结构体、装饰膜、制造结构体的方法、和制造装饰膜的方法技术

为了实现上述目的，根据本技术的实施方式，提供一种结构体，其包括装饰部和构件。所述装饰部包括单层金属层，所述单层金属层包括微细裂纹，并且预定元素的添加浓度在金属层的厚度方向上不同。所述构件包括装饰区域，所述装饰部粘合至所述装饰区域。

Structure, decorative film, method of manufacturing structure and method of manufacturing decorative film

In order to achieve the above purpose, according to the embodiment of the technology, a structure body is provided, which includes a decoration part and a member. The decorative part comprises a single metal layer, the single metal layer comprises micro cracks, and the adding concentration of predetermined elements is different in the thickness direction of the metal layer. The component comprises a decoration area, and the decoration part is bonded to the decoration area.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】结构体、装饰膜、制造结构体的方法、和制造装饰膜的方法
本技术涉及可应用于例如电子设备和车辆的结构体。本技术还涉及装饰膜、制造该结构体的方法、以及制造该装饰膜的方法。
技术介绍
迄今为止，已经设计出尽管具有金属外观但能够允许诸如毫米波之类的电磁波透过的构件作为用于电子设备等的壳体部件。例如，专利文献1披露了一种用于允许将汽车雷达构建在汽车车标中的外部部件。具体地，将铟沉积在树脂膜上，并且通过嵌入成型方法将所述膜贴附到标的表面层。以这种方式，可以制造具有装饰性金属光泽、并且由于铟的岛形结构而在电磁频带内不具有吸收范围的外部部件(例如，参见专利文献1的第[0006]段)。然而，用于形成铟的岛形结构的方法存在的问题是：例如，在大面积上进行沉积时，难以制造整体具有均匀厚度的膜。此外，该方法的另一个问题是：在模制壳体部件时，由于要浇注的树脂的温度而容易破坏岛形结构(例如，参见专利文献1的第[0007]段和第[0008]段)。为了解决这一问题，专利文献1披露了以下技术。具体地，人工地以规则图案形成包括作为岛的金属区域和围绕岛作为海的非金属区域的海岛结构。于是，两个金属区域通过非金属区域彼此绝缘，并且适当地控制金属区域的面积、以及相邻金属区域之间的间隔。由此，可以获得电磁波透过性与其上沉积有铟的膜相当的材料(例如，参见专利文献1的第[0013]段)。引用列表专利文献专利文献1：JP2010-251899
技术实现思路
技术问题存在对于用于制造如上所述的尽管具有金属光泽但能够允许无线电波透过、而且还具有优异可设计性的部件的技术的需求。鉴于这种情况，本技术的目的是提供一种尽管具有金属外观但能够允许无线电波透过的可设计性优异的结构体、装饰膜、制造该结构体的方法、和制造该装饰膜的方法。解决问题的技术方案为了实现上述目的，根据本技术的实施方式，提供一种结构体，其包含装饰部和构件。所述装饰部包括单层金属层，所述单层金属层具有微细裂纹，并且预定元素的添加浓度在金属层的厚度方向上不同。所述构件具有装饰区域，所述装饰部粘合至所述装饰区域。在该结构体中，添加预定元素以使得添加浓度在单层金属层的厚度方向上不同。由此，上述金属层可以由具有高反射率的例如铝或类似物制成。此外，通过调节厚度方向上的添加浓度，也可以进行表面反射率的调节。结果，可以提供尽管具有金属外观但能够允许无线电波透过的可设计性优异的结构体。所述装饰部可具有设计表面。在这种情况下，金属层可在设计表面侧具有第一表面，并且在第一表面的相反侧具有第二表面。第一表面附近的区域可对应于添加浓度相对较低的低添加浓度区域。由此，可以增加第一表面的反射率，并且可以呈现可设计性优异的金属光泽。低添加浓度区域可包括添加浓度为零的区域。由此，可以表现出显著更高的反射率。在金属层中，靠近第一表面的区域之外的至少一部分区域可对应于其中添加浓度相对较高的高添加浓度区域。由此，可以容易地形成微细裂纹。在金属层中，添加浓度可从第二表面朝向第一表面减小。由此，可以容易地形成金属层。在金属层中，在靠近第一表面的区域和靠近第二表面的区域中，未与预定元素结合的金属的百分比可等于或大于预定阈值。由此，可以防止金属光泽的劣化，从而可以保持高的可设计性。在金属层中，在距离第一表面大约20nm的区域和距离第二表面大约20nm的各区域中，未与预定元素结合的金属的百分比可以是大约3原子％或以上。由此，可以防止金属光泽的劣化，从而可以保持高的可设计性。预定元素可以是氧或氮。通过添加氧或氮，可以在保持高反射率的同时形成微细裂纹。由此，可以提供可设计性优异的结构体。金属层可以是铝、钛、铬、以及含有它们中的至少一种的合金中的任何一种。使用这些材料有利于保持高的可设计性。金属层可具有50nm或更大且300nm或更小的厚度。由此，可以在保持高反射率的同时表现出足够的无线电波透过率。微细裂纹的间距可在1μm或更大且500μm或更小的范围内。由此，可以表现出足够的无线电波透过率。装饰部可包括支撑层，所述支撑层的拉伸断裂强度小于金属层的拉伸断裂强度，并且支撑金属层。通过形成拉伸断裂强度比金属层的拉伸断裂强度低的支撑层，可以以低拉伸率形成微细裂纹。所述装饰部可具有固定所述微细裂纹的固定层。由此，可以表现出足够的无线电波透过率。所述结构体可以形成为壳体部件、车辆、或建筑物的至少一部分。通过应用本技术，壳体部件、车辆、和建筑物均可被设置成具有高的可设计性、并且尽管具有金属外观但能够允许无线电波透过。根据本技术的另一实施方式，提供一种装饰膜，其包含基膜和金属层。金属层是单层的、在基膜上形成的，包括微细裂纹，并且预定元素的添加浓度在金属层的厚度方向上不同。根据本技术的又一实施方式，提供一种用于制造结构体的方法，所述方法包括：形成包括单层金属层的装饰膜，在该金属层中添加有预定元素并形成微细裂纹，所述装饰膜的形成包括：通过沉积而在基膜上形成金属层，使得预定元素的添加浓度在金属层的厚度方向上不同，和通过拉伸所述基膜，在所述金属层中形成微细裂纹；通过将承载膜粘合至所述装饰膜上，形成转印膜；和通过模内成型方法、热印方法、或真空成型方法，以从所述转印膜转印所述装饰膜的方式形成成型部件。在该制造方法中，以添加浓度在厚度方向上不同的方式在基膜上形成添加有预定元素的单层金属层。然后，通过对基膜进行拉伸而形成微细裂纹。由此，例如，可以使用具有高反射率的铝或类似物作为金属层。此外，通过调节厚度方向上的添加浓度，也可以进行表面反射率的调节。结果，可以提供尽管具有金属外观但能够允许无线电波透过的可设计性优异的结构体。在根据本技术的另一实施方式的制造结构体的另一种方法中，形成转印膜，所述转印膜包括添加有预定元素并且其中形成有微细裂纹的金属层。此外，通过模内成型方法、热印方法、或真空成型方法，以转印从基膜上剥离的金属层的方式形成成型部件。在根据本技术的又一实施方式的用于制造结构体的又一方法中，通过嵌入成型方法，与所述装饰膜一体地形成成型部件。微细裂纹的形成可包括在每个轴向上以2％或更小的拉伸率对基膜进行双轴拉伸。由于添加了预定元素，因此可以以低拉伸率形成微细裂纹。根据本技术的又一实施方式的制造装饰膜的方法包括：通过沉积在基膜上形成添加了预定元素的单层金属层，使得预定元素的添加浓度在金属层的厚度方向上不同；和通过对所述基膜进行拉伸，在所述金属层中形成微细裂纹。本专利技术的有益效果如上所述，根据本技术，可以提供尽管具有金属外观但能够允许无线电波透过的可设计性优异的结构体。注意，本文披露的优点不必限于上文描述的那些，并且不仅可以获得上文描述的优本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种结构体，包含：/n装饰部，所述装饰部包括单层的金属层，所述金属层具有微细裂纹，并且预定元素的添加浓度在所述金属层的厚度方向上不同；和/n具有装饰区域的构件，所述装饰部粘合至所述装饰区域。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170331 JP 2017-0716001.一种结构体，包含：
装饰部，所述装饰部包括单层的金属层，所述金属层具有微细裂纹，并且预定元素的添加浓度在所述金属层的厚度方向上不同；和
具有装饰区域的构件，所述装饰部粘合至所述装饰区域。


2.根据权利要求1所述的结构体，其中
所述装饰部具有设计表面，
所述金属层具有
位于所述设计表面侧上的第一表面，和
位于所述第一表面的相反侧上的第二表面，并且
所述第一表面附近的区域是所述添加浓度相对较低的低添加浓度区域。


3.根据权利要求2所述的结构体，其中
所述低添加浓度区域包括所述添加浓度为零的区域。


4.根据权利要求2所述的结构体，其中
在所述金属层中，靠近所述第一表面的区域之外的至少一部分区域是所述添加浓度相对较高的高添加浓度区域。


5.根据权利要求2所述的结构体，其中
在所述金属层中，所述添加浓度从所述第二表面朝向所述第一表面减小。


6.根据权利要求2所述的结构体，其中
在所述金属层中，在靠近所述第一表面的区域和靠近所述第二表面的区域中，未与所述预定元素结合的金属的百分比大于等于预定阈值。


7.根据权利要求6所述的结构体，其中
在所述金属层中，在距离所述第一表面大约20nm的区域和距离所述第二表面大约20nm的各区域中，未与所述预定元素结合的金属的百分比为大约3原子％或以上。


8.根据权利要求1所述的结构体，其中
所述预定元素是氧或氮。


9.根据权利要求1所述的结构体，其中
所述金属层是铝、钛、铬、以及含有它们中的至少一种的合金中的任何一种。


10.根据权利要求1所述的结构体，其中
所述金属层具有50nm或更大且300nm或更小的厚度。


11.根据权利要求1所述的结构体，其中
所述微细裂纹的间距在1μm或更大且500μm或更小的范围内。


12.根据权利要求1所述的结构体，其中
所述装饰部包括支撑层，
所述支撑层的拉伸断裂强度小于所述金属层的拉伸断裂强度，并且
所述支撑层支撑所述金属层。


13.根据权利要求1所述的结...

【专利技术属性】
技术研发人员：福岛義仁，阿部淳博，下田和人，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP