角度依赖成像测量系统技术方案

本实用新型专利技术角度依赖成像测量系统包括沿同一光轴依次布置的物镜、光学透镜A、光学透镜C、光学透镜B和成像设备；满足以下条件：0≤d

Angle dependent imaging measurement system

The angle dependent imaging measurement system of the utility model comprises an objective lens, an optical lens a, an optical lens C, an optical lens B and an imaging device arranged in turn along the same optical axis, which meet the following conditions: 0 \u2264 D

【技术实现步骤摘要】
角度依赖成像测量系统
本技术涉及空间成像
，特别涉及一种角度依赖成像测量系统。
技术介绍
随着光学的不断发展，为了对光进行更好的调制和更深入的性质研究，人们设计制作出新的光学材料、结构和显示屏，以及自然界中能产生丰富颜色的材料，如光子晶体、表面等离子体激元、超构材料、结构色材料等，并逐渐发展出一个新学科——微纳光子学。微纳光子学材料通过可操控的结构设计，使人们对光的调控能力达到一个新的水平。该材料具有许多不同于传统均匀材料的光学性质，如非线性效应、拓扑特性、特殊的光输运特性等。微纳光子学材料往往具有与作用波长相比拟的周期性结构，可微小化、集成化，在各类光电器件中具有广阔的应用前景。晶体中原子有序的排列分布对电子的运动具有调制作用。与之类似，微纳光子学材料中不同折射率材料的交替排列对电磁波的传播也具有调制作用，能够形成不同于自由空间中的光的色散关系、光子能带、光子带隙等特殊的光学性质。而这些性质都与其动量空间性质密切相关。近年来，微纳光子学发展十分迅速，不断出现新的材料结构，发现新的光学现象，这也对相应的光学测量技术提出了新本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种角度依赖成像测量系统，其特征在于：包括物镜、光学透镜A、光学透镜B、成像设备和可切换的光学透镜C，所述物镜、所述光学透镜A、所述光学透镜C、所述光学透镜B和所述成像设备沿同一光轴依次布置，所述成像设备位于所述光学透镜B后的后焦平面第一次成像面M1处或所述光学透镜B后的样品面第二次成像面S2处；/n角度依赖成像测量系统满足以下条件：/n0≤d

【技术特征摘要】
1.一种角度依赖成像测量系统，其特征在于：包括物镜、光学透镜A、光学透镜B、成像设备和可切换的光学透镜C，所述物镜、所述光学透镜A、所述光学透镜C、所述光学透镜B和所述成像设备沿同一光轴依次布置，所述成像设备位于所述光学透镜B后的后焦平面第一次成像面M1处或所述光学透镜B后的样品面第二次成像面S2处；
角度依赖成像测量系统满足以下条件：
0≤d1≤2fA
fA<D＝d5+d3+d4≤2fB+fA
其中，d1为所述物镜后的物镜后焦平面M0与所述光学透镜A之间的距离，fA为所述光学透镜A的焦距，D为所述光学透镜A与所述光学透镜B之间的距离，d5为光学透镜A与所述光学透镜A后的样品面第一次成像面S1之间的距离，d3为所述光学透镜A后的样品面第一次成像面S1与所述光学透镜C之间的距离，d4为所述光学透镜C与所述光学透镜B之间的距离，fB为所述光学透镜B的焦距。


2.如权利要求1所述的角度依赖成像测量系统，其特征在于：d1＝d5＝fA。


3.如权利要求1所述的角度依赖成像测量系统，其特征在于，所述样品面第一次成像面S1与所述光学透镜C之间的距离、所述光学透镜C与所述光学透镜B之间的距离满足以下条件：
0≤d3≤2fC
fC<d4≤2fB+fC
其中，fC为所述光学透镜C的焦距。


4.如权利要求3所述的角度依赖成像测量系统，其特征在于：d3＝fC和/或d4＝...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵茂雄，石磊，资剑，殷海玮，崔靖，
申请(专利权)人：上海复享光学股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31