一种点蒸发源以及蒸镀设备制造技术

一种点蒸发源，其包括：坩埚本体，所述坩埚本体的内壁为旋转体的形式，所述旋转体的母线符合以下函数：y＝cos

A kind of point evaporation source and evaporation equipment

A point evaporation source includes a crucible body, the inner wall of the crucible body is in the form of a rotating body, and the bus of the rotating body conforms to the following function: y = cos

【技术实现步骤摘要】
一种点蒸发源以及蒸镀设备
本技术涉及显示装置的制造
，具体涉及一种点蒸发源以及蒸镀设备。
技术介绍
有机发光二极管是利用形成p－n结的有机薄膜层，从注入阳极的空穴与阴极的电子结合后发光的器件，具有响应速度快，重量轻，柔韧性好，视角广，低功耗等优点，是极具发展前景的新一代显示技术。为了满足大型OLED显示屏、OLED高分辨率手机显示的消费需求及量产效率最大化，通常使用基于大面积玻璃的量产工艺，在制作过程中最重要的工艺是有机薄膜及无机薄膜蒸镀的工艺。主要采用真空蒸镀工艺，是将装有粉末或是颗粒状蒸镀材料的点蒸发源(PointSource)放置在真空设备内部，参见附图1为现有技术中的点蒸发源蒸镀示意图，将装在蒸发源内部的蒸镀材料进行蒸发喷出使之在基板表面上形成有机或无机薄膜。但是在蒸镀过程中，参见附图2真空中分子沿直线运动，由于点蒸发源中蒸镀材料分子距离点源上方中心区域的距离较小，距离点源上方周边区域的距离较大；因此在分子运动速度相同、运动时间相同的情况下，长时间积累分子之后，会形成如图1所示的膜层结构，其膜层结构会呈现出中间凸，两边凹的情况，即呈现出圆弧状，造成膜层结构的不均匀。
技术实现思路
因此，本技术要解决的技术问题在于克服现有技术中的点蒸发源蒸镀的膜厚不均的缺陷，从而提供一种点蒸发源以及蒸镀设备。为此，本技术的技术方案如下：一种点蒸发源，其包括：坩埚本体，所述坩埚本体的内壁为旋转体的形式，所述旋转体的母线符合以下函数：y＝cos3θ,其中-90°≤θ≤90°；所述旋转体的轴为经过所述函数曲线的顶点的竖直直线。进一步地，还包括给所述坩埚本体加热的加热组件，所述加热组件包括贴合所述坩埚本体的外表面设置的加热丝。进一步地，所述加热丝构造为网状加热结构。进一步地，所述网状加热结构构造为沿从其顶部到底部的方向网眼尺寸逐渐增大。进一步地，所述坩埚本体具有均匀的厚度。进一步地，所述网状加热结构的网眼尺寸相同。进一步地，所述坩埚本体构造为沿从其顶部到底部的方向厚度逐渐增大。进一步地，还包括至少设于所述加热丝与所述坩埚本体外表面之间的导热层；所述导热层为由氮化硼压制而成的面状结构。进一步地，所述网状加热结构的网眼尺寸相同。一种蒸镀设备，其包括若干如上述任意一项所述的点蒸发源。进一步地，还包括环状支架，所述坩埚本体架设于所述环状支架上。本技术技术方案，具有如下优点：1.本技术提供的一种点蒸发源，其包括：坩埚本体，坩埚本体的内壁为旋转体的形式，旋转体的母线符合以下函数：y＝cos3θ,其中-90°≤θ≤90°；旋转体的轴为经过函数曲线的顶点的竖直直线。因本技术的坩埚本体具有特定形状的敞口，该敞口具有较大的发散角，使得蒸镀材料分子从坩埚本体的敞口内蒸发喷出时的运动范围较大，更有助于材料分子分散地运动至基板表面，实现大面积喷涂；同时由于敞口较大，分子的运动相对分散，可相应的减少对应于蒸发源中心位置上方的沉积厚度，增加对应于蒸发源边缘位置处的沉积厚度，有利于沉积成膜的均匀性。2.