新型手性联苯二膦配体及其制备方法技术

技术编号:22650623 阅读:24 留言:0更新日期:2019-11-26 18:35
本发明专利技术涉及式(I)的新型手性联苯二膦配体、或其立体异构体、或其立体异构体混合物:

A new chiral biphenyldiphosphonate ligand and its preparation

The invention relates to a novel chiral biphenyldiphosphonate ligand of formula (I), or its stereoisomer, or its stereoisomer mixture:

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】新型手性联苯二膦配体及其制备方法
本专利技术涉及化学产品及其制备方法。具体地,本专利技术涉及一种新型手性联苯二膦配体,用于制备该配体的中间体,及其制备方法。另外,本专利技术还涉及一种含有本专利技术的新型手性联苯二膦配体的手性过渡金属催化剂,以及本专利技术的手性过渡金属催化剂在不对称反应中的用途。
技术介绍
不对称催化是通过手性催化剂在各种不对称反应中的作用来获得大量对映体富集的化合物的最有效方法之一。对于不对称合成来说,高度有希望的候选者是带有手性配体的过渡金属络合物。尽管在不对称合成中采用了大量手性配体,但只有少数几种由化学和制药行业实际应用于手性分子的制造中。在这些配体中,BINAP是常用的手性配体之一。已经证明BINAP对许多不对称反应是高度有效的(Noyori和Takaya,Acc.Chern.Res.,1990,23,345;和Olkuma等人,Am.Chern.Soc.,1998,120,13529)。相关的轴向不对称配体,诸如MeO-BIPHEP和BIPHEMP,也已用于许多不对称反应中(Schmid等人,Pure&Appl.Chern.,1996,68,131;Foricher、Heiser和Schmid,美国专利号5,302,738;Michel,欧洲专利申请0667350A1;和Broger等人,WO92/16536)。BINAP、BIPHEMP和MeO-BIPHEP的结构示出如下。尽管在该领域中进行了广泛的研究,但是仍然存在这样的多种反应,在所述多种反应中使用这些配体仅实现了适度的对映选择性。因此,仍然高度需要开发在各种不对称催化反应中是选择性且有效的并且在合成上易获得的新型手性配体。
技术实现思路
本专利技术提供了式(I)化合物,或其立体异构体,或其立体异构体混合物,所述式(I)化合物,或其立体异构体,或其立体异构体混合物为新型手性联苯二膦配体:其中R1、R2和R3独立地为H、烷基或芳基;R6和R7独立地为取代基;并且A独立地为任选被一个或多个取代基取代的芳基或杂芳基。本专利技术还提供了本专利技术的式(I)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物的新型中间体及其制备方法。本专利技术还提供了手性过渡金属催化剂,所述手性过渡金属催化剂包含:本专利技术的式(I)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物;以及过渡金属,或其离子或络合物。本专利技术另外提供了本专利技术的手性过渡金属催化剂在不对称反应中的用途。具体实施方式在本申请中,术语“烷基”是指具有1-20个碳原子、优选具有1-7个碳原子的未取代或经取代的直链或支链烃基。示例性的未取代烷基包括甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、异丁基、戊基、新戊基、己基、异己基、庚基、辛基等。经取代的烷基包括但不限于被以下基团中的一个或多个取代的烷基:卤素、环烷基、烷氧基或芳基。在本申请中,术语“芳基”是指苯基,所述苯基可以任选地被1-4个取代基取代,诸如任选经取代的烷基、环烷基、卤素或烷氧基。在本申请中,术语“杂芳基”是指这样的单环、双环或三环体系,所述单环、双环或三环体系含有一个或两个芳环并且在其5至14个原子中,除非另有说明,否则一个、两个、三个、四个或五个是独立地选自N、O和S的杂原子,并且所述杂芳基包括噻吩基、呋喃基、吡咯基、吡啶基、吲哚基、喹啉基、异喹啉基、四氢喹啉基、苯并呋喃基、苯并噻吩基等。优选地,杂芳基是呋喃基或吡啶基。术语“环烷基”是指具有3-6个碳原子的任选经取代的单环脂族烃基,其可以被诸如烷基、烷氧基或卤素等一个或多个取代基取代。术语“烷氧基”是指烷基-O-。术语“卤素”、“卤化物”或“卤代”是指氟、氯、溴和碘。在本申请中,术语“取代基”是指烷基、环烷基、烷氧基或卤素。在第一方面,本专利技术提供了式(I)化合物,或其立体异构体,或其立体异构体混合物:其中R1、R2和R3独立地为H、烷基或芳基;R6和R7独立地为取代基;并且A独立地为任选被一个或多个取代基取代的芳基或杂芳基。优选地,R1、R2、R3、R6和R7独立地为H或烷基,更优选独立地为H。优选地,A是任选被一个或多个取代基取代的苯基,并且更优选地,A是更优选地,式(I)化合物是以下化合物或它们的混合物:式(I)化合物的立体异构体包括对映异构体和非对映异构体。例如,由于侧链中的手性中心还有联苯体系的轴向手性,因此式(I)化合物的立体异构体是式(I-1a)至(I-1d)的异构体或它们的混合物:其中,R1、R2、R3、R6、R7和A如上所定义。优选地,式(I)化合物的立体异构体是以下异构体或它们的混合物:本专利技术的化合物优选地具有至少85%对映体过量(ee)和非对映体过量(de)、更优选地至少95%ee和de以及最优选地至少98%ee和de的光学纯度。在第二方面中,本专利技术提供了式(II)的新型中间体,或其立体异构体,或其立体异构体混合物:其中R1、R2、R3、R6、R7和A如上所定义。式(II)化合物的立体异构体包括对映异构体和非对映异构体。例如,由于侧链中的手性中心还有联苯体系的轴向手性,式(II)化合物的立体异构体是式(II-1a)至(II-1d)的异构体或它们的混合物:其中R1、R2、R3、R6、R7和A如上所定义。根据本文所公开的方法,式(II)中间体、或其立体异构体、或其立体异构体混合物可用于制备式(I)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物。在第三方面中,本专利技术提供了一种用于制备式(I)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物的方法,所述方法包括:还原式(II)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物,以产生式(I)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物:其中R1、R2、R3、R6、R7和A如上所定义。上述还原可以如本领域中已知的从氧化膦到膦那样进行(参见DamienHérault等人,Chem.Soc.Rev.,2015(44),2508-2528)。在一个实施方式中,在诸如三甲胺和三丁胺的碱的存在下,在诸如二甲苯、甲苯和四氢呋喃(THF)的溶剂中用诸如三氯硅烷的还原剂来还原式(II)化合物,以提供式(I)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物。在该实施方式中,还原剂可以每摩尔式(II)化合物、或其立体异构体或其立体异构体混合物2摩尔至20摩尔、优选地2摩尔至10摩尔、更优选地4摩尔至8摩尔的量加入;碱可以每摩尔式(II)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物2摩尔至20摩尔、优选地2摩尔至10摩尔、更优选地4摩尔至8摩尔的量加入。在该方法中,反应可以在50℃至200℃、优选地100℃至160℃、更优选地在回流下的温度下进行。优选地,反应可以在诸如氮气或氩气的惰性气体的保护下进行。该方法的产物,即式本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.式(I)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物:/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170411 CN PCT/CN2017/0800631.式(I)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物:



