组合物制造技术

对于被膜形成用组合物，有时要求保存稳定性良好，但就以往已知的组合物而言，其保存稳定性不能说是充分的。因此，本发明专利技术的目的在于提供一种保存稳定性优异的、包含有机硅化合物的组合物。本发明专利技术提供下述组合物，其包含下述式(a1)表示的有机硅化合物(A)、下述式(b1)表示的金属化合物(B)、羧酸化合物(C)、和酸催化剂。

Composition

For the composition for film formation, sometimes good preservation stability is required, but for the previously known composition, its preservation stability cannot be said to be sufficient. Therefore, the object of the invention is to provide a composition containing organosilicon compound with excellent preservation stability. The invention provides the following composition, which includes organosilicon compound (a) represented by formula (A1), metal compound (b) represented by formula (B1), carboxylic acid compound (c), and acid catalyst.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】组合物
本专利技术涉及包含有机硅化合物和羧酸化合物的组合物。
技术介绍
在各种显示装置、光学元件、半导体元件、建筑材料、汽车部件、纳米压印技术等中，由于在基材的表面附着液滴，有时发生基材的污染、腐蚀、以及由该污染、腐蚀导致的性能下降等问题。因此，在这些领域中，要求基材表面的疏水性及疏油性良好。作为能实现疏水性及疏油性的被膜的组合物，以有机硅氧烷为主成分的组合物是已知的，例如，专利文献1中，公开了前体(A)与交联剂(B)的两者混合液组合物，所述前体(A)为由作为有机硅基团的R1·Si基(R1为一价烃基)和作为官能性侧链的OR2基(R2为氢原子或C1～C5的烷基或酰基)构成的液态有机硅氧烷的2种以上的组合化合物组。专利文献1中，记载了通过预先用丙二酸二酯、乙酰丙酮等酮·烯醇型互变异构化合物将交联剂(B)掩蔽，从而组合物的保存稳定性提高。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平5-230375号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题如专利文献1中记载那样，对于被膜形成用组合物，有时要求保存稳定性良好，本申请的专利技术人经研究发现，即使利用专利文献1中公开的组合物，其保存稳定性也尚不能说是充分的。因此，本专利技术的目的在于提供一种保存稳定性优异的、包含有机硅化合物的组合物。用于解决课题的手段本专利技术涉及下述的包含有机硅化合物和羧酸化合物的组合物。[1]组合物，其包含：下述式(a1)表示的有机硅化合物(A1)，<br>下述式(b1)表示的金属化合物(B)，羧酸化合物(C)，和酸催化剂。[化学式1][前述式(a1)中，Ra10表示亚甲基的一部分可以替换成氧原子、1个以上的氢原子可以替换成氟原子的碳原子数为6～20的烷基，多个Aa1各自独立地表示水解性基团，Za1表示含有烃链的基团，x为0或1，Za1与Ra10可以相同也可以不同。另外，在多个式(a1)之间，Ra10与Za1可以相同也可以不同。][化学式2]M(Rb10)r(Ab1)m-r(b1)[前述式(b1)中，Rb10表示碳原子数为5以下的含有烃链的基团，Ab1各自独立地表示水解性基团，M表示Al、Fe、In、Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr、或Ta。m根据金属原子而表示1～5的整数，r为0或1。][2]如[1]所述的组合物，其中，前述式(a1)表示的有机硅化合物(A1)、前述式(b1)表示的金属化合物(B)及前述羧酸化合物(C)的总浓度为0.02质量％以上且30质量％以下。[3]组合物，其包含：下述式(a1)表示的有机硅化合物(A1)，下述式(b1)表示的金属化合物(B)，和羧酸化合物(C)，前述有机硅化合物(A1)及前述羧酸化合物(C)的总浓度为0.001质量％以上且3.5质量％以下。[化学式3][前述式(a1)中，Ra10表示亚甲基的一部分可以替换成氧原子、1个以上的氢原子可以替换成氟原子的碳原子数为6～20的烷基，多个Aa1各自独立地表示水解性基团，Za1表示含有烃链的基团，x为0或1，Za1与Ra10可以相同也可以不同。另外，在多个式(a1)之间，Ra10与Za1可以相同也可以不同。][化学式4]M(Rb10)r(Ab1)m-r(b1)[前述式(b1)中，Rb10表示碳原子数为5以下的含有烃链的基团，Ab1各自独立地表示水解性基团，M表示Al、Fe、In、Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr、或Ta。m根据金属原子而表示1～5的整数，r为0或1。][4]如[1]～[3]中任一项所述的组合物，其中，前述金属化合物(B)与前述有机硅化合物(A1)的摩尔比(B/A1)为0.1以上且48以下。[5]如[1]～[4]中任一项所述的组合物，其中，前述有机硅化合物(A1)由下述式(a1-2)表示。[化学式5]Ra11-Si(Aa1)3(a1-2)[前述式(a1-2)中，Ra11为氢原子可以被氟原子取代的碳原子数为6～20的烷基，多个Aa1各自独立地表示水解性基团。][6]组合物，其包含：下述式(a2)表示的有机硅化合物(A2)，下述式(b1)表示的金属化合物(B)，和羧酸化合物(C)。[化学式6][前述式(a2)中，Ra20表示含有三烷基甲硅烷基的分子链，多个Aa2各自独立地表示水解性基团，Za2表示含有三烷基甲硅烷基的分子链、或含有硅氧烷骨架的基团，y为0或1。][化学式7]M(Rb10)r(Ab1)m-r(b1)[前述式(b1)中，Rb10表示碳原子数为5以下的含有烃链的基团，Ab1各自独立地表示水解性基团，M表示Al、Fe、In、Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr、或Ta。m根据金属原子而表示1～5的整数，r为0或1。][7]如[6]所述的组合物，其中，前述有机硅化合物(A2)由下述式(a2-2)表示。[化学式8][前述式(a2-2)中，n为1～30][8]如[6]或[7]所述的组合物，其中，前述金属化合物(B)与前述有机硅化合物(A2)的摩尔比(B/A2)为0.1以上且48以下。[9]如[1]～[8]中任一项所述的组合物，其中，相对于前述有机硅化合物(A1)或有机硅化合物(A2)、与金属化合物(B)的合计100质量份而言，上述羧酸化合物(C)为1～21质量份。[10]如[1]～[9]中任一项所述的组合物，其中，前述金属化合物(B)由下述式(b2)表示。[化学式9]Si(ORb11)4(b2)[前述式(b2)中，Rb11为碳原子数为1～6的烷基][11]如[1]～[10]中任一项所述的组合物，其中，前述羧酸化合物(C)为多元羧酸。[12]如[1]～[11]中任一项所述的组合物，其中，前述羧酸化合物(C)由下述式(c1)表示。[化学式10][前述式(c1)中，Rc1及Rc2各自独立地表示单键、可以具有羧基的碳原子数为1～10的2价脂肪族烃基、或可以具有羧基的碳原子数为6～10的2价芳香族烃基。Rc3及Rc4各自独立地表示可以具有羧基的碳原子数为1～10的烷基、或氢原子。q1表示0或1。][13]如[1]～[12]中任一项所述的组合物，其中，前述羧酸化合物(C)由下述式(c2)表示。[化学式11][前述式(c2)中，p表示0～2的整数。]专利技术的效果通过本专利技术，能抑制由在常温下保存一定时间后的组合物得到的被膜的性能下降。...

