第二侧上;以及位于第二侧的欧姆触点;以及连接器,其设置在该组端口和底板周围,该连接器构造成将等离子割炬引线连接到液冷等离子切割系统。实施例可包括以下特征中的一个或多个。欧姆触点和保护气体供应端口可位于冷却剂回流端口附近。底板可包括用于等离子弧割炬引线的电接地触点。引线插头可包括阀驱动器线缆,该阀驱动器线缆设置在本体外部,并且构造成将液冷等离子切割系统通信地连接到割炬中的阀。引线插头可包括设置在第一气体供应端口和保护气体供应端口之间的第二气体供应端口,第二气体供应端口将第二等离子体处理气体从液冷等离子体切割系统输送到等离子弧割炬。在一些方面,将等离子弧割炬引线插头对准并连接到液冷等离子切割系统的连接器的方法可包括:通过将从引线插头的基部延伸的冷却剂回流端口插入连接器的冷却剂回流开口来将引线插头与连接器对准,冷却剂回流端口构造成提供从液冷等离子切割系统到连接到引线插头的等离子弧割炬的操作电流;通过相对于冷却剂回流端口的中心轴旋转引线插头来调节引线插头,以使设置在基部周围的连接器与液冷等离子切割系统的连接器的互补接收机构对准;使引线插头朝向连接器前进:进一步将冷却剂回流端口插入冷却剂回流开口,以在冷却剂回流端口和冷却剂回流开口之间建立电连接,以向等离子弧割炬提供操作电流;将冷却剂供应端口插入连接器的相应冷却剂供应开口;以及将连接器与互补接收机构接合,以:在所述引线插头的导引弧连接器与连接器的互补导引弧触点之间建立电连接;在引线插头的欧姆触点和连接器的互补欧姆触点之间建立电连接;并且建立一个或多个流体连接以向等离子弧割炬提供处理气体。实施例可包括以下特征中的一个或多个。在冷却剂回流端口和冷却剂回流开口之间建立电连接可包括使设置在冷却剂回流开口内的载流多触点带与冷却剂回流端口接触。在一些情况下,使连接器与互补接收机构接合可包括相对于带螺纹的互补接收机构旋转螺纹连接器。本文描述的实施例可具有以下优点中的一个或多个。这里描述的系统和方法可提供优于一些常规装置的一个或多个优点,如试图通过具有多个连接/工具来连接各种流体和电触点或限制其中端口数量来简化连接点的那些装置。然而,本文描述的系统和方法可能优于常规解决方案,常规解决方案可能具有显著电噪声问题,在安装期间依靠"D"形特征用于构件对准,通过切割电流传输预热其气体/冷却剂流,和/或要求割炬引线直接连接在电源上。例如,通过提供通过冷却剂回流端口而不是冷却剂供应端口的电流,提供给割炬的电流在其到达割炬之前不会显著预热冷却剂以冷却消耗物。附图说明图1是用于将等离子弧割炬连接到等离子弧处理系统的示例割炬引线插头的前视图,其中引线插头具有连接接口,以更容易地将引线插头对准并连接到等离子弧处理系统的插座。图2是具有连接接口的示例等离子弧处理系统插座的前视图,该连接接口与图1的引线插头互补。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种液冷等离子切割系统接触部件,用于将等离子割炬引线连接到液冷等离子切割系统,所述接触部件包括:/n基部,其构造为联接到所述等离子割炬引线;/n成组的端口,其设置在所述基部内,所述成组的端口包括:/n冷却剂供应端口,以将液体冷却剂从所述液冷等离子切割系统输送到通过所述等离子割炬引线连接到所述接触部件的等离子弧割炬,/n冷却剂回流端口,其:i)限定通路以将回流液体冷却剂从所述等离子弧割炬输送到所述液冷等离子切割系统,并且ii)构造成将操作电流从所述液冷等离子切割系统输送到通过所述等离子割炬引线连接到所述基部的所述等离子弧割炬,/n至少一个等离子体处理气体供应端口,以将等离子体处理气体从所述液冷等离子切割系统输送到所述等离子弧割炬,以及/n欧姆触点连接器;以及/n连接器,其设置在所述基部周围,以将所述基部联接到所述液冷等离子切割系统,并且在联接到所述液冷等离子切割系统时,将所述冷却剂供应、所述冷却剂回流、所述气体供应和所述欧姆触点连接器中的每一个以可操作的方式连接到所述液冷等离子切割系统的割炬引线插座的相应互补连接处。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20161219 US 62/4362031.一种液冷等离子切割系统接触部件,用于将等离子割炬引线连接到液冷等离子切割系统,所述接触部件包括:
基部,其构造为联接到所述等离子割炬引线;
成组的端口,其设置在所述基部内,所述成组的端口包括:
冷却剂供应端口,以将液体冷却剂从所述液冷等离子切割系统输送到通过所述等离子割炬引线连接到所述接触部件的等离子弧割炬,
冷却剂回流端口,其:i)限定通路以将回流液体冷却剂从所述等离子弧割炬输送到所述液冷等离子切割系统,并且ii)构造成将操作电流从所述液冷等离子切割系统输送到通过所述等离子割炬引线连接到所述基部的所述等离子弧割炬,
至少一个等离子体处理气体供应端口,以将等离子体处理气体从所述液冷等离子切割系统输送到所述等离子弧割炬,以及
欧姆触点连接器;以及
连接器,其设置在所述基部周围,以将所述基部联接到所述液冷等离子切割系统,并且在联接到所述液冷等离子切割系统时,将所述冷却剂供应、所述冷却剂回流、所述气体供应和所述欧姆触点连接器中的每一个以可操作的方式连接到所述液冷等离子切割系统的割炬引线插座的相应互补连接处。