其中R1、R2和R3独立地为H、烷基或芳基;
R6和R7独立地为取代基;并且
A独立地为任选被一个或多个取代基取代的芳基或杂芳基。


2.根据权利要求1所述的化合物,其中R1、R2、R3、R6和R7独立地为H或烷基;并且A是被一个或多个取代基取代的苯基。


3.根据权利要求1或2所述的化合物,其中A是苯基,或





4.根据权利要求1-3中任一项所述的化合物,其中所述式(I)化合物是以下化合物或它们的混合物:





5.根据权利要求1-3中任一项所述的化合物,其中所述立体异构体为式(I-la)至(I-1d)的异构体或它们的混合物:



其中R1、R2、R3、R6、R7和A如上定义。


6.根据权利要求1-3中任一项所述的化合物,其中所述立体异构体是以下异构体或它们的混合物:





7.式(II)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物



其中R1、R2、R3、R6、R7和A如权利要求1-6中任一项所定义。


8.根据权利要求7所述的化合物,其中所述立体异构体为式(II-1a)至(II-1d)的异构体或它们的混合物:



其中R1、R2、R3、R6、R7和A如权利要求1-6中任一项所定义。


9.一种生产式(I)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物的方法,所述方法包括:
还原式(II)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物,以产生所述式(I)化合物、或其立体异构体、或其立体异构体混合物:



其中R1、R2、R3、R6、R7和A如权利要求1-6中任一项所定义。


10.根据权利要求9所述的方法,其中所述式(II)化合物、或其立体异构体、或立体异构体混合物是通过包括以下的方法生产的:
1)在碱诸如三甲胺(Et3N)和催化剂优选钯催化剂例如PdCl...

【专利技术属性】
技术研发人员:维尔纳·邦拉蒂冯正川乔纳森·艾伦·米德洛克彭坤朱志斌
申请(专利权)人:帝斯曼知识产权资产管理有限公司
类型:发明
国别省市:荷兰;NL

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