The barrier laminated film (100) of the invention is successively provided with a base material layer (101), a stress relieving layer (102), an inorganic material layer (103), and a barrier resin layer (104). Moreover, the barrier resin layer (104) comprises an amide cross-linking compound of polycarboxylic acid and polyamine, and the stress relief layer (102) comprises a polyurethane resin system with aromatic ring structure on the main chain.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阻隔性层叠膜
本专利技术涉及阻隔性层叠膜。
技术介绍
作为阻隔性膜,在基材层上设置作为阻隔层的无机物层而成的阻隔性层叠膜是已知的。然而,该无机物层针对摩擦等的耐受性差,这样的阻隔性层叠膜在后加工的印刷时、层压时或内容物的填充时等时候,有时由于摩擦、拉伸而在无机物层中产生裂缝,阻隔性下降。因此,还使用了在无机物层上进一步层叠作为阻隔层的有机物层而成的阻隔性层叠膜。作为使用了有机物层作为阻隔层的阻隔性膜,具备由包含多元羧酸(polycarboxylicacid)及多胺(polyamine)的混合物形成的阻隔性树脂层的阻隔性层叠膜是已知的。作为涉及这样的阻隔性层叠膜的技术,可举出例如专利文献1(日本特开2005-225940号公报)及专利文献2(日本特开2014-184678号公报)中记载的技术。专利文献1中,公开了一种气体阻隔膜,其具有由多元羧酸、和多胺及/或多元醇制成的气体阻隔层,多元羧酸的交联度为40%以上。专利文献2中,公开了一种气体阻隔膜,在由塑料膜形成的基材的至少一面,由以多胺/多元羧酸成为12.5/87.5~27.5/72.5、并且(多胺+多元羧酸)/薄片状无机物成为100/5~50的方式混合而成的混合物制成膜。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2005-225940号公报专利文献2:日本特开2014-184678号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题针对阻隔性膜的各种特性所要求的技 ...
【技术保护点】
1.阻隔性层叠膜,其是依次具备基材层、应力缓和层、无机物层、和阻隔性树脂层的阻隔性层叠膜,/n所述阻隔性树脂层包含多元羧酸与多胺的酰胺交联物,/n所述应力缓和层包含在主链上具有芳香族环结构的聚氨酯系树脂。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170331 JP 2017-0727651.阻隔性层叠膜,其是依次具备基材层、应力缓和层、无机物层、和阻隔性树脂层的阻隔性层叠膜,
所述阻隔性树脂层包含多元羧酸与多胺的酰胺交联物,
所述应力缓和层包含在主链上具有芳香族环结构的聚氨酯系树脂。
2.如权利要求1所述的阻隔性层叠膜,其中,
于130℃对该阻隔性层叠膜进行30分钟蒸煮处理后的、在25℃、拉伸速度为300mm/分钟的条件下测定的所述基材层与所述阻隔性树脂层之间的180°剥离强度P为0.5N/15mm以上。
3.如权利要求1或2所述的阻隔性层叠膜,其中,
将于130℃对该阻隔性层叠膜进行30分钟蒸煮处理后的、在25℃、拉伸速度为300mm/分钟的条件下测定的所述基材层与所述阻隔性树脂层之间的180°剥离强度记为P[N/15mm],
将所述应力缓和层的厚度记为T[μm]时,
P/T为2.0以上且15.0以下。
4.如权利要求1~3中任一项所述的阻隔性层叠膜,其中,
所述应力缓和层的厚度为0.05μm以上且1.0μm以下。
5.如权利要求1~4中任一项所述的阻隔性层叠膜,其中,
40℃、90%RH时的水蒸气透过度为4.0g/(m2·24h)以下。
6.如权利要求1~5中任一项所述的阻隔性层叠膜,其中,
20℃、90%RH时的氧气透过度为10.0ml/(m2·24h·MPa)以下。
7.如权利要求1~6中任一项所述的阻隔性层叠膜,其中,
所述应力缓和层的红外吸收光谱中,715cm-1...
【专利技术属性】
技术研发人员:甲田千佳子,柴田辰也,福田和幸,内田隆,小田川健二,田原修二,铃木信悟,的场太辅,新川祥光,守屋英一,野本晃,
申请(专利权)人:三井化学东赛璐株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。