The invention discloses an array substrate and an OLED display device. The metal wiring of the array substrate adopts a three-layer metal structure design. By setting an inorganic insulating layer and an organic insulating layer between the two metal layers, the coupling effect between the two layers of wiring can be reduced; by exposing all or part of the organic insulating layer at the area where the second electrode plate forming the storage capacitance is exposed, the It can reduce the IR voltage drop and improve the uniformity of image display without increasing the mask.
【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及OLED显示装置
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种阵列基板及OLED显示装置。
技术介绍
近年来OLED(OrganicLightEmittingDiode,有机发光二极管)显示技术的快速发展,推动曲面和柔性显示产品迅速进入市场,相关领域技术更新也是日新月异。OLED是指利用有机半导体材料和发光材料在电场驱动下,通过载流子注入和复合导致发光的二极管。OLED显示装置由于重量轻、自发光、广视角、驱动电压低、发光效率高、功耗低、响应速度快等优点,应用范围越来越广泛。OLED是电流驱动器件,当有电流流经时OLED发光,且发光亮度由流经OLED自身的电流决定。大部分已有的IC(IntegratedCircuit,集成电路)都只传输电压信号,故OLED的像素驱动电路需要完成将电压信号转变为电流信号的任务。现有技术中的OLED像素驱动电路通常为7T1C(7transistor1capacitance,即七个薄膜晶体管加一个存储电容的结构)电路,以将电压变换为电流,并通过7T1C电路进行像素电流(Pixelcircuit)的控制。参考图1,现有的阵列基板的层状结构示意图。所述阵列基板包括基板衬底111,阻挡层(M/B)112,缓冲层(Buffer)113,有源层(Act)114,第一栅绝缘层(GI1)115,第一栅极层(GE1)116,第二栅绝缘层(GI2)117,第二栅极层(GE2)118,介电绝缘层(ILD)119,第一源/漏极层(SD1)120,钝化层(PV)121,第一平坦层(PLN1 ...
【技术保护点】
1.一种阵列基板,包括多个子像素,每一所述子像素包括一驱动薄膜晶体管以及一存储电容;其特征在于,所述阵列基板还包括:/n第一金属层,所述第一金属层构成所述驱动薄膜晶体管的栅电极和扫描驱动线;/n第二金属层,所述第二金属层构成所述驱动薄膜晶体管的源/漏电极、数据信号线、复位信号线以及所述存储电容的第一极板;/n第三金属层,所述第三金属层构成电源信号线以及所述存储电容的第二极板。/n
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,包括多个子像素,每一所述子像素包括一驱动薄膜晶体管以及一存储电容;其特征在于,所述阵列基板还包括:
第一金属层,所述第一金属层构成所述驱动薄膜晶体管的栅电极和扫描驱动线;
第二金属层,所述第二金属层构成所述驱动薄膜晶体管的源/漏电极、数据信号线、复位信号线以及所述存储电容的第一极板;
第三金属层,所述第三金属层构成电源信号线以及所述存储电容的第二极板。
2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一金属层与所述第二金属层之间包括一层无机绝缘层和一层有机绝缘层。
3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二金属层与所述第三金属层之间包括一层无机绝缘层和一层有机绝缘层。
4.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述存储电容的第一极板与第二极板之间仅设有一层所述无机绝缘层。
5.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第三金属层形成网状结构。
6.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括:
基板衬底...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐品全,王威,
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北;42
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