一种电容屏用双面镀光学导电玻璃制造技术

一种电容屏用双面镀光学导电玻璃，包括电子玻璃，电子玻璃的上表面和下表面都设置有多个膜层，电子玻璃的上表面从下到上依次设置有第一层镀膜、第二层镀膜和第三层镀膜，电子玻璃的下表面从上到下依次设置有第四层镀膜、第五层镀膜和第六层镀膜，第一层镀膜为NB2O5膜层，厚度为4.8‑6.8 nm，第二层镀膜为SIO2膜层，厚度为59.7‑61.7 nm，第三层镀膜为ITO膜层，厚度为23.4‑25.4 nm，第四层镀膜为NB2O5膜层，厚度为5.2‑7.2 nm，第五层镀膜为SIO2膜层，厚度为56‑58 nm，第六层镀膜为ITO膜层，厚度为12‑14 nm，总之本实用新型专利技术具有透过率高、光反射小和画面图像清晰的优点。

A double-sided optical conductive glass for capacitor screen

【技术实现步骤摘要】
一种电容屏用双面镀光学导电玻璃
本技术涉及导电玻璃
，尤其涉及一种电容屏用双面镀光学导电玻璃。
技术介绍
目前电容屏是一种复合玻璃屏，主要是利用感应人体的电流来进行信号的传递，具有耐磨损、寿命长和维护成本低等优点，电容屏的基本机构是在一个作为基板的电子玻璃的两个表面上分别设置ITO膜层，并且通常会在ITO膜层上蚀刻电路来进行信号的传递，但是电路的蚀刻很容易蚀刻掉不应该刻蚀的部位，并且留下电路蚀刻的蚀痕影迹，这些有蚀痕影迹的电容屏透过率低，视觉效果差，严重影响电容屏的使用，所以急需一种新型双面镀光学导电玻璃，通过膜系折射抵消ITO膜层被蚀刻线路后的色差底影效果，使光学导电玻璃能呈现清晰的图像。
技术实现思路
本技术提供一种电容屏用双面镀光学导电玻璃，以解决ITO膜层被蚀刻线路后透光率低和呈现图像不清晰的技术问题。为了解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：一种电容屏用双面镀光学导电玻璃，包括电子玻璃，电子玻璃的上表面和下表面都设置有多个膜层，电子玻璃的上表面从下到上依次设置有第一层镀膜、第二层镀膜和第三层镀膜，电子玻璃的下表面从上到下依次设置有第四层镀膜、第五层镀膜和第六层镀膜，第一层镀膜为NB2O5膜层，厚度为4.8-6.8nm，第二层镀膜为SIO2膜层，厚度为59.7-61.7nm，第三层镀膜为ITO膜层，厚度为23.4-25.4nm，第四层镀膜为NB2O5膜层，厚度为5.2-7.2nm，第五层镀膜为SIO2膜层，厚度为56-58nm，第六层镀膜为ITO膜层，厚度为12-14nm。进一步的，第一层镀膜厚度为5.8nm。进一步的，第二层镀膜厚度为60.7nm。进一步的，第三层镀膜厚度为24.4nm。进一步的，第四层镀膜厚度为6.2nm。进一步的，第五层镀膜厚度为57nm。进一步的，第六层镀膜厚度为13nm。相对于现有技术，本技术的有益效果为：本实用进行通过双边镀的工艺将NB2O5膜层和SIO2膜层镀在电子玻璃和ITO膜层之间，通过NB2O5和SIO2的打底提高电子玻璃的增透效果，通过不同膜厚的膜系搭配，使NB2O5+SIO2+ITO的反射光谱和NB2O5+SIO2的发射光谱接近一致，形成膜系折射抵消ITO膜层被蚀刻线路后的色差底影效果，从而使双面镀光学导电玻璃广泛的应用于电容屏领域，总之本技术具有透过率高、光反射小和画面图像清晰的优点。附图说明图1为本技术的结构示意图。图中：1、电子玻璃2、第一层镀膜3、第二层镀膜4、第三层镀膜5、第四层镀膜6、第五层镀膜7、第六层镀膜。