对位方法及对位装置、蒸镀设备制造方法及图纸

技术编号:22596478 阅读:39 留言:0更新日期:2019-11-20 11:57
本发明专利技术提供了一种对位方法及对位装置、蒸镀设备,属于显示技术领域。对位装置包括:位于蒸镀腔室外的第一对位模块,用于确定待蒸镀基底和蒸镀用掩模板的相对位置信息;位于蒸镀腔室内的第二对位模块,用于根据相对位置信息,调整待蒸镀基底和/或蒸镀用掩模板的位置,使得待蒸镀基底的第一对位标记在蒸镀用掩模板上的正投影与蒸镀用掩模板的镂空区域至少部分重合;透过镂空区域获取第一对位标记的位置信息,并根据位置信息调整待蒸镀基底和/或蒸镀用掩模板的位置,完成待蒸镀基底和蒸镀用掩模板的对位。本发明专利技术能够在对硅基OLED显示基板进行蒸镀时,对硅基OLED显示基板进行精确对位。

Alignment method, alignment device and evaporation equipment

The invention provides a aligning method, a aligning device and a evaporation plating device, belonging to the display technical field. The alignment device includes: a first alignment module located outside the evaporation chamber to determine the relative position information of the substrate to be evaporated and the mask to be evaporated; a second alignment module located inside the evaporation chamber to adjust the position of the substrate to be evaporated and / or the mask to be evaporated according to the relative position information, so that the first alignment mark of the substrate to be evaporated is projected on the mask to be evaporated The shadow is at least partially overlapped with the open area of the mask for evaporation; the position information of the first pair of marks is obtained through the open area, and the position of the substrate to be evaporated and / or the mask for evaporation is adjusted according to the position information to complete the alignment of the substrate to be evaporated and the mask for evaporation. The invention can precisely align the silicon-based OLED display substrate when the silicon-based OLED display substrate is evaporated.

