【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及在较高温度下运行的工艺设备中所用的阀门,更具体地,涉及在其流体通道的至少一部分上具有辐射吸收涂层的阀门。
技术介绍
通常的闸阀结构包括具有一流体通道和一阀座的阀壳、一可在流体通道的一开启位置和一关闭位置之间移动的密封板、以及一用于使密封板在开启位置和关闭位置之间移动的致动器机构。密封板与阀座配合并将流体通道密封在关闭位置。密封板也可以从关闭位置移动到缩回位置,然后再直线地移至开启位置。阀也可以在密封板处于部分开启的位置时运行。阀壳可包括用于将阀与其它的系统部件相连的安装凸缘。闸阀适合于多种应用。不同的应用可涉及液体、气体和真空。某些应用涉及高温气体的控制。这种应用的一个例子是在加工半导体晶片的设备中,诸如蚀刻和化学蒸汽沉积(CVD)系统。在这种类型的某些应用中,阀被一外部源加热,以使阀中的工艺气相沉积达到最小。在现有技术的系统中,用一加热器外套给阀加热,以使其保持在一设定点温度,诸如80℃。在其它一些应用中,在闸阀下游口上安装有一高真空泵。这种高真空泵可以是一种低温真空泵,通常工作在110K或更低的温度。当低温真空泵用于抽送具有较高温度的工艺气体时 ...
【技术保护点】
一种阀,它包括:一阀壳,所述阀壳具有一连通一入口和一出口的流体通道;一阀关闭件,所述阀关闭件可在一阻断所述流体通道的关闭位置和一允许流体流过所述流体通道的开启位置之间移动;以及在所述阀壳的所述流体通道的至少一部分上的 辐射吸收涂层。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:SR马特,WG福利,
申请(专利权)人:凡利安股份有限公司,
类型:发明
国别省市:US[美国]
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