The embodiment of the invention refers to a display panel, a display device and a preparation method of the display panel, which solves the problems of uneven pixel unit thickness and poor film uniformity of the existing display panel. The display panel includes a substrate and a pixel defining layer arranged on the substrate. The pixel defining layer includes a pixel slot and a balance slot, wherein the pixel slot passes through the first surface of the pixel defining layer and a second surface opposite to the first surface, and the balance slot is connected with the pixel slot through. The display panel provided by the embodiment of the invention can effectively guarantee the reasonable edge thickness of the pixel unit, prevent the occurrence of the case that the edge thickness of the pixel unit is too small, thereby improving the film uniformity of the pixel unit and ensuring the luminous performance of the display panel.
【技术实现步骤摘要】
显示面板、显示装置及显示面板制备方法
本专利技术涉及显示
,具体涉及显示面板、显示装置及显示面板制备方法。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)显示器件凭借轻薄、高亮度、低功耗以及高清晰度等诸多优势,占据显示
的重要地位。目前,在OLED显示器件的制备过程中,通常基于喷墨打印技术制备OLED显示器件的像素单元。具体地,利用喷墨打印工艺将墨水材料注入到显示面板的像素容器内以形成墨水液滴,墨水液滴在像素容器内铺展以最终形成像素单元。然而,现有像素容器内的像素单元厚度不均匀,膜层均一性差,影响器件发光性能。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术实施例提供了一种显示面板、显示装置及显示面板制备方法,以解决现有显示面板的像素单元厚度不均匀、膜层均一性差的问题。第一方面,本专利技术一实施例提供的一种显示面板,该显示面板包括衬底和设置于衬底上的像素限定层,像素限定层包括像素槽和平衡槽,其中,像素槽贯穿像素限定层的第一表面和与第一表面相对的第二表面,平衡槽与像素槽贯通连接。在本专利技术一实施例中,第一表面包括第一区域,像素槽包括与第一区域邻接的第一槽面区域,平衡槽贯穿第一槽面区域;优选地,平衡槽还贯穿第一区域。在本专利技术一实施例中,第一表面包括第二区域,像素槽包括与第二区域邻接的第二槽面区域,平衡槽贯穿第二槽面区域;优选地,平衡槽还贯穿第二区域。在本专利技术一实施例中,平衡槽在第一区域的开口面积与第一区域的面 ...
【技术保护点】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:/n衬底;和/n设置于所述衬底上的像素限定层,所述像素限定层包括像素槽和平衡槽,其中,所述像素槽贯穿所述像素限定层的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面,所述平衡槽与所述像素槽贯通连接。/n
【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
衬底;和
设置于所述衬底上的像素限定层,所述像素限定层包括像素槽和平衡槽,其中,所述像素槽贯穿所述像素限定层的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面,所述平衡槽与所述像素槽贯通连接。
2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一表面包括第一区域,所述像素槽包括与所述第一区域邻接的第一槽面区域,所述平衡槽贯穿所述第一槽面区域;
优选地,所述平衡槽还贯穿所述第一区域。
3.如权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一表面包括第二区域,所述像素槽包括与所述第二区域邻接的第二槽面区域,所述平衡槽贯穿所述第二槽面区域;
优选地,所述平衡槽还贯穿所述第二区域。
4.如权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述平衡槽在所述第一区域的开口面积与所述第一区域的面积的比值大于所述平衡槽的制作精度值,小于所述第一区域的像素限定层支撑塌陷值;
优选地,所述平衡槽在所述第一区域的开口面积与所述第一区域的面积的比值范围为20%至50%。
5.如权利要求1所述的显...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘明星,甘帅燕,李伟丽,李文星,吕孝鹏,
申请(专利权)人:昆山国显光电有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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