【技术保护点】
1.组合物，其包含：/n下述式(a1)表示的有机硅化合物(A1)，/n下述式(b1)表示的金属化合物(B)，/n羧酸化合物(C)，和/n酸催化剂，/n[化学式1]/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170331 JP 2017-0709901.组合物，其包含：
下述式(a1)表示的有机硅化合物(A1)，
下述式(b1)表示的金属化合物(B)，
羧酸化合物(C)，和
酸催化剂，
[化学式1]



所述式(a1)中，Ra10表示亚甲基的一部分可以替换成氧原子、1个以上的氢原子可以替换成氟原子的碳原子数为6～20的烷基，
多个Aa1各自独立地表示水解性基团，
Za1表示含有烃链的基团，
x为0或1，
Za1与Ra10可以相同也可以不同，
另外，在多个式(a1)之间，Ra10与Za1可以相同也可以不同，
[化学式2]
M(Rb10)r(Ab1)m-r(b1)
所述式(b1)中，
Rb10表示碳原子数为5以下的含有烃链的基团，
Ab1各自独立地表示水解性基团，
M表示Al、Fe、In、Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr、或Ta，
m根据金属原子而表示1～5的整数，
r为0或1。


2.如权利要求1所述的组合物，其中，所述式(a1)表示的有机硅化合物(A1)、所述式(b1)表示的金属化合物(B)及所述羧酸化合物(C)的总浓度为0.02质量％以上且30质量％以下。


3.组合物，其包含：
下述式(a1)表示的有机硅化合物(A1)，
下述式(b1)表示的金属化合物(B)，和
羧酸化合物(C)，
其中，所述有机硅化合物(A1)及所述羧酸化合物(C)的总浓度为0.001质量％以上且3.5质量％以下，
[化学式3]



所述式(a1)中，Ra10表示亚甲基的一部分可以替换成氧原子、1个以上的氢原子可以替换成氟原子的碳原子数为6～20的烷基，
多个Aa1各自独立地表示水解性基团，
Za1表示含有烃链的基团，
x为0或1，
Za1与Ra10可以相同也可以不同，
另外，在多个式(a1)之间，Ra10与Za1可以相同也可以不同，
[化学式4]
M(Rb10)r(Ab1)m-r(b1)
所述式(b1)中，
Rb10表示碳原子数为5以下的含有烃链的基团，
Ab1各自独立地表示水解性基团，
M表示Al、Fe、In、Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr、或Ta，
m根据金属原子而表示1～5的整数，
r为0或1。


4.如权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，所述金属化合物(B)与所述有机硅化合物(A1)的摩尔比(B/A1)为0.1以上且48以下。


5.如权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，所述有机硅化合物(A1)由下述式(a1-2)表示，
[化学式5]...

【专利技术属性】
技术研发人员：上原满，伊藤友宏，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP