芳族化合物制造技术

本发明专利技术涉及适用于合成不对称多齿配体的芳族化合物。本发明专利技术还涉及合成不对称多齿配体和包含这些配体的金属络合物的方法，所述金属络合物适合用作有机电致发光器件中的发光体。

aromatic

The invention relates to aromatic compounds suitable for the synthesis of asymmetric multi tooth ligands. The invention also relates to a method for synthesizing asymmetric multi tooth ligands and metal complexes containing these ligands, which are suitable for use as luminescent bodies in organic electroluminescent devices.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】芳族化合物本专利技术涉及适合制备不对称多齿配体的芳族化合物。本专利技术还描述了制备不对称多齿配体和包含这些配体的金属络合物的方法，所述金属络合物适合用作有机电致发光器件中的发光体。根据现有技术，磷光有机电致发光器件(OLED)中使用的三重态发光体是铱或铂络合物，特别是具有芳族配体的邻位金属化络合物，其中配体通过带负电荷的碳原子和不带电荷的氮原子或通过带负电荷的碳原子和不带电荷的卡宾碳原子与金属键合。这种络合物的实例是三(苯基吡啶基)铱(III)及其衍生物。文献公开了许多相关的配体和铱络合物，例如与1-或3-苯基异喹啉配体、2-苯基喹啉或苯基卡宾的络合物。更具体地讲，WO2016/124304A1描述了具有桥连配体的金属络合物，其中这些通常含有三个二齿亚配体。所述公布中详述的实例包括具有不同亚配体的桥连配体。然而，在制备具有不同亚配体的桥连配体时，获得相对低的收率。因此，本专利技术所解决的问题在于提供一种制备多齿配体的新方法，其可以以高收率和低成本进行。本专利技术所解决的另一个问题在于提供一种制备适合作为OLED中使用的发光体的金属络合物的方法。所解决的一个特别问题在于提供关于效率、工作电压和/或寿命表现出改善性质的发光体。已经令人惊讶地发现，在多齿配体的制备中使用具有权利要求1的所有特征的芳族化合物解决了上述问题，并且可由所述配体获得的络合物非常适用于有机电致发光器件。本专利技术因此提供一种下式(I)的化合物，其中使用的符号和标记如下：Za、Zb、Zc相同或不同并且是Cl、Br、I、B(OR)2、OH、OSO2R、Si(R)3或具有1至20个碳原子的烷氧基或硫代烷氧基基团，优选为Cl、Br、I、B(OR)2、OH、OSO2R，更优选为Cl、Br、I、B(OR)2，尤其优选为Cl、Br、I；X在每种情况下相同或不同，并且是CR或N，优选为CR，或者如果一个Ra、Rb或Rc基团键合到X，则这个X为C，条件是每个环不超过三个符号X是N；R、Ra、Rb、Rc在每种情况下相同或不同，并且是H，D，F，Cl，Br，I，N(R1)2，CN，NO2，OH，COOH，C(＝O)N(R1)2，Si(R1)3，B(OR1)2，C(＝O)R1，P(＝O)(R1)2，S(＝O)R1，S(＝O)2R1，OSO2R1，具有1至20个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团，或具有2至20个碳原子的烯基或炔基基团，或具有3至20个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团，其中各个烷基、烷氧基、硫代烷氧基、烯基或炔基基团可以被一个或多个R1基团取代，其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被R1C＝CR1、C≡C、Si(R1)2、C＝O、NR1、O、S或CONR1代替，或具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可以被一个或多个R1基团取代的芳族或杂芳族环系，或具有5至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R1基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团；同时，也可以两个R基团一起或者一个R基团与Ra、Rb、Rc基团中的一个一起形成环系；R1在每种情况下相同或不同并且是H，D，F，Cl，Br，I，N(R2)2，CN，NO2，Si(R2)3，B(OR2)2，C(＝O)R2，P(＝O)(R2)2，S(＝O)R2，S(＝O)2R2，OSO2R2，具有1至20个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团，或具有2至20个碳原子的烯基或炔基基团，或具有3至20个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团，其中各个烷基、烷氧基、硫代烷氧基、烯基或炔基基团可以被一个或多个R2基团取代，其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被R2C＝CR2、C≡C、Si(R2)2、C＝O、NR2、O、S或CONR2代替，或具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可以被一个或多个R2基团取代的芳族或杂芳族环系，或具有5至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R2基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团，或具有5至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R2基团取代的芳烷基或杂芳烷基基团，或具有10至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R2取代的二芳基氨基基团、二杂芳基氨基基团或芳基杂芳基氨基基团；同时，两个或更多个R1基团可以一起形成环系；R2在每种情况下相同或不同，并且是H，D，F，或具有1至20个碳原子的脂族、芳族和/或杂芳族的有机基团，尤其是烃基基团，其中一个或多个氢原子也可以被F代替；同时，两个或更多个R2取代基也可以一起形成环系；条件是式(I)化合物不具有C3对称性。在本说明书的上下文中，两个或更多个基团可以一起形成环的措辞应理解为尤其意指两个基团通过化学键彼此连接，并且形式上消除两个氢原子。这通过以下方案说明：双环、三环和低聚环结构的成环同样是可行的。然而，此外，上述措辞还应理解为意指，如果两个基团中的一个是氢，则第二个基团与氢原子所键合的位置键合，形成环。这应通过以下方案说明：完全类似地，这也应理解为意指，如果两个基团都是氢原子，则代替这两个氢原子，通过单键形成环。芳族环系的形成应通过以下方案说明：这种成环可以发生在与直接键合到彼此的碳原子键合的基团上，或发生在与进一步远离的碳原子键合的基团上。优选在与直接键合到彼此的碳原子或同一碳原子键合的基团中形成这种环。在本专利技术的上下文中，芳基基团含有6至40个碳原子；在本专利技术的上下文中，杂芳基基团含有2至40个碳原子和至少一个杂原子，条件是碳原子和杂原子的总和为至少5。杂原子优选选自N、O和/或S。芳基基团或杂芳基基团在此应理解为意指简单的芳族环，即苯，或简单的杂芳族环，例如吡啶、嘧啶、噻吩等，或稠合的芳基或杂芳基基团，例如萘、蒽、菲、喹啉、异喹啉等。此外，在本专利技术的上下文中，其中两个、三个或更多个彼此直接键合的苯基基团通过CR2基团彼此桥连的基团，即例如芴基团、螺二芴基团或茚并芴基团，应被理解为芳基基团。在本专利技术的上下文中，芳族环系在环系中含有6至40个碳原子。在本专利技术的上下文中，杂芳族环系在环系中含有1至40个碳原子和至少一个杂原子，条件是碳原子和杂原子的总和为至少5。杂原子优选选自N、O和/或S。在本专利技术的上下文中，芳族或杂芳族环系应理解为意指不必仅含有芳基或杂芳基基团的体系，而是其中多个芳基或杂芳基基团也可能被非芳族单元(优选少于10％的除H以外的原子)如碳、氮或氧原子或羰基基团间断。例如，在本专利技术的上下文中，诸如三芳基胺、二芳基醚、二苯乙烯等的体系因此也应被视为芳族环系，并且其中两个或更多个芳基基团例如被直链或环状烷基基团或通过甲硅烷基基团间断的体系同样如此。此外，其中两个或更多个芳基或杂芳基基团彼此直接键合的体系，例如联苯、三联苯、四联苯或联吡啶，同样应被视为芳族或杂芳族环系。在本专利技术的上下文中，环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团应理解为意指单环、双环或多环基团。在本专利技术的上下文中，其中各个氢原子或CH2基团还可以被上述基团代替的C1-至C20-烷基基团意指例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、环丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、环丁基、2-甲基丁基、正戊基、仲戊基、叔戊基、2-戊基、新戊基、环戊基、正己基、仲己基、叔己基、2-己基、3-己基、新己基、环己基、1-甲基环戊基、2-甲基戊基、正庚基、2-庚基、3-庚基、4-庚基、环庚本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.式(I)的化合物，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.03.29 EP 17163531.11.式(I)的化合物，其中使用的符号和标记如下：Za、Zb、Zc相同或不同并且是Cl、Br、I、B(OR)2、OH、OSO2R、Si(R)3或具有1至20个碳原子的烷氧基或硫代烷氧基基团；X在每种情况下相同或不同，并且是CR或N，或者如果一个Ra、Rb或Rc基团键合到X，则这个X为C，条件是每个环不超过三个符号X是N；R、Ra、Rb、Rc在每种情况下相同或不同，并且是H，D，F，Cl，Br，I，N(R1)2，CN，NO2，OH，COOH，C(＝O)N(R1)2，Si(R1)3，B(OR1)2，C(＝O)R1，P(＝O)(R1)2，S(＝O)R1，S(＝O)2R1，OSO2R1，具有1至20个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团，或具有2至20个碳原子的烯基或炔基基团，或具有3至20个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团，其中各个烷基、烷氧基、硫代烷氧基、烯基或炔基基团可以被一个或多个R1基团取代，其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被R1C＝CR1、C≡C、Si(R1)2、C＝O、NR1、O、S或CONR1代替，或具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可以被一个或多个R1基团取代的芳族或杂芳族环系，或具有5至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R1取代的芳氧基或杂芳氧基基团；同时，两个R基团也可以一起或者与Ra、Rb、Rc基团中的一个一起形成环系；R1在每种情况下相同或不同并且是H，D，F，Cl，Br，I，N(R2)2，CN，NO2，Si(R2)3，B(OR2)2，C(＝O)R2，P(＝O)(R2)2，S(＝O)R2，S(＝O)2R2，OSO2R2，具有1至20个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团，或具有2至20个碳原子的烯基或炔基基团，或具有3至20个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团，其中各个烷基、烷氧基、硫代烷氧基、烯基或炔基基团可以被一个或多个R2基团取代，其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被R2C＝CR2、C≡C、Si(R2)2、C＝O、NR2、O、S或CONR2代替，或具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可以被一个或多个R2基团取代的芳族或杂芳族环系，或具有5至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R2基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团，或具有5至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R2基团取代的芳烷基或杂芳烷基基团，或具有10至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R2基团取代的二芳基氨基基团、二杂芳基氨基基团或芳基杂芳基氨基基团；同时，两个或更多个R1基团可以一起形成环系；R2在每种情况下相同或不同，并且是H，D，F，或具有1至20个碳原子的脂族、芳族和/或杂芳族的有机基团，尤其是烃基基团，其中一个或多个氢原子也可以被F代替；同时，两个或更多个R2取代基也可以一起形成环系；其特征在于所述式(I)的化合物不具有C3对称性。2.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于Za基团与Zb或Zc基团不同。3.根据权利要求1或2所述的化合物，其特征在于Ra基团与Rb或Rc基团不同。4.根据权利要求1至3中至少一项所述的化合物，其特征在于所述化合物符合式(II)，其中使用的符号Za、Zb、Zc、R、Ra、Rb、Rc和X具有权利要求1中给出的定义，并且n是0、1、2或3。5.根据权利要求1至4中至少一...

【专利技术属性】
技术研发人员：菲利普·施特塞尔，克里斯蒂安·埃伦赖希，
申请(专利权)人：默克专利有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE