显示基板及其制备方法和修复方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显示基板及其制备方法和修复方法、显示装置。显示基板包括在基底上叠设的驱动电路层和发光结构层，所述驱动电路层包括驱动晶体管、辅助阴极线和修复电极，所述发光结构层的阳极连接所述驱动晶体管的漏电极，所述发光结构层的阴极连接所述辅助阴极线，所述修复电极用于在修复亮点不良时，将所述驱动晶体管的漏电极与辅助阴极线连接。本发明专利技术通过预先设置修复电极，修复电极用于在出现亮点不良时将所述驱动晶体管的漏电极与辅助阴极线连接，将亮点修复为暗点，不仅实现了有效修复顶发射型显示基板的亮点不良，提升了产品良品率，而且修复成功率高，不会对像素驱动电路造成破坏，也不会引起其它不良。

Display base plate, preparation method, repair method and display device

The invention provides a display base plate, a preparation method, a repair method and a display device thereof. The display substrate includes a drive circuit layer and a light-emitting structure layer stacked on the substrate, the drive circuit layer includes a drive transistor, an auxiliary cathode line and a repair electrode, the anode of the light-emitting structure layer is connected with the drain electrode of the drive transistor, the cathode of the light-emitting structure layer is connected with the auxiliary cathode line, and the repair electrode is used to repair the bad highlights, and the drive The leakage pole of the moving transistor is connected with the auxiliary cathode line. By setting repair electrode in advance, the repair electrode is used to connect the leakage electrode of the driving transistor with the auxiliary cathode line in case of bad bright spot, and repair the bright spot as a dark spot, which not only can effectively repair the bad bright spot of the top emitting display substrate, improve the product yield, but also has a high repair success rate, and will not cause damage to the pixel driving circuit, and will not cause damage to the pixel driving circuit Cause other defects.

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法和修复方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种显示基板及其制备方法和修复方法、显示装置。
技术介绍
有机发光二极管显示装置(OrganicLightEmittingDiode，OLED)具有超薄、大视角、主动发光、高亮度、发光颜色连续可调、成本低、响应速度快、低功耗、工作温度范围宽及可柔性显示等优点，已逐渐成为极具发展前景的下一代显示技术。依据出光方向的不同，OLED可分为底发射型和顶发射型。其中，底发射型OLED包括在平行于面板平面内并列设置的发光区和驱动电路区，发光结构设置在发光区，多个薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)和存储电容(CST)设置在驱动电路区。顶发射型OLED包括在垂直于面板平面内叠设的驱动电路层和发光层，驱动电路层包括多个薄膜晶体管和存储电容，发光层包括发光结构。由于顶发射型OLED的发光区与驱动电路重叠，因而具有开口率高的特点，已得到广泛应用。在OLED显示基板生产过程中，不可避免的会产生亮点不良。目前，现有亮点不良修复方法通常采用切断电源线或将阴阳极短路方式。但本申请专利技术人研究发现，采用现有亮点修复方法修复顶发射型OLED的亮点不良时，不仅亮点修复成功率低，而且会对像素驱动电路造成破坏，引起其它不良。
技术实现思路
本专利技术实施例所要解决的技术问题是，提供一种显示基板及其制备方法和修复方法、显示装置，以解决现有亮点不良修复方法成功率低且对像素驱动电路造成破坏等问题。为了解决上述技术问题，本专利技术实施例提供了一种显示基板，包括在基底上叠设的驱动电路层和发光结构层，所述驱动电路层包括驱动晶体管、辅助阴极线和修复电极，所述发光结构层的阳极连接所述驱动晶体管的漏电极，所述发光结构层的阴极连接所述辅助阴极线，所述修复电极用于在修复亮点不良时，将所述驱动晶体管的漏电极与辅助阴极线连接。可选地，所述修复电极设置在第一结构层中，所述驱动晶体管的漏电极和辅助阴极线设置在第二结构层中，所述第一结构层与第二结构层之间设置有绝缘层，所述修复电极与驱动晶体管的漏电极具有第一重叠区域，所述修复电极与辅助阴极线具有第二重叠区域。可选地，所述修复电极与栅线同层设置，所述驱动晶体管的漏电极和辅助阴极线与数据线同层设置。可选地，所述第一重叠区域设置有过孔，所述驱动晶体管的漏电极通过所述过孔与修复电极连接。可选地，所述第二重叠区域设置有过孔，所述辅助阴极线通过所述过孔与修复电极连接。可选地，所述修复电极为修复电极线，所述修复电极线与栅线平行，与所述辅助阴极线构成网格结构。可选地，所述驱动电路层还包括开关晶体管和存储电容，所述驱动晶体管和开关晶体管为底栅结构，所述发光结构层为顶发射结构。本专利技术实施例提供了一种显示装置，包括前述的显示基板。为了解决上述技术问题，本专利技术实施例还提供了一种显示基板的制备方法，包括：在基底上形成包括驱动晶体管、辅助阴极线和修复电极的驱动电路层，所述修复电极用于在修复亮点不良时将所述驱动晶体管的漏电极与辅助阴极线连接；在所述驱动电路层上形成发光结构层，所述发光结构层的阳极连接所述驱动晶体管的漏电极，所述发光结构层的阴极连接所述辅助阴极线。可选地，在基底上形成包括驱动晶体管、辅助阴极线和修复电极的驱动电路层中，所述修复电极形成在第一结构层中，所述驱动晶体管的漏电极和辅助阴极线形成在第二结构层中，所述第一结构层与第二结构层之间形成有绝缘层，所述修复电极与驱动晶体管的漏电极具有第一重叠区域，所述修复电极与辅助阴极线具有第二重叠区域。可选地，所述修复电极与栅线同层设置且通过同一次构图工艺形成，所述辅助阴极线和驱动晶体管的漏电极与数据线同层设置且通过同一次构图工艺形成。可选地，在基底上形成包括驱动晶体管、辅助阴极线和修复电极的驱动电路层中，所述第一重叠区域形成有过孔，所述驱动晶体管的漏电极通过所述过孔与修复电极连接。可选地，在基底上形成包括驱动晶体管、辅助阴极线和修复电极的驱动电路层中，所述第二重叠区域形成有过孔，所述辅助阴极线通过所述过孔与修复电极连接。可选地，所述修复电极为修复电极线，所述修复电极线与栅线平行，与所述辅助阴极线构成网格结构。可选地，在基底上形成包括驱动晶体管、辅助阴极线和修复电极的驱动电路层中，还形成有开关晶体管和存储电容，所述驱动晶体管和开关晶体管为底栅结构；在所述驱动电路层上形成发光结构层中，所述发光结构层为顶发射结构。为了解决上述技术问题，本专利技术实施例还提供了一种显示基板的修复方法，显示基板包括在基底上叠设的驱动电路层和发光结构层，所述驱动电路层包括驱动晶体管、辅助阴极线和修复电极，所述发光结构层的阳极连接所述驱动晶体管的漏电极，所述发光结构层的阴极连接所述辅助阴极线；在修复亮点不良时，所述修复方法包括：利用所述修复电极将所述驱动晶体管的漏电极与辅助阴极线连接。可选地，所述修复电极设置在第一结构层中，所述驱动晶体管的漏电极和辅助阴极线设置在第二结构层中，所述第一结构层与第二结构层之间设置有绝缘层，所述修复电极与驱动晶体管的漏电极具有第一重叠区域，所述修复电极与辅助阴极线具有第二重叠区域；利用所述修复电极将所述驱动晶体管的漏电极与辅助阴极线连接，包括：从基底远离驱动电路层的一侧，对所述第一重叠区域和第二重叠区域进行激光照射，将所述修复电极和驱动晶体管的漏电极焊接连接，将所述修复电极和辅助阴极线焊接连接。可选地，所述修复电极设置在第一结构层中，所述驱动晶体管的漏电极和辅助阴极线设置在第二结构层中，所述第一结构层与第二结构层之间设置有绝缘层，所述修复电极与驱动晶体管的漏电极通过过孔连接，所述修复电极与辅助阴极线具有第二重叠区域；利用所述修复电极将所述驱动晶体管的漏电极与辅助阴极线连接，包括：从基底远离驱动电路层的一侧，对所述第二重叠区域进行激光照射，将所述修复电极和辅助阴极线焊接连接。可选地，所述修复电极设置在第一结构层中，所述驱动晶体管的漏电极和辅助阴极线设置在第二结构层中，所述第一结构层与第二结构层之间设置有绝缘层，所述修复电极与驱动晶体管的漏电极具有第一重叠区域，所述修复电极与辅助阴极线通过过孔连接；利用所述修复电极将所述驱动晶体管的漏电极与辅助阴极线连接，包括：从基底远离驱动电路层的一侧，对所述第一重叠区域进行激光照射，将所述修复电极和驱动晶体管的漏电极焊接连接。可选地，激光照射的功率为50mW～100mW。本专利技术实施例提供了一种显示基板及其制备方法和修复方法、显示装置，通过预先设置修复电极，修复电极用于在出现亮点不良时，将所述驱动晶体管的漏电极与辅助阴极线连接，将亮点修复为暗点，不仅实现了有效修复顶发射型显示基板的亮点不良，避免了产品报废，提升了产品良品率，而且修复成功率高，不会对像素驱动电路造成破坏，也不会引起其它不良，能够应用于实际生产，具有良好的应用前景。当然，实施本专利技术的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上所述的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，其特征在于，包括在基底上叠设的驱动电路层和发光结构层，所述驱动电路层包括驱动晶体管、辅助阴极线和修复电极，所述发光结构层的阳极连接所述驱动晶体管的漏电极，所述发光结构层的阴极连接所述辅助阴极线，所述修复电极用于在修复亮点不良时，将所述驱动晶体管的漏电极与辅助阴极线连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括在基底上叠设的驱动电路层和发光结构层，所述驱动电路层包括驱动晶体管、辅助阴极线和修复电极，所述发光结构层的阳极连接所述驱动晶体管的漏电极，所述发光结构层的阴极连接所述辅助阴极线，所述修复电极用于在修复亮点不良时，将所述驱动晶体管的漏电极与辅助阴极线连接。


