射频烤箱能量施加的控制制造技术

烤箱可以包括被配置成接收食品的烹饪室、被配置成将加热的空气提供到烹饪室中的对流加热系统、被配置成使用固态电子部件将RF能量提供到烹饪室中的射频(RF)加热系统、以及被配置成控制对流加热系统和RF加热系统的控制电子器件。控制电子器件还可以控制被配置成限定用于提供用户输入以控制烤箱的操作的一个或多个控制台的用户界面。控制电子器件被配置成使得用户能够选择烹饪时间和所选择的RF烹饪功率，但是响应于学习进程而自动选择用于施加RF能量的频率和相位参数。

Control of energy application in RF oven

The oven may include a cooking room configured to receive food, a convection heating system configured to provide heated air to the cooking room, a radio frequency (RF) heating system configured to provide RF energy to the cooking room using solid-state electronic components, and a control electronic device configured to control the convection heating system and the RF heating system. The control electronics may also control the user interface of one or more consoles configured to provide user input to control the operation of the oven. The control electronics are configured to enable the user to select the cooking time and the selected RF cooking power, but automatically select the frequency and phase parameters for applying RF energy in response to the learning process.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】射频烤箱能量施加的控制相关申请案的交叉引用本申请要求2016年11月30日提交的美国申请号62/427,995和2017年11月13日提交的美国申请号15/810,550的优先权，其全部内容通过全文引用并入本文。
示例性实施例总体上涉及烤箱，更具体地涉及能够通过由固态部件产生的施加射频(RF)能量来烹饪食物的烤箱。
技术介绍
能够使用多于一个热源(例如对流、蒸汽、微波等)进行烹饪的组合烤箱已经使用了几十年。每个烹饪源具有其自己独特的特征组。因此，组合烤箱通常可以利用每个不同烹饪源的优点来试图提供在时间和/或质量方面得到改进的烹饪进程。在一些情况下，微波烹饪可以比对流或其它类型的烹饪更快。因此，可以使用微波烹饪来加速烹饪进程。然而，微波通常不能用于烹制一些食品，也不能使食品褐变。考虑到褐变可能增加与味道和外观有关的某些所需特性，可能需要使用除微波烹饪之外的另一种烹饪方法以实现褐变。在一些情况下，出于褐变的目的热量施加可以涉及使用在烤箱腔内提供的加热气流来将热量传递到食品的表面。然而，即使使用微波和热气流的组合，传统微波烹饪相对于食品渗透的限制仍可能使组合不够理想。此外，典型的微波在对食品施加能量的方式上有些无差别或不可控制。因此，可能希望对操作者的能力提供进一步的改进以通过提高向食品输送能量的效率，在相对短的时间内获得优异的烹饪结果。提供一种相对于烹饪食物具有改进的能力的烤箱，该烤箱具有可控的RF能量和对流能量，还可以实现对烤箱的控制和与烤箱配合的独特机会。
技术实现思路
<br>因此，一些示例性实施例可以提供用于控制烤箱并与烤箱配合的改进机构，该机构使用RF能量施加来至少部分地烹饪布置在烤箱腔中的食物。烤箱可以被配置成不仅能够实现用于提供改进的烹饪结果的独特机构，而且还可以通过更直观和更有信息的用户界面来增强用户体验。在示例性实施例中，提供了一种烤箱。烤箱可以包括被配置成接收食品的烹饪室、被配置成将加热的空气提供到烹饪室中的对流加热系统、被配置成使用固态电子部件将RF能量提供到烹饪室中的射频(RF)加热系统、以及被配置成控制对流加热系统和RF加热系统的控制电子器件。控制电子器件还可以控制被配置成限定用于提供用户输入以控制烤箱的操作的一个或多个控制台的用户界面。控制电子器件被配置成使得用户能够选择烹饪时间和所选择的RF烹饪功率，但是响应于学习进程而自动选择用于施加RF能量的频率和相位参数。在示例性实施例中，可以提供控制电子器件。控制电子器件可以包括用户界面。该控制电子器件可以被配置成控制RF加热系统，该RF加热系统被配置成使用固态电子部件将RF能量提供到烤箱的烹饪室中。控制电子器件可以被配置成限定用于提供用户输入以控制烤箱的操作的一个或多个控制台。控制电子器件可以被配置成使得用户能够选择烹饪时间和所选择的RF烹饪功率，但是响应于学习进程而自动选择用于施加RF能量的频率和相位参数。