The invention provides a tail gas cleaning unit for a vapor deposition device, which comprises a jet chamber and a filter screen structure. The jet chamber comprises an outer wall and an inner wall, the inner wall is shaped into a cylinder with an inner cavity, the outer wall is arranged around the inner wall, and is separated from the inner side wall by phases, and the inner wall is formed on the inner wall and penetrates the inner wall along the thickness direction of the inner wall A jet hole of the side wall is formed on the outer wall with a fluid inlet penetrating the outer wall along the thickness direction of the outer wall, so that the fluid flowing through the opening at one end of the inner cavity surrounded by the inner wall can flow out through the screen structure and from the opening at the other end of the inner cavity surrounded by the inner wall. The invention also provides an exhaust gas cleaning device and a vapor deposition device. There are few or no residual particles in the tail gas treatment pipeline device of the vapor deposition device, so the maintenance period of the vacuum pump can be extended.
【技术实现步骤摘要】
尾气清理单元、尾气清理装置和气相沉积设备
本专利技术涉及气相沉积设备领域,具体地,涉及一种尾气清理单元、一种包括该尾气清理单元的尾气清理装置和一种包括该尾气清理单元的气相沉积设备。
技术介绍
所谓气相沉积是指,通过向气相沉积设备的工艺腔内通入工艺气体的方式在设置在工艺腔内的衬底上形成膜层结构。气相沉积设备包括将反应尾气从工艺腔内排出的尾气管,沉积步骤结束后,需要利用真空泵将过剩的工艺气体通过尾气管抽出工艺腔。在上述过程中,未反应的工艺气体可能会进一步沉积在尾气管的管壁以及设置在尾气管中的阀门上,不仅有可能影响阀门的正常动作,还可能被抽入真空泵中,对真空泵造成损坏。例如,在利用图1中所示的气相沉积设备进行形成Al2O3薄膜的单原子层沉积工艺时,首先向沉积腔室200内通入三甲基铝(TMA,TrimethylAluminum)气体,使三甲基铝附着在基片A上,随后通入净化气体进行吹扫,利用真空泵500通过尾气处理管10将净化气体以及过剩的TMA气体抽出。吹扫完成后,通入水气雾,使得水分子沉积在衬底上,并与TMA分子反应,形成三氧化二铝薄膜。随后通入净化气体,对工艺腔以及管路进行吹扫。在吹扫的过程中,未反应的工艺气体可能会继续反应,产生三氧化二铝附着在管壁上以及阀门上,三氧化二铝是难溶于水的白色固体,质极硬,附着在管壁易产生颗粒,并且,形成在阀门上的三氧化二铝会影响阀门的正常动作。并且,当吹扫结束后利用真空泵对沉积腔室进行抽真空时,未反应的气体可能会进入真空泵中继续反应,在真空泵中生成三氧化二铝 ...
【技术保护点】
1.一种用于气相沉积设备的尾气清理单元,其特征在于,所述尾气清理单元包括喷射腔和滤网结构,所述喷射腔包括外侧壁和内侧壁,所述内侧壁形成为具有内腔的筒状,所述外侧壁环绕所述内侧壁设置,且与所述内侧壁相间隔,所述内侧壁上形成有沿所述内侧壁的厚度方向贯穿所述内侧壁的喷射孔,所述外侧壁上形成有沿所述外侧壁的厚度方向贯穿所述外侧壁的流体入口,以使得通过所述内侧壁围成的内腔的一端的开口流入的流体能够通过所述滤网结构并从所述内侧壁围成的内腔的另一端的开口流出。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于气相沉积设备的尾气清理单元,其特征在于,所述尾气清理单元包括喷射腔和滤网结构,所述喷射腔包括外侧壁和内侧壁,所述内侧壁形成为具有内腔的筒状,所述外侧壁环绕所述内侧壁设置,且与所述内侧壁相间隔,所述内侧壁上形成有沿所述内侧壁的厚度方向贯穿所述内侧壁的喷射孔,所述外侧壁上形成有沿所述外侧壁的厚度方向贯穿所述外侧壁的流体入口,以使得通过所述内侧壁围成的内腔的一端的开口流入的流体能够通过所述滤网结构并从所述内侧壁围成的内腔的另一端的开口流出。
2.根据权利要求1所述的尾气清理单元,其特征在于,所述滤网结构包括滤网、上安装板和下安装板,所述滤网连接在所述上安装板和所述下安装板之间,且围成筒状,所述上安装板与所述内侧壁之间形成有间隔,所述下安装板与所述内侧壁相对固定设置,且所述下安装板上设置有与所述内侧壁围成的内腔的另一端的开口相通的流体出口。
3.根据权利要求2所述的尾气清理单元,其特征在于,所述滤网结构还包括支撑杆,所述支撑杆的一端与所述上安装板固定连接,所述支撑杆的另一端与所述下安装板固定连接。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的尾气清理单元,其特征在于,所述喷射腔还包括上连接板和下连接板,所述上连接板连接所述外侧壁的上端和所述内侧壁的上端,且所述下连接板连接所述外侧壁的下端和所述内侧壁的下端。
5.根据权利要求1至3中任意一项所述的尾气清理单元,其特征在于,所述尾气清理单元还包括第一导流管、第二导流管、第三开关阀和第四开关阀,所述第一导流管的一端与所述流体入口连通,所述第二导流管与所述第一导流管连通,所述第一导流管上设置有所述第三开关阀,所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:兰云峰,史小平,李春雷,王勇飞,王帅伟,
申请(专利权)人:北京北方华创微电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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