一种光催化剂g-C制造技术

本发明专利技术提供了一种光催化剂g‑C

A photocatalyst G-C

The invention provides a photocatalyst g \u2011 C

【技术实现步骤摘要】
一种光催化剂g-C3N4/GO复合材料及其制备方法
本专利技术涉及一种光催化剂g-C3N4/GO复合材料及其制备方法。
技术介绍
近年来，能源和环境问题已成为一个现实而紧迫的问题。光催化因其可以有效地解决环境和能源问题而引起了广泛的关注。为了提高光催化材料的应用效率，良好的光催化剂应该能更快地重组电荷载体、具有更高的稳定性和更好的光催化活性。含氮碳材料作为无金属光催化剂引起了巨大的研究兴趣，但由于氮浓度低，其催化活性低且不稳定。而石墨相氮化碳(g-C3N4)的光催化活性较高、稳定性好、原料价格便宜、含氮量高等优点，使其成为一种新型的光催化材料，然而，单一相催化剂通常因量子效率低而使其光催化性能表现不够理想。因g-C3N4材料光生电子－空穴复合率较高，导致其催化效率较低，从而限制了它在光催化方面的应用，为了提高g-C3N4的催化活性，最近几年来，人们研究了很多改性方法，例如形成复合材料，利用g-C3N4的异质结构试图提高光催化剂的光催化活性，例如形成了诸如g-C3N4/TiO2、g-C3N4/Bi2MoO6等结构的复合材料，但是，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光催化剂g-C

【技术特征摘要】
1.一种光催化剂g-C3N4/GO复合材料，其特征在于，所述g-C3N4为颗粒状、块状或片层，所述GO为片层结构。


2.根据权利要求1所述的光催化剂g-C3N4/GO复合材料，其特征在于，所述复合材料为三维结构，优选为块状结构。


3.根据权利要求1或2所述的光催化剂g-C3N4/GO复合材料，其特征在于，所述复合材料为多孔结构，优选为多级孔结构。


4.根据权利要求3所述的光催化剂g-C3N4/GO复合材料，其特征在于，使用造孔剂形成所述多孔结构，优选所述造孔剂为聚苯乙烯球或SiO2球中的一种，更优选g-C3N4、氧化石墨烯和造孔剂的重量比为1:(0.5～10)：(6～20)，优选通过煅烧或刻蚀除去造孔剂。


5.根据权利要求1至4之一所述的光催化剂g-C3N4/GO复合材料，其特征在于，所述复合材料为弹性材料，优选使用交联剂，更优选通过超声将氧化石墨烯分散。


6.一种制备权利要求1至5之一所述的光催化剂g-C3N4/GO复合材料的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
步骤1，将g-C3N4和氧化石墨烯混合，超声分散；
步骤2，向步骤1制得的混合溶液中加入金属盐溶液，搅拌均匀后，进行水热反应；
步骤3，将步骤2制得的产品冷冻干燥，然后除去造孔剂，得到g-C3N4/GO复合...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪成，韩晓宁，王淑红，虢德超，张洪岩，马东阁，崔国峰，孙立国，
申请(专利权)人：黑龙江大学，
类型：发明
国别省市：黑龙;23