一种分析天平制造技术

本实用新型专利技术涉及一种分析天平，属于分析天平领域，包括底座，底座上设置有防风罩，底座上且位于防风罩内设置有称量盘，底座上且位于防风罩外设置有遮光罩，遮光罩设置在防风罩的四个侧壁上，防风罩的顶部且位于防风罩的四个棱边上设置有框体，框体上且位于框体的四个角落处开设有滑槽，滑槽沿竖直方向贯穿框体设置，遮光罩的内壁上设置有分别滑动连接于四个滑槽内的滑条，防风罩的顶部设置有用于驱动遮光罩沿竖直方向移动的驱动装置，本实用新型专利技术具有在不使用时可以保护分析天平不被阳光直射的效果。

An analytical balance

The utility model relates to an analytical balance, belonging to the field of analytical balance, which comprises a base, a wind shield arranged on the base, a weighing plate arranged on the base and inside the wind shield, a light shield arranged on the base and outside the wind shield, a light shield arranged on four side walls of the wind shield, a frame arranged on the top of the wind shield and on four edges of the wind shield, and A sliding groove is arranged at the four corners of the frame body, the sliding groove is arranged along the vertical direction through the frame body, the inner wall of the hood is provided with sliding strips which are respectively connected with the four sliding grooves, and the top of the windscreen is provided with a driving device for driving the hood to move along the vertical direction. The utility model has the effect of protecting the analytical balance from direct sunlight when not in use.

【技术实现步骤摘要】
一种分析天平
本技术涉及分析天平的
，尤其是涉及一种分析天平。
技术介绍
分析天平是实验中进行准确称量时最重要的仪器，它可以分为机械类和电子类，机械类分析天平可细分为普通分析天平、空气阻尼天平和单托盘天平等，这些天平都是利用杠杆原理，但是在结构上和使用方法上有所不同，机械天平能够满足一般定量分析的准确度要求，灵敏度为0.1mg，此类天平的最大优点是结构直观，但是天平零件复杂，操作要求高目且费时。现有的授权公告号为CN204177471U的中国专利公开了一种自动水平调节电子分析天平，是由底座、外罩和称量盘构成，在底座的顶部设有称量盘、并有外罩罩于底座上，底座前侧的延伸部表面嵌有液晶显示屏，延伸部底部的前端设有螺旋脚，底座的内部设有处理器、重力平衡模块、开关模块、调平电机、电源模块、称量传感器和显示模块，处理器分别与重力平衡模块、开关模块、调平电机、电源模块、称量传感器和显示模块电路连接，显示模块与液晶显示屏电路连接，调平电机与螺旋脚机械连接。上述中的现有技术方案存在以下缺陷：分析天平在不使用时如果长期被阳光直射，分析天平自身的精度会受到影响，导致测量数据出现误差，从而导致试验时测量人员所需的数据出现误差。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种在不使用时可以保护天平不被阳光直射的分析天平。本技术的目的是通过以下技术方案得以实现的：一种分析天平，包括底座，所述底座上设置有防风罩，所述底座上且位于防风罩内设置有称量盘，所述底座上且位于防风罩外设置有遮光罩，所述遮光罩设置在防风罩的四个侧壁上，所述防风罩的顶部且位于防风罩的四个棱边上设置有框体，所述框体上且位于框体的四个角落处开设有滑槽，所述滑槽沿竖直方向贯穿框体设置，所述遮光罩的内壁上设置有分别滑动连接于四个滑槽内的滑条，所述防风罩的顶部设置有用于驱动遮光罩沿竖直方向移动的驱动装置。通过采用上述技术方案，在使用分析天平进行检测时，启动驱动装置，驱动装置会驱动遮光罩沿着竖直方向朝上移动，遮光罩则会带动滑条于滑槽内滑动，当遮光罩移动到防风罩顶部时则可关闭驱动装置，工作人员再打开防风罩将被检物品置于称量盘上即可进行称量，使用完毕后，工作人员再次启动驱动装置，使得遮光罩沿竖直方向朝下移动，直至遮光罩的底端抵接至底座上，如此便可把整个分析天平遮挡起来，保护其不被阳光直射，从而保证了分析天平的检测精度；而滑槽及滑条的设置可以对遮光罩的移动起到导向作用，使遮光罩沿着竖直方向移动。本技术进一步设置为：所述驱动装置包括设置在防风罩顶部的电机，所述电机的输出轴上同轴连接于齿轮，所述遮光罩的内壁上且位于齿轮所在的位置设置有齿条，所述齿条沿竖直方向设置，所述齿轮与齿条互相啮合设置。通过采用上述技术方案，启动电机后，电机会驱动齿轮转动，此时由于齿条和齿轮相啮合，且齿条沿着竖直方向设置，所以齿轮会驱动齿条沿着竖直方向移动，齿条在移动时则会带动遮光罩移动，从而实现了遮光罩的上下移动，齿轮与齿条的结构比较简单，且具有较高的传动精度，可以更好地带动遮光罩移动。本技术进一步设置为：所述遮光罩的内壁上且位于遮光罩的下部设置有防脱块。通过采用上述技术方案，在遮光罩朝上移动并移动到防风罩的顶端时，遮光罩上的防脱块会抵接至框体上，如此防脱块就会阻止遮光罩继续朝上移动，从而阻止遮光罩脱离框体。本技术进一步设置为：所述遮光罩靠近底座的端面上设置有缓冲条，所述缓冲条沿着遮光罩周向设置。通过采用上述技术方案，缓冲条的设置使得遮光罩不会直接碰触到底座上，从而对遮光罩和分析天平都形成了一定的保护。本技术进一步设置为：所述滑槽的横截面形状设置为“T”形，所述滑条与“T”形的滑槽配合设置。通过采用上述技术方案，“T”形的滑槽和滑条可以阻止滑条脱离滑槽，使得遮光罩可以更好地固定在框体上。本技术进一步设置为：所述遮光罩的顶部设置有封闭板。通过采用上述技术方案，封闭板可以阻止灰尘进入遮光罩内部，从而对电机、齿轮及齿条形成保护。本技术进一步设置为：所述封闭板可拆卸连接于遮光罩上。通过采用上述技术方案，在电机或其他部件发生损坏时，可将封闭板从遮光罩上拆卸下来，以便于对电机进行维修。本技术进一步设置为：所述遮光罩远离底座的断面上开设有插接槽，所述插接槽沿着遮光罩周向设置，所述封闭板上设置有插接于插接槽内的插接条。通过采用上述技术方案，需要拆开封闭板时，使插接条脱离插接槽即可使得封闭板与遮光罩脱离，而在安装封闭板时，使插接条移入插接槽内即可固定封闭板于遮光罩上，从而使得封闭板的安拆都更加方便。综上所述，本技术的有益技术效果为：1.在不使用分析天平时，启动驱动装置驱动遮光罩沿竖直方向朝下移动，使得遮光罩带动滑条于滑槽内滑动，并最终使得遮光罩将整个防风罩罩住，如此即可使得分析天平不被阳光直射，保证了分析天平的检测精度；2.通过电机带动齿轮转动，使得齿轮带动与其啮合的齿条移动，使得齿条带动遮光罩沿竖直方向移动，且齿轮与齿条的结构简单，传动精度较高，可以更好地带动遮光罩移动；3.通过在遮光罩上设置可拆卸的封闭板，使得封闭板可以对遮光罩内的电机形成保护，而在电机损坏时又可以拆下封闭板对电机进行维修。附图说明图1是本技术实施例的整体结构示意图；图2是本技术实施例隐藏遮光罩及电机后的结构示意图；图3是本技术实施例打开遮光罩时的结构示意图；图4是本技术实施例隐藏封闭板后的结构示意图；图5是图4中A部分的局部放大示意图；图6是本技术实施例隐藏封闭板后的部分剖面结构示意图；图7是图6中B部分的局部放大示意图；图8是本技术实施例爆炸封闭板和遮光罩后的部分爆炸结构示意图。图中，1、底座；11、防风罩；12、称量盘；13、框体；14、滑槽；15、电机；16、齿轮；2、遮光罩；21、滑条；22、齿条；23、防脱块；24、缓冲条；25、封闭板；251、插接条；26、插接槽。具体实施方式以下结合附图对本技术作进一步详细说明。参照图1和图2，为本技术公开的一种分析天平，包括底座1，底座1上设置有防风罩11，底座1上于防风罩11内设置有称量盘12，防风罩11的顶部沿着防风罩11的周向设置有框体13，框体13上于框体13四个角落的位置开设有滑槽14，滑槽14沿竖直方向贯穿框体13设置。参照图3和图4，底座1上于防风罩11外设置有遮光罩2，遮光罩2的内壁上且位于四个棱边处均设置有滑条21（见图5），滑条21沿竖直方向延伸设置，每个滑条21分别滑动连接于每个滑槽14内，为了阻止滑条21与滑槽14脱离，将滑条21和滑槽14的横截面形状设置为“T”形；在遮光罩2沿着竖直方向上下移动时，遮光罩2就会带动滑条21于滑槽14内滑动，滑槽14和滑条21可以对遮光罩2的移动进行导向，同时也使得遮光罩2固定于防风罩11外。...

【技术保护点】
1.一种分析天平，包括底座(1)，所述底座(1)上设置有防风罩(11)，所述底座(1)上且位于防风罩(11)内设置有称量盘(12)，其特征在于：所述底座(1)上且位于防风罩(11)外设置有遮光罩(2)，所述遮光罩(2)设置在防风罩(11)的四个侧壁上，所述防风罩(11)的顶部且位于防风罩(11)的四个棱边上设置有框体(13)，所述框体(13)上且位于框体(13)的四个角落处开设有滑槽(14)，所述滑槽(14)沿竖直方向贯穿框体(13)设置，所述遮光罩(2)的内壁上设置有分别滑动连接于四个滑槽(14)内的滑条(21)，所述防风罩(11)的顶部设置有用于驱动遮光罩(2)沿竖直方向移动的驱动装置。/n

【技术特征摘要】
1.一种分析天平，包括底座(1)，所述底座(1)上设置有防风罩(11)，所述底座(1)上且位于防风罩(11)内设置有称量盘(12)，其特征在于：所述底座(1)上且位于防风罩(11)外设置有遮光罩(2)，所述遮光罩(2)设置在防风罩(11)的四个侧壁上，所述防风罩(11)的顶部且位于防风罩(11)的四个棱边上设置有框体(13)，所述框体(13)上且位于框体(13)的四个角落处开设有滑槽(14)，所述滑槽(14)沿竖直方向贯穿框体(13)设置，所述遮光罩(2)的内壁上设置有分别滑动连接于四个滑槽(14)内的滑条(21)，所述防风罩(11)的顶部设置有用于驱动遮光罩(2)沿竖直方向移动的驱动装置。


2.根据权利要求1所述的一种分析天平，其特征在于：所述驱动装置包括设置在防风罩(11)顶部的电机(15)，所述电机(15)的输出轴上同轴连接于齿轮(16)，所述遮光罩(2)的内壁上且位于齿轮(16)所在的位置设置有齿条(22)，所述齿条(22)沿竖直方向设置，所述齿轮(16)与齿条(22)互相啮合设置。


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【专利技术属性】
技术研发人员：李付春，
申请(专利权)人：四川众合一家食品有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51