磺酸、羧酸或它们的盐制造技术

技术编号:22569307 阅读:132 留言:0更新日期:2019-11-16 13:55
提供一种具有羰基的新型的磺酸、羧酸或它们的盐。一种化合物,其由式:R

Sulfonic acid, carboxylic acid or their salts

A novel sulfonic acid, carboxylic acid or their salt having a carbonyl group is provided. A compound composed of formula: R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】磺酸、羧酸或它们的盐
本专利技术涉及磺酸、羧酸或它们的盐。
技术介绍
在专利文献1中记载了下式所表示的化合物。【化1】现有技术文献专利文献专利文献1:国际公开第2013/045662号
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术的目的在于提供一种具有羰基的新型的磺酸、羧酸或它们的盐。用于解决课题的手段本专利技术涉及一种化合物,其特征在于,其由下式所表示。【化2】(式中,R1为具有或不具有取代基的碳原子数为1以上的直链状或支链状的烷基或者具有或不具有取代基的碳原子数为3以上的环状烷基,碳原子数为3以上的情况下可以包含1价或2价杂环、也可以形成环。R2和R4独立地为H或取代基。R3为具有或不具有取代基的碳原子数为1~10的亚烷基。n为1以上的整数。p和q独立地为0以上的整数。A为-SO3X或-COOX(X为H、金属原子、NR54、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓或者具有或不具有取代基的磷鎓,R5为H或有机基团,可以相同或不同。L为单键、-CO2-B-*、-OCO-B-*、-CONR6-B-*、-NR6CO-B-*、或-CO-(其中,-CO2-B-、-OCO-B-、-CONR6-B-、-NR6CO-B-中包含的羰基除外),B为单键或者具有或不具有取代基的碳原子数为1~10的亚烷基,R6为H或者具有或不具有取代基的碳原子数为1~4的烷基。*是指与式中的A键合的一侧。)上述化合物优选碳原子数的总数为3~30。上述L优选为单键。上述R2和R4优选为H、碳原子数为1~4的直链状或支链状的烷基中的任一种。上述R3优选为不具有取代基的碳原子数为1~4的亚烷基。上述R1优选为碳原子数为1~4的直链状或支链状的烷基。上述式中,n、p和q的合计优选为6以上的整数。上述式中,R1优选为甲基。上述式中,X优选为金属原子或NR54(R5如上所述)。上述化合物优选为水系分散剂。专利技术的效果本专利技术的化合物为显示出表面活性作用的化合物,能够适当地用作水系分散剂。具体实施方式下面对本专利技术进行具体说明。本说明书中,只要不特别声明,“有机基团”是指含有1个以上碳原子的基团、或者从有机化合物中除去1个氢原子而形成的基团。该“有机基团”的示例包括:可以具有1个以上的取代基的烷基、可以具有1个以上的取代基的烯基、可以具有1个以上的取代基的炔基、可以具有1个以上的取代基的环烷基、可以具有1个以上的取代基的环烯基、可以具有1个以上的取代基的环二烯基、可以具有1个以上的取代基的芳基、可以具有1个以上的取代基的芳烷基、可以具有1个以上的取代基的非芳香族杂环基、可以具有1个以上的取代基的杂芳基、氰基、甲酰基、RaO-、RaCO-、RaSO2-、RaCOO-、RaNRaCO-、RaCONRa-、RaOCO-、和RaOSO2-(这些式中,Ra独立地为可以具有1个以上的取代基的烷基、可以具有1个以上的取代基的烯基、可以具有1个以上的取代基的炔基、可以具有1个以上的取代基的环烷基、可以具有1个以上的取代基的环烯基、可以具有1个以上的取代基的环二烯基、可以具有1个以上的取代基的芳基、可以具有1个以上的取代基的芳烷基、可以具有1个以上的取代基的非芳香族杂环基、或者可以具有1个以上的取代基的杂芳基)。作为上述有机基团,优选可以具有1个以上的取代基的烷基。另外,本说明书中,只要不特别声明,“取代基”是指能够取代的基团。