The invention provides an application method of a plasma treatment device. The gas supply system in the plasma processing device of one embodiment includes a first to a third mechanism. A plurality of integration parts of the first mechanism are configured to select gas from more than one gas source and output the selected gas. The second mechanism is composed of distributing a plurality of gases from a plurality of integration parts, adjusting the flow of the distributed gases and outputting them. The third mechanism is composed of exhausting the gas in the gas supply system to the exhaust device. The application method comprises the steps of stopping a plurality of flow control units, closing a plurality of first valves, second valves and third valves in the mechanism, opening a plurality of fourth valves, and measuring the pressure of the exhaust pipe with a pressure gauge. Thus, leakage of a plurality of first valves of the gas supply system can be detected.
【技术实现步骤摘要】
等离子体处理装置的应用方法本申请是申请日为2015年8月6日、申请号为201580040141.9、专利技术名称为“气体供给系统、等离子体处理装置和等离子体处理装置的应用方法”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术的实施方式涉及气体供给系统、等离子体处理装置和等离子体处理装置的应用方法。
技术介绍
在半导体设备这样的电子设备的制造中,进行了使用等离子体处理装置的等离子体处理。例如,通过将被处理体暴露于等离子体中,可以进行蚀刻或成膜这样的处理。在包括等离子体处理的工艺中,有时通过依次改变供给相同的处理容器内的气体,可以对被处理体进行不同的等离子体处理。为了进行这样的工艺,等离子体处理装置需要具有能够切换供给不同气体的气体供给系统。作为具有这样的气体供给系统的等离子体处理装置,例如已知有下述的专利文献1所记载的等离子体处理装置。专利文献1所记载的等离子体处理装置具有处理容器和喷头。喷头具有多个气体排出部。多个气体排出部分别向处理容器内的不同的区域、即被处理体的同心的多个区域供给气体。从气体供给系统向这些多个气体排出部分别供给气体。气体供给系统具有多个流量控制单元组。各流量控制单元组包含多个流量控制单元。各流量控制单元组的流量控制单元与对应的一个气体排出部连接。另外,气体供给系统具有用于向各流量控制单元组的对应的流量控制单元分配气体的多个分支管。气体供给系统还具有分别与多个分支管连接的配管。不同的多个气源经由阀与这些配管的各个连接。在专利文献1所记载的等离子体处理装置中,能够将来自经由阀与各配管连接的多个气源中所选择的气源的气体分配给多个流量控制单元组,并能 ...
【技术保护点】
1.一种等离子体处理装置的应用方法,其用于检测等离子体处理装置中的气体供给系统所具有的多个第一阀的泄漏,所述等离子体处理装置的应用方法的特征在于:所述气体供给系统用于向所述等离子体处理装置供给气体,包括:具有多个整合部的第一机构,所述多个整合部各自对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体;对来自所述多个整合部的多种气体进行分配,对所分配的气体的流量进行调节并将其输出的第二机构;和该气体供给系统的排气用的第三机构,所述第一机构包括:分别与多个气源连接的多个第一配管;分别设置于所述多个第一配管的所述多个第一阀;和比所述多个第一配管的个数少的多个第二配管,所述多个整合部各自包括:所述多个第二配管中的一个第二配管;所述多个第一配管中的、从所述一个第二配管分支并与一个以上的气源连接的一个以上的第一配管;和所述多个第一阀中的、设置于所述一个以上的第一配管的一个以上的第一阀,所述第二机构包括:各自包括与所述多个第二配管的个数相同数量的多个流量控制单元的多个流量控制单元组;和将来自所述多个第二配管的气体分配给所述多个流量控制单元组的分别对应的流量控制单元的多个第三配管,所述第三机构包括:设 ...