当利用使用示例性实施例的烤箱进行烹饪时，一些示例性实施例可以改进烹饪性能和/或改进操作者体验。附图说明已经如此概括地描述了本专利技术，现在将参考附图，附图不一定按比例绘制，图中：图1示出了根据示例性实施例的能够使用至少两个能量源的烤箱的透视图；图2示出了根据示例性实施例的图1的烤箱的功能性框图；图3示出了根据示例性实施例的控制电子器件的框图；图4示出了根据示例性实施例的可以在烹饪程序的执行期间显示的控制台；图5示出了根据示例性实施例的用于限定预热参数的参数选择屏；图6示出了根据示例性实施例的用于限定可被保存为食谱的烹饪操作的参数选择屏；图7示出了根据示例性实施例在执行烹饪操作之后的参数选择屏；图8示出了示出了根据示例实施例的学习进程的功率对时间的曲线图；以及；图9示出了根据示例性实施例的利用基于其的相应烹饪进程重复数次的学习进程的功率对时间的曲线图。具体实施方式现在将参考附图在下文中更全面地描述一些示例性实施例，其中示出了一些但并非所有示例性实施例。实际上，本文描述和图示的示例不应被解释为限制本公开的范围、适用性或配置。而是，提供这些示例性实施例以便本公开将满足适用的法律要求。相同的附图标记始终表示相同的元件。此外，如本文所使用，术语“或”应被解释为每当其操作数中的一个或多个为真时产生真的逻辑运算符。如本文所使用的，可操作耦合应当被理解为涉及直接或间接连接，在任一情况下，所述直接或间接连接能够实现可操作地彼此耦合的部件的功能互连。此外，如本文所用，术语“褐变”应理解为是指美拉德反应或其它期望的食品着色反应，由此通过酶或非酶方法使食品变成褐色。一些示例性实施例可以改进烤箱的烹饪性能和/或可以改进使用示例性实施例的个人的操作者体验。在这点上，烤箱可以至少部分地使用固态部件进行烹饪以控制RF能量的施加。然后通常可以提供用于控制RF能量施加和用于与烤箱相互作用的各种独特选择。图1示出了根据示例性实施例的烤箱100的透视图。如图1所示，烤箱100可以包括烹饪室102，食品可以放置在烹饪室102中，用于通过烤箱100可以使用的至少两个能量源中的任一个施加热量。烹饪室102可以包括门104和界面板106，当门104关闭时，界面板106可以位于门104附近。在这点上，例如，在替代实施例中，界面板106可以基本上位于门104上方(如图1所示)或在门104旁边。在示例性实施例中，界面板106可以包括触摸屏显示器，其能够向操作者提供视觉指示并且还能够接收来自操作者的触摸输入。界面板106可以是向操作者提供指令的机构，以及向操作者提供关于烹饪进程状态、选项等的反馈的机构。在一些实施例中，烤箱100可以包括多个支架或可以包括支架(或盘)支撑件108或引导槽，以便于一个或多个支架110或盘的插入，该一个或多个支架110或盘保持将要烹饪的食品。在示例性实施例中，空气输送孔口112可以被定位成邻近支架支撑件108(例如，在一个实施例中刚好在支架支撑件的水平下方)，以使得加热的空气能够经由加热空气循环风扇(图1中未示出)被迫进入烹饪室102中。加热空气循环风扇可经由设置在烹饪室102的后壁(即，与门104相对的壁)处的室出口120从烹饪室102吸入空气。空气可以从室出口120经由空气输送孔口112循环回到烹饪室102中。在经由室出口120从烹饪室102移除之后，在清洁的、热的和速度受控的空气返回到烹饪室102中之前，空气可以被其他部件清洁、加热并且推动通过系统。包括室出口120、空气输送孔口112、加热空气循环风扇、清洁部件以及它们之间的所有管道的该空气循环系统可以在烤箱100内形成第一空气循环系统。可以至少部分地使用射频(RF)能量来加热放置在盘或支架110之一上(或者在不使用支架110的实施例中仅仅是烹饪室102的基部上)的食品。同时，可提供的气流可被加热以实现进一步加热或甚至褐变。注意，在一些示例性实施例中，金属盘可以放置在支架支撑件108或支架110中的一个上。然而，烤箱100可以被配置成本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种烤箱，包括：/n烹饪室，被配置成接收食品；/n对流加热系统，被配置成将加热的空气提供到所述烹饪室中；/n射频(RF)加热系统，被配置成使用固态电子部件将RF能量提供到所述烹饪室中；以及/n控制电子器件，被配置成控制所述对流加热系统和所述RF加热系统，所述控制电子器件进一步控制被配置成限定一个或多个控制台的用户界面，所述控制台用于提供用户输入以控制所述烤箱的操作，/n其中所述控制电子器件被配置成使得用户能够选择烹饪时间和所选择的RF烹饪功率，但是响应于学习进程自动选择用于施加所述RF能量的频率和相位参数。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20161130 US 62/427,995;20171113 US 15/810,5501.一种烤箱，包括：
烹饪室，被配置成接收食品；
对流加热系统，被配置成将加热的空气提供到所述烹饪室中；
射频(RF)加热系统，被配置成使用固态电子部件将RF能量提供到所述烹饪室中；以及
控制电子器件，被配置成控制所述对流加热系统和所述RF加热系统，所述控制电子器件进一步控制被配置成限定一个或多个控制台的用户界面，所述控制台用于提供用户输入以控制所述烤箱的操作，
其中所述控制电子器件被配置成使得用户能够选择烹饪时间和所选择的RF烹饪功率，但是响应于学习进程自动选择用于施加所述RF能量的频率和相位参数。


2.根据权利要求1所述的烤箱，其中，所述学习进程包括：
在有待加热的物体位于所述烹饪室中时，将频带内的多个频率提供到所述烹饪室中，并且
基于相对于各个频率的吸收的效率测量来选择所述频率的子集。


3.根据权利要求2所述的烤箱，其中，在仅以所述频率的子集下施用所述RF烹饪功率之前，可以以低于所选择的RF烹饪功率的功率在所述多个频率上执行所述学习进程。


4.根据权利要求3所述的烤箱，其中，所述频率的子集是第一子集，并且
其中所述学习进程被重复至少一次以至少限定第二频率子集。


5.根据权利要求1所述的烤箱，其中，所述烹饪时间和所选择的RF烹饪功率是由所述用户手动可选择的。


6.根据权利要求5所述的烤箱，其中，所述对流加热系统的烹饪室温度和风扇速度也是由所述用户手动限定的。


7.根据权利要求1所述的烤箱，其中，所述用户通过选择限定所述烹饪时间和所选择的RF烹饪功率的烹饪程序或食谱来选择所述烹饪时间和所述所选择的RF烹饪功率。


8.根据权利要求7所述的烤箱，其中，所述对流加热系统的烹饪室温度和风扇速度也是通过选择所述烹饪程序来限定的。


9.根据权利要求1所述的烤箱，其中，所述用户界面进一步使得能够向所述烹饪时间增加附加时间，并且其中响应于添加所述附加时间，启动第二学习进程。


10.根据权利要求1所述的烤箱，其中，所述用户界面被配置成使得能够通过用户选择来限定可重复的一个或多个烹饪程序，并且其中在每次所述一个或多个烹饪程序是可重复时响应于所述学习进程的相应操作而单独地自动选择所述频率和所述相位参数，使得用于所述学习进程的第一实例的第一所选择的频率和相位参数不同于与用于执行一个烹饪程序的所...

【专利技术属性】
技术研发人员：克里斯汀·罗莱特，希娜·迈登，安德里亚·巴卡瑞，
申请(专利权)人：伊利诺斯工具制品有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US