本发明专利技术的课题在于提供具有良好的透明性及良好的耐弯曲性的聚酰亚胺系膜。聚酰亚胺系膜，其包含聚酰亚胺系高分子，在小角X射线散射测定中，在波数区域q(nm
Polyimide film and display device
The subject of the invention is to provide a polyimide system film with good transparency and good bending resistance. Polyimide film, which contains polyimide polymer, in small angle X-ray scattering measurement, in the wave number region Q (NM
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚酰亚胺系膜及显示装置
本专利技术涉及聚酰亚胺系膜及显示装置。
技术介绍
作为最近的显示器的趋势，要求轻量且具有薄型的形状，能在非平坦的表面进行不存在不均的显示。因此，作为代替玻璃基板的基板，最近已进行了柔软且具有柔性的显示器基板的开发。为了达成该目的，作为柔性的塑料基板，已开发了聚碳酸酯基板、聚对苯二甲酸乙二醇酯基板及聚酰亚胺基板等用于平板显示器。例如，专利文献1中报道称，可由分散有经微粒化的二氧化硅的聚酰亚胺树脂组合物，得到在保持了以往的物性的情况下、透明性、柔性、耐折性优异的聚酰亚胺膜。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-215412号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而，在聚酰亚胺系树脂组合物中添加二氧化硅微粒时，虽然形成的膜的弹性模量提高，但另一方面，存在耐弯曲性下降的趋势。因此，在添加了二氧化硅微粒的情况下，对形成的膜的耐弯曲性的改善构成为了作为柔性显示器用的构件使用的课题。因此，本专利技术的目的在于提供具有良好的透明性及良好的耐弯曲性的聚酰亚胺系膜、及使用其的显示装置。用于解决课题的手段本申请的专利技术人发现，如果是在小角X射线散射测定中显示特定的散射模式(pattern)的膜，则能解决上述课题，从而完成了专利技术。即，本专利技术涉及下述[1]～[8]。[1]聚酰亚胺系膜，其包含聚酰亚胺系高分子，在小角X射线散射测定中，在波数区域q(nm-1)为0.01＜q＜0.2的范围内具有散射强度的极大峰，并且，将q＝0.03时的散射强度作为初始散射强度(I0)，极大峰的散射强度(Ip)与初始散射强度之比(Ip/I0)为0.8以上且3.8以下。[2]如上述[1]所述的聚酰亚胺系膜，其还包含微粒。[3]如上述[2]所述的聚酰亚胺系膜，其中，前述微粒是使用由BET法测得的比表面积算出的一次粒径为31nm以上且60nm以下的第1二氧化硅微粒、与使用由BET法测得的比表面积算出的一次粒径为16nm以上且30nm以下的第2二氧化硅微粒的混合物。[4]如上述[2]或[3]所述的聚酰亚胺系膜，其中，前述微粒为利用动态光散射法测定的体积平均粒径为50nm以上且100nm以下的第1二氧化硅微粒、与利用动态光散射法测定的体积平均粒径为25nm以上且49nm以下的第2二氧化硅微粒的混合物。[5]如上述[2]～[4]中任一项所述的聚酰亚胺系膜，其中，前述微粒的多分散指数为10～29％。[6]如上述[2]～[5]中任一项所述的聚酰亚胺系膜，其中，以前述聚酰亚胺系高分子和前述微粒的总含量为基准，前述微粒的含量为10质量％以上且60质量％以下，前述微粒为二氧化硅微粒。[7]如上述[2]～[6]中任一项所述的聚酰亚胺系膜，其中，相对于前述聚酰亚胺系高分子和前述微粒的总含量100质量份而言，还包含0.1质量份以上且3.0质量份以下的金属醇盐，前述微粒为二氧化硅微粒。[8]显示装置，其具备上述[1]～[7]中任一项所述的聚酰亚胺系膜。专利技术的效果通过本专利技术，可提供具有良好的透明性及良好的耐弯曲性的聚酰亚胺系膜、及使用其的显示装置。附图说明[图1]为表示实施例1～5中得到的各膜的小角X射线散射曲线图的图，纵轴及横轴这两方均为对数坐标。[图2]为表示比较例1～3中得到的各膜的小角X射线散射曲线图的图，纵轴及横轴这两方均为对数坐标。具体实施方式以下，基于具体实施方式来详细地说明本专利技术。[聚酰亚胺系树脂组合物]首先，对用于形成本实施方式的聚酰亚胺系膜的聚酰亚胺系树脂组合物进行说明。本实施方式涉及的聚酰亚胺系树脂组合物包含聚酰亚胺系高分子。聚酰亚胺系树脂组合物优选包含有助于改善膜的特性的微粒，作为该微粒，可举出金属氧化物等无机微粒、树脂微粒。