2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述修复电极设置在第一结构层中，所述驱动晶体管的漏电极和辅助阴极线设置在第二结构层中，所述第一结构层与第二结构层之间设置有绝缘层，所述修复电极与驱动晶体管的漏电极具有第一重叠区域，所述修复电极与辅助阴极线具有第二重叠区域。


3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述修复电极与栅线同层设置，所述驱动晶体管的漏电极和辅助阴极线与数据线同层设置。


4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一重叠区域设置有过孔，所述驱动晶体管的漏电极通过所述过孔与修复电极连接。


5.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第二重叠区域设置有过孔，所述辅助阴极线通过所述过孔与修复电极连接。


6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述修复电极为修复电极线，所述修复电极线与栅线平行，与所述辅助阴极线构成网格结构。


7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述驱动电路层还包括开关晶体管和存储电容，所述驱动晶体管和开关晶体管为底栅结构，所述发光结构层为顶发射结构。


8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～7任一所述的显示基板。


9.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
在基底上形成包括驱动晶体管、辅助阴极线和修复电极的驱动电路层，所述修复电极用于在修复亮点不良时将所述驱动晶体管的漏电极与辅助阴极线连接；
在所述驱动电路层上形成发光结构层，所述发光结构层的阳极连接所述驱动晶体管的漏电极，所述发光结构层的阴极连接所述辅助阴极线。


10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，在基底上形成包括驱动晶体管、辅助阴极线和修复电极的驱动电路层中，所述修复电极形成在第一结构层中，所述驱动晶体管的漏电极和辅助阴极线形成在第二结构层中，所述第一结构层与第二结构层之间形成有绝缘层，所述修复电极与驱动晶体管的漏电极具有第一重叠区域，所述修复电极与辅助阴极线具有第二重叠区域。


11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述修复电极与栅线同层设置且通过同一次构图工艺形成，所述辅助阴极线和驱动晶体管的漏电极与数据线同层设置且通过同一次构图工艺形成。


12.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，在基底上形成包括驱动晶体管、辅助阴极线和修复电极的驱动电路层中，所述第一重叠区域形成有过孔，所述驱动晶体管的漏电极通过所述过孔与修复电极连接。...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙诗，谢学武，艾雨，刘博文，刘浩，孔玉宝，张阿猛，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34