【技术特征摘要】
2014.08.20 JP 2014-167475;2014.11.11 JP 2014-229221.一种等离子体处理装置的应用方法,其用于检测等离子体处理装置中的气体供给系统所具有的多个第一阀的泄漏,所述等离子体处理装置的应用方法的特征在于:所述气体供给系统用于向所述等离子体处理装置供给气体,包括:具有多个整合部的第一机构,所述多个整合部各自对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体;对来自所述多个整合部的多种气体进行分配,对所分配的气体的流量进行调节并将其输出的第二机构;和该气体供给系统的排气用的第三机构,所述第一机构包括:分别与多个气源连接的多个第一配管;分别设置于所述多个第一配管的所述多个第一阀;和比所述多个第一配管的个数少的多个第二配管,所述多个整合部各自包括:所述多个第二配管中的一个第二配管;所述多个第一配管中的、从所述一个第二配管分支并与一个以上的气源连接的一个以上的第一配管;和所述多个第一阀中的、设置于所述一个以上的第一配管的一个以上的第一阀,所述第二机构包括:各自包括与所述多个第二配管的个数相同数量的多个流量控制单元的多个流量控制单元组;和将来自所述多个第二配管的气体分配给所述多个流量控制单元组的分别对应的流量控制单元的多个第三配管,所述第三机构包括:设置有与吹扫气体的气源连接的第二阀和与排气装置连接的第三阀的排气管;在所述第二阀与所述第三阀之间,分别连接所述排气管和所述多个第二配管的多个第四配管;和分别设置于所述多个第四配管的多个第四阀,所述第二机构还包括在所述多个流量控制单元组的每一个中用于使来自所述多个流量控制单元的气体合流的多个合流管,所述等离子体处理装置用于对被处理体进行等离子体处理,包括:所述气体供给系统;提供用于收容被处理体的空间的处理容器;和用于向与所述多个流量控制单元组的个数相同数量的所述处理容器内的多个区域排出气体的多个气体排出部,所述多个合流管分别与所述多个气体排出部连接,所述气体供给系统还包括与所述排气管连接的压力计,该压力计在比所述第三阀更靠上游之处与所述排气管连接,所述等离子体处理装置的应用方法包括:使所述多个流量控制单元停止的步骤;关闭所述多个第一阀、所述第二阀和所述第三阀的步骤;打开所述多个第四阀的步骤;和利用所述压力计对所述排气管的压力进行计测的步骤。2.一种等离子体处理装置的应用方法,其用于检测等离子体处理装置中的气体供给系统所具有的多个第一阀的泄漏,所述等离子体处理装置的应用方法的特征在于:所述气体供给系统用于向所述等离子体处理装置供给气体,包括:具有多个整合部的第一机构,所述多个整合部各自对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体;对来自所述多个整合部的多种气体进行分配,对所分配的气体的流量进行调节并将其输出的第二机构;和该气体供给系统的排气用的第三机构,所述第一机构包括:分别与多个气源连接的多个第一配管;分别设置于所述多个第一配管的所述多个第一阀;和比所述多个第一配管的个数少的多个第二配管,所述多个整合部各自包括:所述多个第二配管中的一个第二配管;所述多个第一配管中的、从所述一个第二配管分支并与一个以上的气源连接的一个以上的第一配管;和所述多个第一阀中的、设置于所述一个以上的第一配管的一个以上的第一阀,所述第二机构包括:各自包括与所述多个第二配管的个数相同数量的多个流量控制单元的多个流量控制单元组;和将来自所述多个第二配管的气体分配给所述多个流量控制单元组的分别对应的流量控制单元的多个第三配管,所述第三机构包括:设置有与吹扫气体的气源连接的第二阀和与排气装置连接的第三阀的排气管;在所述第二阀与所述第三阀之间,分别连接所述排气管和所述多个第二配管的多个第四配管;和分别设置于所述多个第四配管的多个第四阀,所述第二机构还包括:分别与所述多个流量控制单元连接的多个第一分支管;分别与所述多个流量控制单元连接的多个第二分...
【专利技术属性】
技术研发人员:泽地淳,佐佐木则和,山岛淳,佐藤好保,野上健一,
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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