光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置制造方法及图纸

技术编号:22615554 阅读:6 留言:0更新日期:2019-11-20 20:15
本实用新型专利技术涉及一种光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置,用于调节光源的温度和功率,其特征在于,所述光处理装置的控制系统包括:光处理装置、温度控制模块和功率控制模块。上述光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置使用温度检测单元和功率检测单元对光源的温度及功率进行检测,并通过温度控制单元和功率控制单元对温度调节单元和功率调节单元对光源的温度和功率进行调节,从而使光源维持在低温状态,对光源起到了较好的保护作用,也保证所处理产品表面满足要求的处理温度,从而提高所处理产品的高通过率,同时使光源辐射的紫外光线维持在要求的稳定数值,保证硅胶产品表面处理性能的一致性。

Control system, luminous device and silica gel surface treatment device of light treatment device

The utility model relates to a control system, a light-emitting device and a silica gel surface treatment device of an optical treatment device, which are used for adjusting the temperature and power of a light source, and is characterized in that the control system of the optical treatment device includes an optical treatment device, a temperature control module and a power control module. The control system, the light-emitting device and the silica gel surface treatment device of the light treatment device use the temperature detection unit and the power detection unit to detect the temperature and the power of the light source, and adjust the temperature and the power of the light source through the temperature control unit and the power control unit, so as to maintain the light source in a low temperature state and start the light source It has a good protective effect, and also ensures that the surface of the processed products can meet the required treatment temperature, so as to improve the high pass rate of the processed products. At the same time, it can maintain the UV light radiated by the light source at the required stable value, and ensure the consistency of the surface treatment performance of the silica gel products.

【技术实现步骤摘要】
光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置
本技术涉及光处理
,特别是涉及一种光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置。
技术介绍
紫外线除用来消毒和杀菌外,广泛应用在硅胶的表面处理。硅胶的表面处理是采用臭氧和紫外光线等产生的一系列复杂的反应,使硅胶表面满足一定的要求。在硅胶产品表面处理的时候,需要光源辐射稳定功率的紫外波段的光线,并且为保护硅胶产品内部的电子电路或者硅胶产品的温度,需要硅胶产品辐射面的温度不能超过一定的界限,而光源在工作的过程中,本体的温度会升高,光源本体温度的升高会造成光源的寿命减少,同时辐射到硅胶产品表面的热量会增高,造成硅胶产品辐射面温度的升高;另外,在硅胶产品表面处理的过程中,光源的紫外波段的光线是一种衰减的曲线,无法稳定输出,会导致硅胶产品表面处理性能不一致。
技术实现思路
基于此,有必要针对光源在工作的过程中,本体的温度会升高,光源本体温度的升高会造成光源的寿命减少,同时辐射到硅胶产品表面的热量会增高,造成硅胶产品辐射面温度的升高和在硅胶产品表面处理的过程中,光源的紫外波段的光线是一种衰减的曲线,无法稳定输出,会导致硅胶产品表面处理性能不一致问题,提供一种光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置。一种光处理装置的控制系统,光处理装置包括选择性的吸收或透过光源光线的液态介质,用于对光源的光进行处理,所述光处理装置的控制系统包括:温度控制模块,所述温度控制模块包括温度检测单元、温度控制单元和温度调节单元;所述温度检测单元与所述温度控制单元相连,以将检测的所述光源和/或液态介质的温度信息传送给所述温度控制单元;所述温度控制单元与温度调节单元连接,以根据所述温度信息控制温度调节单元调节所述液态介质的温度。在其中一个实施例中,所述光处理装置的控制系统还包括功率控制模块,所述功率控制模块包括功率检测单元、功率控制单元和功率调节单元;所述功率检测单元与所述功率控制单元相连,以将检测的所述光源和/或透过液态介质的光线的功率信息传送给所述功率控制单元;所述功率控制单元与所述功率调节单元连接,以根据所述功率信息控制功率调节单元调节所述光源的功率。在其中一个实施例中,所述光处理装置还包括壳体,所述壳体包括出光面,所述光源与所述出光面之间有液态介质,所述光源发出的光通过液态介质选择性的吸收或透过后从出光面透出。在其中一个实施例中,所述温度检测单元包括温度传感器,所述温度传感器设置于所述液态介质中。在其中一个实施例中,所述温度检测单元与所述温度控制单元通过温度传感器信号相连。在其中一个实施例中,所述温度调节单元包括散热流道,所述散热流道包括传输管道、液体泵和散热器,所述液体泵和散热器设置于所述传输管道上,所述液体泵将所述液态介质送入所述传输管道一端,经过所述散热器散热后从传输管道另一端输出。在其中一个实施例中,所述功率检测单元包括辐照传感器,所述辐照传感器设置于所述壳体的出光面位置。在其中一个实施例中,所述功率检测单元与所述功率控制单元通过辐照传感器信号相连。在其中一个实施例中,所述功率调节单元包括镇流器,所述镇流器连接光源,所述功率控制单元连接所述镇流器以通过镇流器调节所述光源的功率。在其中一个实施例中,所述温度控制单元和功率控制单元为同一控制器。一种发光装置,包括光源以及上述光处理装置的控制系统。一种硅胶表面处理装置,包括上述发光装置,还包括箱体,所述发光装置设置在箱体内,所述光处理装置的控制系统还包括空气处理模块,所述箱体与空气处理模块连接。上述光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置使用温度检测单元对光源的温度进行检测,并通过温度控制单元控制温度调节单元对光源的温度进行调节,从而使光源维持在低温状态,对光源起到了较好的保护作用,也保证所处理产品表面满足要求的处理温度,从而提高所处理产品的高通过率。附图说明图1为本技术一实施例的光处理装置的控制系统的示意图;图2为本技术一实施例的温度控制模块的示意图;图3为本技术一实施例的功率控制模块的示意图。具体实施方式为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本申请进行进一步详细说明。应当理解,此处描述的具体实施例仅仅用以解释本申请,并不用于限定本申请。在硅胶产品表面处理的时候,需要光源辐射稳定功率的紫外波段的光线,并且为保护硅胶产品内部的电子电路或者硅胶产品的温度,需要硅胶产品辐射面的温度不能超过一定的界限,而光源8在工作的过程中,本体的温度会升高,光源本体温度的升高会造成光源的寿命减少,同时辐射到硅胶产品表面的热量会增高,造成硅胶产品辐射面温度的升高;另外,在硅胶产品表面处理的过程中,光源的紫外波段的光线是一种衰减的曲线,无法稳定输出,会导致硅胶产品表面处理性能不一致。请参阅图1,图1为本技术一实施例的光处理装置的控制系统的示意图。在本实施例中,所述光处理装置的控制系统用于调节光源8的温度和功率,光处理装置包括选择性的吸收或透过光源光线的液态介质,用于对光源的光进行处理。所述光处理装置的控制系统包括温度控制模块和功率控制模块。所述光处理装置用于容置所述光源8;所述温度控制模块包括温度检测单元、温度控制单元和温度调节单元,所述温度检测单元与所述温度控制单元相连,以将检测的所述光源8和/或液态介质的温度信息传送给所述温度控制单元,所述温度控制单元与温度调节单元连接,以根据所述温度信息控制温度调节单元调节所述液态介质的温度以调节所述光源8的温度;所述功率控制模块包括功率检测单元、功率控制单元和功率调节单元,所述功率检测单元与所述功率控制单元相连,以将检测的所述光源8和/或透过液态介质的光线的功率信息传送给所述功率控制单元,所述功率控制单元与所述功率调节单元连接,以根据所述功率信息控制功率调节单元调节所述光源8的功率。在本实施例中,所述光处理装置用于容置所述光源8,还用于对光源8的光进行处理。所述光处理装置包括壳体7、液态介质14和反射罩9。所述壳体7包括出光面;所述光源8与所述出光面之间有液态介质14;所述光源8发出的光通过液态介质14选择性的吸收或透过后从出光面透出。在一实施例中,所述光源8发出至少包括第一波长范围和第二波长范围的光,第一波长范围和第二波长范围不同或具有部分交集,通过所述液态介质14吸收第二波长范围的光后将第一波长范围的光从出光面透出全部或部分波段的光,能够从出光面透出的这一波长范围的光为需要的目标光源8。在一实施例中,所述壳体7具有凹槽,所述光源8设置于所述壳体7形成的凹槽中。在本实施例中,所述壳体7凹槽可作为透明容器,所述光源8发出的光线从所述透明容器的表面向外发射。在其它实施例中,所述壳体7可以为仅有部分透光区域的容器,透光区域为出光面。如图1,所述壳体7的至少一侧为透光材质且作为出光面,容器为长本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光处理装置的控制系统,其特征在于,光处理装置包括选择性的吸收或透过光源光线的液态介质,用于对光源的光进行处理,所述控制系统包括温度控制模块,/n所述温度控制模块包括温度检测单元、温度控制单元和温度调节单元;/n所述温度检测单元与所述温度控制单元相连,以将检测的所述光源和/或液态介质的温度信息传送给所述温度控制单元;/n所述温度控制单元与温度调节单元连接,以根据所述温度信息控制温度调节单元调节所述液态介质的温度。/n

