The invention provides an array base plate and a display device. The array substrate includes a substrate, a thin film transistor structure layer and a light-emitting layer. The thin film transistor structure layer is arranged on the substrate, and the thin film transistor structure layer has a number of wires. The light-emitting layer is arranged on the thin film transistor structure layer, and the light-emitting layer has several light-emitting units. The projection of the wiring on the substrate avoids the projection of the light-emitting unit on the substrate.
【技术实现步骤摘要】
阵列基板及显示装置
本专利技术涉及显示
,特别是一种阵列基板及显示装置。
技术介绍
在显示
,液晶显示面板(LiquidCrystalDisplay,LCD)与有机发光二极管显示面板(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)等平板显示装置已经逐步取代阴极线管显示器。其中,OLED显示面板以其低功耗、高饱和度、快响应时间及宽视角等独特优势逐渐占据上风,未来在车载、手机、平板、电脑及电视产品上具有广阔的应用空间。OLED显示面板主流驱动方式为电流驱动,工作电流由显示面板的下边框处通过源漏极(SD:SourceDrain)进行传输,因源漏极自身存在一定电阻,信号传输存在电压下降(IRDrop)现象,即相对于下边框而言,沿远离下边框的方向电压逐渐变小,输入电流相应减小,最终导致显示面板出现亮度不均现象,影响产品的使用性能。目前,一种解决OLED显示面板发光亮度不均的方法采用双层SD结构,从而减小源漏极的电阻,改善IRDrop现象。但是在双层的SD走线结构中,由于第二层SD走线层的膜厚在700nm以上,上层的有机平坦层也无法使其完全平坦化,因此会在发光层下形成段差,造成发光层发光面不平整,影响显示效果。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种阵列基板及显示装置,以解决现有技术中无法将双层SD走线结构平坦化所导致的发光层的发光面不平整,进而影响显示装置的显示效果。为实现上述目的,本专利技术提供一种阵列基板,所述阵列基板包括基板、薄膜晶体管结构层和发 ...
【技术保护点】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:/n基板;/n薄膜晶体管结构层,设于所述基板上,所述薄膜晶体管结构层其中具有若干走线;/n发光层,设于所述薄膜晶体管结构层上,所述发光层中具有若干发光单元,每一发光单元具有一发光区,所述走线在所述基板上的投影避开所述发光区在所述基板上的投影。/n
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:
基板;
薄膜晶体管结构层,设于所述基板上,所述薄膜晶体管结构层其中具有若干走线;
发光层,设于所述薄膜晶体管结构层上,所述发光层中具有若干发光单元,每一发光单元具有一发光区,所述走线在所述基板上的投影避开所述发光区在所述基板上的投影。
2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述发光单元成阵列排列,相邻两个发光单元的发光区具有一间隙,所述走线在所述基板上的投影落入所述间隙在所述基板上的投影中。
3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述发光单元包括红色发光单元、绿色发光单元、蓝色发光单元中的至少一种。
4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述薄膜晶体管结构层中具有:
第一平坦层,所述走线设于所述第一平坦层上;以及
第二平坦层,设于所述第一平坦层上,且覆盖所述走线。
5.如权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述发光层设有
第一电极,设于所述第二平坦层上,其两端分别延伸至所述发光区之外;
所述第一电极的其中一端穿过所述第二平坦层连接至所述走线。
6.如权利要求5所述的阵列基板,...
【专利技术属性】
技术研发人员:周思思,
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北;42
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