该“取代基”的示例包括脂肪族基团、芳香族基团、杂环基、酰基、酰氧基、酰氨基、脂肪族氧基、芳香族氧基、杂环氧基、脂肪族氧基羰基、芳香族氧基羰基、杂环氧基羰基、氨基甲酰基、脂肪族磺酰基、芳香族磺酰基、杂环磺酰基、脂肪族磺酰氧基、芳香族磺酰氧基、杂环磺酰氧基、氨磺酰基、脂肪族磺酰胺基、芳香族磺酰胺基、杂环磺酰胺基、氨基、脂肪族氨基、芳香族氨基、杂环氨基、脂肪族氧基羰基氨基、芳香族氧基羰基氨基、杂环氧基羰基氨基、脂肪族亚磺酰基、芳香族亚磺酰基、脂肪族硫基、芳香族硫基、羟基、氰基、磺基、羧基、脂肪族氧基氨基、芳香族氧基氨基、氨基甲酰氨基、氨磺酰氨基、卤原子、氨磺酰氨基甲酰基、氨基甲酰氨基磺酰基、二脂肪族氧基氧膦基以及二芳香族氧基氧膦基。本专利技术涉及一种化合物,其特征在于,其由下式所表示。【化3】式中,R1为具有或不具有取代基的碳原子数为1以上的直链状或支链状的烷基或者具有或不具有取代基的碳原子数为3以上的环状烷基。R1优选为碳原子数为1~4的直链状或支链状的烷基。上述烷基的碳原子数为3以上的情况下,可以包含1价或2价杂环,也可以形成环。作为上述杂环,优选不饱和杂环,更优选含氧不饱和杂环,例如可以举出呋喃环等。R1中,2价杂环可以插入到2个碳原子间、2价杂环也可以位于末端并与-C(=O)-键合,1价杂环可以位于上述烷基的末端。需要说明的是,本说明书中,上述烷基的“碳原子数”也包括构成上述杂环的碳原子的数目。上述化合物优选碳原子数的总数为3~30。另外,更优选为5~25、进一步优选为7~20。作为R1的上述烷基可以具有的上述取代基优选卤原子、碳原子数为1~10的直链状或支链状的烷基或者碳原子数为3~10的环状烷基、羟基,特别优选甲基、乙基。作为R1的上述烷基优选不包含羰基。上述烷基中,与碳原子键合的氢原子的75%以下可以被卤原子所取代、50%以下可以被卤原子所取代、25%以下可以被卤原子所取代,但优选不含氟原子、氯原子等卤原子的非卤化烷基。上述烷基优选不具有任何取代基。作为R1,优选具有或不具有取代基的碳原子数为1~10的直链状或支链状的烷基或者具有或不具有取代基的碳原子数为3~10的环状烷基,更优选不包含羰基的碳原子数为1~10的直链状或支链状的烷基或者不包含羰基的碳原子数为3~10的环状烷基,进一步优选不具有取代基的碳原子数为1~10的直链状或支链状的烷基,更进一步优选不具有取代基的碳原子数为1~3的直链状或支链状的烷基,特别优选甲基(-CH3)或乙基(-C2H5),最优选甲基(-CH3)。式中,R2和R4独立地为H或取代基。2个以上的R2和R4分别可以相同或不同。作为R2和R4的上述取代基优选卤原子、碳原子数为1~10的直链状或支链状的烷基或者碳原子数为3~10的环状烷基、羟基,特别优选甲基、乙基。作为R2和R4的上述烷基优选不包含羰基。上述烷基中,与碳原子键合的氢原子的75%以下可以被卤原子所取代、50%以下可以被卤原子所取代、25%以下可以被卤原子所取代,但优选不含氟原子、氯原子等本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化合物,其特征在于,其由下式所表示,/n【化1】/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170331 JP 2017-0730861.一种化合物,其特征在于,其由下式所表示,
【化1】



式中,R1是具有或不具有取代基的碳原子数为1以上的直链状或支链状的烷基或者具有或不具有取代基的碳原子数为3以上的环状烷基,碳原子数为3以上的情况下包含或不包含1价或2价杂环、形成或不形成环;R2和R4独立地为H或取代基;R3是具有或不具有取代基的碳原子数为1~10的亚烷基;n为1以上的整数;p和q独立地为0以上的整数;A为-SO3X或-COOX,X为H、金属原子、NR54、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓或者具有或不具有取代基的磷鎓,R5为H或有机基团,可以相同或不同;L为单键、-CO2-B-*、-OCO-B-*、-CONR6-B-*、-NR6CO-B-*、或-CO-,其中-CO-中不包括-CO2-B-、-OCO-B-、-CONR6-B-、-NR6CO-B-中包含的羰基,B是单键或者具有或不具有取代基的碳原子数为1到10的亚烷基,R6是H或者具有或不具有取代基的碳原子数为1~4的烷基,*是指与式中的A键合的一侧。

【专利技术属性】
技术研发人员:东昌弘米田聪山内昭佳石原寿美岸川洋介中野麻里奈新田真之介青山博一
申请(专利权)人:大金工业株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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