(聚酰亚胺系高分子)本说明书中，所谓聚酰亚胺系高分子，是指包含式(PI)、式(a)、式(a’)或式(b)表示的重复结构单元中的至少1种的聚合物。其中，式(PI)表示的重复结构单元为聚酰亚胺系高分子的主要结构单元时，从膜的强度及透明性的观点考虑是优选的。以聚酰亚胺系高分子的全部重复结构单元为基准，式(PI)表示的重复结构单元优选为40摩尔％以上，更优选为50摩尔％以上，进一步优选为70摩尔％以上，特别优选为90摩尔％以上，特别进一步优选为98摩尔％以上。[化学式1]式(PI)中的G表示4价的有机基团，A表示2价的有机基团。式(a)中的G2表示3价的有机基团，A2表示2价的有机基团。式(a’)中的G3表示4价的有机基团，A3表示2价的有机基团。式(b)中的G4及A4分别表示2价的有机基团。式(PI)中，关于G表示的4价的有机基团的有机基团(以下，有时称为G的有机基团)，可举出选自由非环式脂肪族基团、环式脂肪族基团、及芳香族基团组成的组中的基团。从聚酰亚胺系膜的透明性及弯曲性的观点考虑，G优选为4价的环式脂肪族基团及4价的芳香族基团。作为芳香族基团，可举出单环式芳香族基团、稠合多环式芳香族基团、及芳香族基团直接连接或通过连接基团相互连接而成的非稠合多环式芳香族基团等。从聚酰亚胺系膜的透明性及抑制着色的观点考虑，G的有机基团可以为环式脂肪族基团、具有氟系取代基的环式脂肪族基团、具有氟系取代基的单环式芳香族基团、具有氟系取代基的稠合多环式芳香族基团或具有氟系取代基的非稠合多环式芳香族基团。本说明书中，所谓氟系取代基，是指包含氟原子的基团。氟系取代基优选为氟基(氟原子，-F)及全氟烷基，进一步优选为氟基及三氟甲基。更具体而言，G的有机基团例如可从饱和或不饱和环烷基、饱和或不饱和杂环烷基、芳基、杂芳基、芳基烷基、烷基芳基、杂烷基芳基、及具有它们中的任意2个基团(可以相同)且它们直接连接或通过连接基团相互连接而成的基团中选择。作为连接基团，可举出-O-、碳原子数为1～10的亚烷基、-SO2-、-CO-或-CO-NR-(R表示甲基、乙基、丙基等碳原子数为1～3的烷基或氢原子)。G表示的4价的有机基团的碳原子数通常为2～32，优选为4～15，更优选为5～10，进一步优选为6～8。G的有机基团为环式脂肪族基团及芳香族基团时，构成这些基团的碳原子中的至少1个可以被杂原子替换。作为杂原子，可举出O、N或S。作为G的具体例，可举出式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)或式(26)表示的基团。式中的*表示化学键。式(26)中的Z表示单键、-O-、-CH2-、-C(CH3)2-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH2-Ar-、-Ar-C(CH3)2-Ar-或-Ar-SO2-Ar-。Ar表示碳原子数为6～20的芳基，可举出例如亚苯基。这些基团的氢原子中的至少1个可以被氟系取代基取代。[化学式2]式(PI)中，关于A表示的2价的有机基团的有机基团(以下，有时称为A的有机基团)，可举出选自由非环式脂肪族基团、本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.聚酰亚胺系膜，其包含聚酰亚胺系高分子，/n在小角X射线散射测定中，在波数区域q(nm
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170405 JP 2017-0753291.聚酰亚胺系膜，其包含聚酰亚胺系高分子，
在小角X射线散射测定中，在波数区域q(nm-1)为0.01＜q＜0.2的范围内具有散射强度的极大峰，并且，将q＝0.03时的散射强度作为初始散射强度(I0)，极大峰的散射强度(Ip)与初始散射强度之比(Ip/I0)为0.8以上且3.8以下。
2.如权利要求1所述的聚酰亚胺系膜，其还包含微粒。
3.如权利要求2所述的聚酰亚胺系膜，其中，所述微粒是使用由BET法测得的比表面积算出的一次粒径为31nm以上且60nm以下的第1二氧化硅微粒、与使用由BET法测得的比表面积算出的一次粒径为16nm以上且30nm以下的第2二氧化硅微粒的混合物。
4.如权利要求2或3所述的聚酰亚胺系膜，其中，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：大村沙织，岩崎克彦，望月胜纪，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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