本技术提供的一种点蒸发源，还包括给坩埚本体加热的加热组件，加热组件包括贴合坩埚本体的外表面设置的加热丝；其中加热丝构造为网状加热结构，网状加热结构构造为沿从其顶部到底部的方向网眼尺寸逐渐增大；坩埚本体具有均匀的厚度；或者网状加热结构的网眼尺寸相同，坩埚本体构造为沿从其顶部到底部的方向厚度逐渐增大。由于坩埚本体为倒锥状结构，对应于坩埚底部内的蒸镀材料较少，对应于坩埚顶部内的蒸镀材料较多，因此本实施例中将坩埚本体设有均匀的厚度且网状加热结构构造为沿从其顶部到底部的方向网眼尺寸逐渐增大，或者网状加热结构的网眼尺寸相同且坩埚本体构造为沿从其顶部到底部的方向厚度逐渐增大，由此使得坩埚内顶部和底部的蒸镀材料均匀受热。3.本技术提供的一种蒸镀设备，由于其具备上述点蒸发源，因此具备该点蒸发源所带来的一切优点。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中点源蒸镀的基板上的膜厚分布示意图；图2为点蒸发源蒸镀结构示意图；图3为点蒸发源蒸镀原理示意图；图4为本技术的第一种实施方式的坩埚本体结构示意图；图5为本技术的第一种实施方式中的加热组件结构示意图；图6为本技术的另一种实施方式的坩埚本体结构示意图；图7为本技术的另一种实施方式中的加热组件结构示意图。附图标记说明：1-基板；2-点蒸发源；3-坩埚本体；4-加热组件；41-加热丝；42-电源系统；5-导热层；6-蒸汽；7-膜层。具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。实施例1本技术记载了一种蒸镀设备，如图1所示，其包括点蒸发源2和环状支架(未在图中示出)。其中点蒸发源2位于基板1的下方，其中将能够从各个方向蒸发等量材料的微小球状蒸发源称为点蒸发源。本实施例中的用于蒸镀的点蒸发源，参见附图4-5所示包括坩埚本体3和加热组件4，坩埚本体3架设于环状支架上，加热组件4用于给坩埚本体3加热。如图5所示，加热组件4包括加热丝41和电源系统42，其中加热丝41设于坩埚本体3的外表面对其进行加热，电源系统42与加热丝41电连接对其进行供电。其中技术人发现在生产制造过程中蒸汽入射角度θ成为影响成膜均匀性的主要因素，通过将坩埚本体3的内壁设为旋转体的形式，参见附图4，其中旋转体的母线符合以下函数：y＝cos3θ,其中-90°≤θ≤90°；即旋转体的母线为上述函数在区间-90°≤θ≤90°内的一段函数曲线，旋转体的轴为经过上述函数曲线的顶点的竖直直线，坩埚本体3的内壁即为由上述母线围绕旋转体的轴旋转形成的曲面。当在本实施例中的碗状坩埚本体3内加入蒸镀材料后，通过上述特定碗状结构的坩埚本体3，因其具有特定形状的敞口，该敞口具有较大的发散角，使得蒸镀材料分子从坩埚本体3的敞口本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种点蒸发源，其特征在于，包括：坩埚本体，所述坩埚本体的内壁为旋转体的形式，所述旋转体的母线符合以下函数：y＝cos

【技术特征摘要】
1.一种点蒸发源，其特征在于，包括：坩埚本体，所述坩埚本体的内壁为旋转体的形式，所述旋转体的母线符合以下函数：y＝cos3θ,其中-90°≤θ≤90°；所述旋转体的轴为经过所述函数曲线的顶点的竖直直线。2.根据权利要求1所述的一种点蒸发源，其特征在于：还包括给所述坩埚本体加热的加热组件，所述加热组件包括贴合所述坩埚本体的外表面设置的加热丝。3.根据权利要求2所述的一种点蒸发源，其特征在于：所述加热丝构造为网状加热结构。4.根据权利要求3所述的一种点蒸发源，其特征在于：所述网状加热结构构造为沿从其顶部到底部的方向网眼尺寸逐渐增大。5.根据权利要求4所述的一种点...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚松，甘帅燕，王亚，宋建华，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：新型
国别省市：河北,13