一种防微振平台制造技术

本发明专利技术提供了一种防微振平台，包括沿竖直方向层叠的工艺层及回风层，工艺层位于回风层的上方。防微振平台还包括环绕设置在工艺层上的第一围护墙、以及环绕设置在回风层上的第二围护墙。防微振平台还包括设置在第一围护墙顶部且与工艺层相对的过滤器。该防微振平台还包括用于支撑所述工艺层及所述回风层且阵列排列的多个支撑柱。工艺层包括位于每排支撑柱或每列支撑柱中相邻的两个支撑柱之间的cheese板、以及位于由cheese板围成的口字形区域内的华夫板，且cheese板及华夫板上设置有与第一回风夹道连通的通孔。通过在工艺层上相邻的两个支撑柱之间设置cheese板、在由cheese板围成的口字型区域内设置华夫板，以提高工艺层上的竖向刚度，提高工艺层的防微振性能。

An anti micro vibration platform

The invention provides a micro vibration proof platform, which comprises a process layer and a return air layer stacked vertically, and the process layer is located above the return air layer. The anti micro vibration platform also includes a first retaining wall surrounding the process layer and a second retaining wall surrounding the return air layer. The anti micro vibration platform also includes a filter arranged on the top of the first retaining wall and opposite to the process layer. The anti micro vibration platform also comprises a plurality of supporting columns arranged in an array for supporting the process layer and the return air layer. The process layer includes a cheese plate between two adjacent supporting columns in each row of supporting columns and a waffle plate in the mouth shaped area enclosed by the cheese plate, and the cheese plate and the waffle plate are provided with through holes connected with the first return air channel. In order to improve the vertical stiffness and the anti micro vibration performance of the process layer, the cheese plate is set between the two adjacent supporting columns and the waffle plate is set in the mouth shaped area enclosed by the cheese plate.

【技术实现步骤摘要】
一种防微振平台
本专利技术涉及洁净厂房的防微振建筑结构的
，尤其涉及一种防微振平台。
技术介绍
在集成电路生产过程中，由于线宽尺寸越来越小，受制于环境的因素也越来越多，从一块硅片开始到一块芯片产出，中间要经过几百道物理、化学的加工工序。在此期间，如果遭受任何污染，就会产生大量问题产品，如光刻工序，很小的微振动会引起对焦不准，曝光后的线路模糊，降低产品的成品率。除了对防微振动的要求，集成电路在生产过程中对空气的质量要求也比较高，空气在生产厂房内的滞留会携带较多的尘埃、颗粒、水汽、细菌等，不利于集成电路的生产。如图1所示，目前硅集成电路前工序工艺生产洁净厂房的FAB层(即工艺层)一般单独采用华夫板1(即waffle)的结构形式建成防微振平台，具体的，在支撑柱2之间以及由支撑柱2围成的区域内都是采用华夫板1的结构形式。在FAB层上设置有穿透FAB层的通孔3，满足净化空气从上而下垂直层流的功能。但是采用该设置方式所建成的防微振平台，在竖直方向上的刚度较差。
技术实现思路
本专利技术提供一种防微振平台，以提高工艺层的刚度本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防微振平台，其特征在于，包括：/n沿竖直方向层叠的工艺层(11)及回风层(12)，其中，所述工艺层(11)位于所述回风层(12)的上方；且所述工艺层(11)及所述回风层(12)间隔设置以形成第一回风夹道(13)；/n环绕设置在所述工艺层(11)上的第一围护墙(21)，以及环绕设置在所述回风层(12)上的第二围护墙(22)；所述第一围护墙(21)及所述第二围护墙(22)间隔设置以形成第二回风夹道(23)，且所述第一回风夹道(13)与所述第二回风夹道(23)连通；/n设置在所述第一围护墙(21)顶部且与所述工艺层(21)相对的过滤器(30)，且所述过滤器(30)与所述第二回风夹道(23)连...

【技术特征摘要】
1.一种防微振平台，其特征在于，包括：
沿竖直方向层叠的工艺层(11)及回风层(12)，其中，所述工艺层(11)位于所述回风层(12)的上方；且所述工艺层(11)及所述回风层(12)间隔设置以形成第一回风夹道(13)；
环绕设置在所述工艺层(11)上的第一围护墙(21)，以及环绕设置在所述回风层(12)上的第二围护墙(22)；所述第一围护墙(21)及所述第二围护墙(22)间隔设置以形成第二回风夹道(23)，且所述第一回风夹道(13)与所述第二回风夹道(23)连通；
设置在所述第一围护墙(21)顶部且与所述工艺层(21)相对的过滤器(30)，且所述过滤器(30)与所述第二回风夹道(23)连通；
用于支撑所述工艺层(11)及所述回风层(12)且阵列排列的多个支撑柱(40)；
其中，所述工艺层(11)包括位于每排支撑柱(40)或每列支撑柱(42)中相邻的两个支撑柱(40)之间的cheese板(51)、以及位于由所述cheese板(51)围成的口字形区域内的华夫板(52)；且所述cheese板(51)及所述华夫板(52)上设置有与所述第一回风夹道(13)连通的通孔(50)。


2.如权利要求1所述的防微振平台，其特征在于，每个支撑柱(40)包括第一支撑柱(41)以及第二支撑柱(42)；其中，所述第二支撑柱(42)的端面面积小于所述第一支撑柱(41)的端面面积，所述第一支撑柱(41)的横截面的形状为倒置的等腰梯形；
所述第一支撑柱(41)与所述cheese板(51)固定连接；所述第二支撑柱(42)穿过所述回风层(12)并与所述第一支撑柱(41)固定连接，且所述第二支撑柱(42)与所述回风层(22)固定连接。


3.如权利要求1所述的防微振平台，其特征在于，每排支撑柱(40)或每列支撑柱(40)中相邻的两个支撑柱(40)之间设置有连接所述两个支撑柱(40)的钢筋砼梁(511)，位于所述相邻的两个支撑柱(40)之间的通孔(50)设置在所述钢筋砼梁(511)上，以在所述相邻的两个支撑柱(40)之间形成所述cheese板(51)。


4.如权利要求3所述的防微振平台，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵广鹏，冯晓伟，胡斌，徐建雄，
申请(专利权)人：世源科技工程有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11