【技术实现步骤摘要】
对位方法及对位装置、蒸镀设备
本专利技术涉及显示
,特别是指一种对位方法及对位装置、蒸镀设备。
技术介绍
硅基OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)微显示器处于微电子技术和光电子技术的交叉点上,涉及的内容非常广泛,包括光电子学、微电子学、电子信息学和光学等领域,是一个涉及物理学、化学、材料学和电子学等多学科的研究领域。OLED技术和CMOS(ComplementaryMetalOxideSemiconductor,互补金属氧化物半导体)技术的结合,是光电子产业和微电子产业的交叉集成,促进了新一代的微型显示的发展,也推进了硅上有机电子,甚至是硅上分子电子的研究和发展。相比于DMD(DigitalMicromirrorDevice,数字微镜器件)和LCOS(LiquidCrystalonSilicon,液晶附硅)微显示器,硅基OLED微显示器拥有非常优秀的显示特性。OLED亮度高、色彩丰富、驱动电压低、响应速度快、功耗低,具有非常优秀的用户体验;且OLED是一种全固态型器件,抗震性能好,工作温度范围宽(-40℃~85℃),适合于军事和特殊应用;其亦属于自发光器件,不需要背光源,视角范围大,厚度薄,有利于减小显示系统体积,尤其适用于近眼显示系统。现有技术进行硅基OLED微显示器的发光层的蒸镀时,由于硅基是不透明的,传统的玻璃基对位方案已经不能在该领域应用,并且硅基OLED显示基板的对位要求较传统的玻璃基OLED显示基板的要求更高,所以如何解决硅基OLED显示基板的蒸镀对位难题,是诸多OLED蒸镀设备厂家争相研究亟待解决的问题。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种对位方法及对位装置、蒸镀设备,能够在对硅基OLED显示基板进行蒸镀时,对硅基OLED显示基板进行精确对位。为解决上述技术问题,本专利技术的实施例提供技术方案如下:一方面,提供一种对位装置,包括:位于蒸镀腔室外的第一对位模块,用于确定待蒸镀基底和蒸镀用掩模板的相对位置信息;位于蒸镀腔室内的第二对位模块,用于根据所述相对位置信息,调整所述待蒸镀基底和/或所述蒸镀用掩模板的位置,使得所述待蒸镀基底的第一对位标记在所述蒸镀用掩模板上的正投影与所述蒸镀用掩模板的镂空区域至少部分重合;透过所述镂空区域获取所述第一对位标记的位置信息,并根据所述位置信息调整所述待蒸镀基底和/或所述蒸镀用掩模板的位置,完成所述待蒸镀基底和所述蒸镀用掩模板的对位。进一步地,所述第一对位模块包括:图像采集单元,用于对所述待蒸镀基底的第三对位标记进行扫描,确定所述待蒸镀基底的中心的第一位置信息,对所述蒸镀用掩模板的第二对位标记进行扫描,确定所述蒸镀用掩模板的中心的第二位置信息;处理单元,用于根据所述第一位置信息和所述第二位置信息确定所述待蒸镀基底和所述蒸镀用掩模板的相对位置信息。进一步地,在所述蒸镀腔室内,所述蒸镀用掩模板位于所述待蒸镀基底的正下方,第二对位模块包括:光源,用于向所述第一对位标记投射光线;位于所述待蒸镀基底背向所述蒸镀用掩模板一侧的所述图像探测器,所述图像探测器的探测面朝下;位于所述蒸镀用掩模板背向所述待蒸镀基底的一侧、正对所述镂空区域的光线传播结构,用于将所述第一对位标记反射的光线传递给所述图像探测器。进一步地,所述光线传播结构包括:位于所述蒸镀用掩模板背向所述待蒸镀基底的一侧、反射面朝向所述镂空区域的第一反射镜;反射面朝向所述第一反射镜的反射面以及所述图像探测器的探测面的第二反射镜。进一步地,第一反射镜与第二反射镜的反射面的夹角为90°。进一步地,所述光线传播结构还包括:开口朝向所述蒸镀用掩模板的容器,所述开口处设置有可移动的盖板,通过移动所述盖板能够遮蔽所述开口或暴露出所述开口;所述第一反射镜和所述第二反射镜位于所述容器内,在所述盖板未遮蔽所述开口时,所述第一反射镜和所述第二反射镜能够将所述第一对位标记反射的光线传递给所述图像探测器。进一步地,所述光线传播结构与所述蒸镀用掩模板之间的距离大于等于蒸镀源与所述蒸镀用掩模板之间的距离。进一步地,所述待蒸镀基底为制备有驱动电路层和阳极的晶圆。本专利技术实施例还提供了一种对位方法,应用于如上所述的对位装置,所述对位方法包括:在蒸镀腔室外,利用所述第一对位模块确定待蒸镀基底和蒸镀用掩模板的相对位置信息;在所述待蒸镀基底和所述蒸镀用掩模板移入所述蒸镀腔室后,利用所述第二对位模块根据所述相对位置信息,调整所述待蒸镀基底和/或所述蒸镀用掩模板的位置,使得所述待蒸镀基底的第一对位标记在所述蒸镀用掩模板上的正投影与所述蒸镀用掩模板的镂空区域至少部分重合;透过所述镂空区域获取所述第一对位标记的位置信息,并根据所述位置信息调整所述待蒸镀基底和/或所述蒸镀用掩模板的位置,完成所述待蒸镀基底和所述蒸镀用掩模板的对位。进一步地,所述在蒸镀腔室外,确定待蒸镀基底和蒸镀用掩模板的相对位置信息包括:利用所述图像采集单元对所述待蒸镀基底的第三对位标记进行扫描,确定所述待蒸镀基底的中心的第一位置信息,对所述蒸镀用掩模板的第二对位标记进行扫描,确定所述蒸镀用掩模板的中心的第二位置信息;利用所述处理单元根据所述第一位置信息和所述第二位置信息确定所述待蒸镀基底和所述蒸镀用掩模板的相对位置信息。进一步地,所述透过所述镂空区域获取所述第一对位标记的位置信息包括:利用所述光源向所述第一对位标记投射光线;利用所述光线传播结构将所述第一对位标记反射的光线传递给图像探测器;利用所述图像探测器获取所述第一对位标记的位置信息。进一步地,所述透过所述镂空区域获取所述第一对位标记的位置信息之前还包括:移动所述盖板,暴露出所述容器的开口;完成所述待蒸镀基底和所述蒸镀用掩模板的对位之后,所述方法还包括:移动所述盖板,遮蔽所述容器的开口。本专利技术实施例还提供了一种蒸镀设备,包括如上所述的对位装置。本专利技术的实施例具有以下有益效果:上述方案中,首先在蒸镀腔室外获取待蒸镀基底和蒸镀用掩模板的相对位置信息,在待蒸镀基底和蒸镀用掩模板进入蒸镀腔室后,利用待蒸镀基底和蒸镀用掩模板的相对位置信息进行粗对位,使得待蒸镀基底的第一对位标记在蒸镀用掩模板上的正投影与蒸镀用掩模板的镂空区域至少部分重合,之后透过镂空区域获取第一对位标记的位置信息,再利用第一对位标记的位置信息进行细对位,进而完成待蒸镀基底和蒸镀用掩模板的精确对位。通过本专利技术的技术方案,能够在待蒸镀基底不透明的情况下完成待蒸镀基底和蒸镀用掩模板的精确对位。附图说明图1为本专利技术实施例获取晶圆和掩模板的相对位置信息的示意图;图2为本专利技术实施例在蒸镀腔室内对晶圆和掩模板进行对位的示意图;图3为本专利技术实施例晶圆的示意图;图4为本专利技术实施例蒸镀用的掩模板的示意图。附图标记本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种对位装置,其特征在于,包括:/n位于蒸镀腔室外的第一对位模块,用于确定待蒸镀基底和蒸镀用掩模板的相对位置信息;/n位于蒸镀腔室内的第二对位模块,用于根据所述相对位置信息,调整所述待蒸镀基底和/或所述蒸镀用掩模板的位置,使得所述待蒸镀基底的第一对位标记在所述蒸镀用掩模板上的正投影与所述蒸镀用掩模板的镂空区域至少部分重合;透过所述镂空区域获取所述第一对位标记的位置信息,并根据所述位置信息调整所述待蒸镀基底和/或所述蒸镀用掩模板的位置,完成所述待蒸镀基底和所述蒸镀用掩模板的对位。/n

【技术特征摘要】
1.一种对位装置,其特征在于,包括:
位于蒸镀腔室外的第一对位模块,用于确定待蒸镀基底和蒸镀用掩模板的相对位置信息;
位于蒸镀腔室内的第二对位模块,用于根据所述相对位置信息,调整所述待蒸镀基底和/或所述蒸镀用掩模板的位置,使得所述待蒸镀基底的第一对位标记在所述蒸镀用掩模板上的正投影与所述蒸镀用掩模板的镂空区域至少部分重合;透过所述镂空区域获取所述第一对位标记的位置信息,并根据所述位置信息调整所述待蒸镀基底和/或所述蒸镀用掩模板的位置,完成所述待蒸镀基底和所述蒸镀用掩模板的对位。


2.根据权利要求1所述的对位装置,其特征在于,所述第一对位模块包括:
图像采集单元,用于对所述待蒸镀基底的第三对位标记进行扫描,确定所述待蒸镀基底的中心的第一位置信息,对所述蒸镀用掩模板的第二对位标记进行扫描,确定所述蒸镀用掩模板的中心的第二位置信息;
处理单元,用于根据所述第一位置信息和所述第二位置信息确定所述待蒸镀基底和所述蒸镀用掩模板的相对位置信息。


3.根据权利要求1所述的对位装置,其特征在于,在所述蒸镀腔室内,所述蒸镀用掩模板位于所述待蒸镀基底的正下方,第二对位模块包括:
光源,用于向所述第一对位标记投射光线;
位于所述待蒸镀基底背向所述蒸镀用掩模板一侧的图像探测器,所述图像探测器的探测面朝下;
位于所述蒸镀用掩模板背向所述待蒸镀基底的一侧、正对所述镂空区域的光线传播结构,用于将所述第一对位标记反射的光线传递给所述图像探测器。


4.根据权利要求3所述的对位装置,其特征在于,所述光线传播结构包括:
位于所述蒸镀用掩模板背向所述待蒸镀基底的一侧、反射面朝向所述镂空区域的第一反射镜;
反射面朝向所述第一反射镜的反射面以及所述图像探测器的探测面的第二反射镜。


5.根据权利要求4所述的对位装置,其特征在于,第一反射镜与第二反射镜的反射面的夹角为90°。


6.根据权利要求4所述的对位装置,其特征在于,所述光线传播结构还包括:
开口朝向所述蒸镀用掩模板的容器,所述开口处设置有可移动的盖板,通过移动所述盖板能够遮蔽所述开口或暴露出所述开口;
所述第一反射镜和所述第二反射镜位于所述容器内,在所述盖板未遮蔽所述开口时,所述第一反射镜和所述第二反射镜能够将所述第一对位标记反射的光线传递给所述图像探测器。


7.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨盛际董学陈小川王辉卢鹏程
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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