【技术特征摘要】
1.一种光处理装置的控制系统,其特征在于,光处理装置包括选择性的吸收或透过光源光线的液态介质,用于对光源的光进行处理,所述控制系统包括温度控制模块,
所述温度控制模块包括温度检测单元、温度控制单元和温度调节单元;
所述温度检测单元与所述温度控制单元相连,以将检测的所述光源和/或液态介质的温度信息传送给所述温度控制单元;
所述温度控制单元与温度调节单元连接,以根据所述温度信息控制温度调节单元调节所述液态介质的温度。


2.根据权利要求1所述的光处理装置的控制系统,其特征在于,所述光处理装置的控制系统还包括功率控制模块,
所述功率控制模块包括功率检测单元、功率控制单元和功率调节单元;
所述功率检测单元与所述功率控制单元相连,以将检测的所述光源和/或透过液态介质的光线的功率信息传送给所述功率控制单元;
所述功率控制单元与所述功率调节单元连接,以根据所述功率信息控制功率调节单元调节所述光源的功率。


3.根据权利要求2所述的光处理装置的控制系统,其特征在于,所述光处理装置还包括壳体,所述壳体包括出光面,所述光源与所述出光面之间有液态介质,所述光源发出的光通过液态介质选择性的吸收或透过后从出光面透出。


4.根据权利要求3所述的光处理装置的控制系统,其特征在于,所述温度检测单元包括温度传感器,所述温度传感器设置于所述液态介质中。


5.根据权利要求4所述的光处理装置的控制系...

【专利技术属性】
技术研发人员:路如旃苏红宏
申请(专利权)人:浙江清华柔性电子技术研究院
类型:新型
国别省市:浙江;33

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