具体实施方式实施例：如图1所示，一种电容屏用双面镀光学导电玻璃，包括水平设置的电子玻璃1，电子玻璃1的上表面从下到上依次设置有第一层镀膜2、第二层镀膜3和第三层镀膜4。第一层镀膜2为NB2O5膜层，厚度为5.8nm；第二层镀膜3为SIO2膜层，厚度为60.7nm；第三层镀膜4为ITO膜层，厚度为24.4nm。电子玻璃1的下表面从上到下依次设置有第四层镀膜5、第五层镀膜6和第六层镀膜7，第四层镀膜5为NB2O5膜层，厚度为6.2nm；第五层镀膜6为SIO2膜层，厚度为57nm，第六层镀膜7为ITO膜层，厚度为13nm。其中NB2O5镀膜具备良好的滤光性能和反光性能，SIO2镀膜具备强度高的优点和抗老化的特性，能够对NB2O5镀膜起到支撑作用，同时在和ITO膜层结合的过程中，能够防止电子玻璃1中的离子穿过ITO膜层向盒内的液晶里扩散，ITO膜层的主要成份是氧化铟锡，在厚度只有几千埃的情况下，氧化铟透过率高，氧化锡导电能力强，是一种具有高透过率的导电玻璃。但是ITO膜层在蚀刻电路的过程中很容易产生蚀痕影迹，单独利用ITO膜层来进行透光和反光时，蚀痕影迹部分的ITO膜层的透光率会发生较大的变化，从而使呈现的图像不清晰，而通过NB2O5+SIO2+ITO的顺序镀膜的导电玻璃，其折射率主要由NB2O5镀膜和SIO2镀膜来决定，不受ITO膜层的影响。本技术在使用时，按NB2O5+SIO2+ITO方式形成的膜系和仅由NB2O5+SIO2形成的膜系的反射光谱接近一致，ITO膜层中部分部位透光率的变化不会对整个导电玻璃的光线通过和反射造成影响，总之本技术具有透过率高、光反射小和画面图像清晰的优点。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电容屏用双面镀光学导电玻璃，其特征在于：包括电子玻璃，电子玻璃的上表面和下表面都设置有多个膜层，电子玻璃的上表面从下到上依次设置有第一层镀膜、第二层镀膜和第三层镀膜，电子玻璃的下表面从上到下依次设置有第四层镀膜、第五层镀膜和第六层镀膜，第一层镀膜为NB2O5膜层，厚度为4.8 ‑6.8 nm，第二层镀膜为SIO2膜层，厚度为59.7‑ 61.7 nm，第三层镀膜为ITO膜层，厚度为23.4 ‑25.4 nm，第四层镀膜为NB2O5膜层，厚度为5.2‑7.2 nm，第五层镀膜为SIO2膜层，厚度为56‑58 nm，第六层镀膜为ITO膜层，厚度为12 ‑14 nm。

【技术特征摘要】
1.一种电容屏用双面镀光学导电玻璃，其特征在于：包括电子玻璃，电子玻璃的上表面和下表面都设置有多个膜层，电子玻璃的上表面从下到上依次设置有第一层镀膜、第二层镀膜和第三层镀膜，电子玻璃的下表面从上到下依次设置有第四层镀膜、第五层镀膜和第六层镀膜，第一层镀膜为NB2O5膜层，厚度为4.8-6.8nm，第二层镀膜为SIO2膜层，厚度为59.7-61.7nm，第三层镀膜为ITO膜层，厚度为23.4-25.4nm，第四层镀膜为NB2O5膜层，厚度为5.2-7.2nm，第五层镀膜为SIO2膜层，厚度为56-58nm，第六层镀膜为ITO膜层，厚度为12-14nm。2.根据权利要求1所述的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡凡，
申请(专利权)人：河南康耀电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：河南,41