2.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,所述导引弧触点和所述第一气体供应端口中每个位于所述冷却剂供应端口附近。


3.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,所述冷却剂回流端口和所述冷却剂供应端口相对于中心区域设置在所述基部的相对侧处。


4.根据权利要求3所述的接触部件,其特征在于,所述至少一个等离子体处理气体供应端口在周向上设置在所述冷却剂回流端口和所述冷却剂供应端口之间。


5.根据权利要求4所述的接触部件,其特征在于,所述欧姆触点连接器相对于所述中心区域设置在所述基部的与所述至少一个等离子体处理气体供应端口相对的一侧。


6.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,所述基部限定前面,所述成组的端口从所述前面延伸。


7.根据权利要求6所述的接触部件,其特征在于,所述前面包括用于所述等离子弧割炬引线的电接地表面。


8.根据权利要求6所述的接触部件,其特征在于,所述冷却剂供应端口或所述冷却剂回流端口中的至少一个比所述成组的端口中的其它端口从所述前面沿轴向延伸更远。


9.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,所述冷却剂回流端口的宽度大于所述冷却剂供应端口的宽度。


10.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,所述冷却剂回流端口包括载流多触点带。


11.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,所述冷却剂供应端口、所述气体供应端口和所述冷却剂回流端口包括O形环密封部件。


12.根据权利要求11所述的接触部件,其特征在于,所述连接器的螺纹相对于所述基部沿轴向定位,以在所述O形环密封部件与其互补端口接合之前与所述割炬引线插座接合。


13.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,所述接触部件还包括阀驱动器线缆,所述阀驱动器线缆设置在所述基部的外部,并且构造成将所述液冷等离子切割系统通信地连接到所述割炬中的阀。


14.一种等离子割炬引线插头,用于将等离子割炬引线连接到液冷等离子切割系统,所述等离子割炬引线包括:
底板,其构造成联接到所述等离子割炬引线;
成组的端口,其设置在所述底板中,所述成组的端口包括:
...

【专利技术属性】
技术研发人员:J贝利沃
申请(专利权)人:海别得公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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