平台系统和量测工具技术方案

公开了一种平台系统和一种包括至少一个这样的平台系统的量测装置。平台系统包括用于保持物体的平台载体和用于使平台载体位移的平台载体定位致动器。平台系统还包括用于抵消平台载体的位移的平衡质量块、以及用于使平衡质量块移位的平衡质量块定位致动器。电缆装置连接到平台载体用于向上述平台载体提供至少电力。平台系统可操作以向平衡质量块施加补偿前馈力，该补偿前馈力补偿由电缆装置施加的电缆装置力。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】平台系统和量测工具相关申请的交叉引用本申请要求于2017年3月17日提交的EP申请17161515.6的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
本专利技术涉及一种用于测量衬底的参数的平台系统和量测工具，已经在光刻设备为该衬底提供图案，该参数例如是层的套刻(Ovl)和/或临界尺寸(CD)和/或膜厚度(FT)和/或折射率(RI)和/或宏观缺陷和/或微观缺陷。
技术介绍
轨道是一种将一个或多个光敏膜施加到衬底上的机器(零个或多个膜可以是抗反射涂层以改善光刻设备的成像性能)。每个膜的厚度和折射率可能是关键的，并且因此必须例如使用FT和/或RI测量来控制。可以使用量测工具测量该涂覆的衬底，对数据进行处理并且可以将数据用于上游和下游工艺步骤的反馈或前馈控制。现在将涂覆的衬底输送到光刻设备以进行曝光。光刻设备是一种将期望图案施加到衬底上、通常施加到衬底的目标部分上的机器。例如，光刻设备可以用于制造集成电路(IC)。在这种情况下，可以使用图案形成装置(也可以称为掩模或掩模版)来生成要在IC的单独层上形成的电路图案。该图案可以转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分、一个或几个裸片)上。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种平台系统，包括平台载体，用于保持物体；平台载体定位致动器，用于使所述平台载体位移；平衡质量块，用于补偿所述平台载体的位移；平衡质量块定位致动器，用于使所述平衡质量块位移；电缆装置，连接到所述平台载体，用于向所述平台载体提供至少电力；其中所述平台系统可操作以向所述平衡质量块施加补偿前馈力，所述补偿前馈力补偿由所述电缆装置施加的电缆装置力。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.03.17 EP 17161515.61.一种平台系统，包括平台载体，用于保持物体；平台载体定位致动器，用于使所述平台载体位移；平衡质量块，用于补偿所述平台载体的位移；平衡质量块定位致动器，用于使所述平衡质量块位移；电缆装置，连接到所述平台载体，用于向所述平台载体提供至少电力；其中所述平台系统可操作以向所述平衡质量块施加补偿前馈力，所述补偿前馈力补偿由所述电缆装置施加的电缆装置力。2.根据权利要求1所述的平台系统，可操作以：对所述电缆装置进行建模，以从所述平台载体的位置获得所述电缆装置力的估计，以及使用所述电缆装置力的所述估计来确定所述补偿前馈力。3.根据权利要求1所述的平台系统，可操作以根据平台载体定位致动器力和平台载体加速度前馈力的差异来确定所述补偿前馈力，所述平台载体加速度前馈力是从所述平台载体的加速度设定点导出的。4.根据前述权利要求中任一项所述的平台系统，可操作以使得所述补偿前馈力在被施加到所述平衡质量块之前被滤波，以滤除来自所述电缆装置的谐振力。5.根据前述权利要求中任一项所述的平台系统，其中所述电缆装置包括电缆板。6.一种量测工具，可操作以测量衬底的参数，包括框架和安装到所述框架的一个或多个平台系统，其中所述一个或多个平台系统中的至少一个平台系统包括：平台载体，用于保持物体；平台载体定位致动器，用于使所述平台载体位移；平衡质量块，用于补偿所述平台载体的位移；平衡质量块定位致动器，用于使所述平衡质量块位移；电缆装置，连接在所述平台载体与所述框架之间，用于向所述平台载体提供至少电力；并且所述至少一个平台系统可操作以向所述平衡质量块施加补偿前馈力，所述补偿前馈力补偿由所述电缆装置施加的电缆装置力。7.根据权利要求6所述的量测工具，其中所述一个或多个平台系统中的至少一个平台系统可操作以：对所述至少一个平台系统的电缆装置进行建模，以从所述至少一个平台系统的平台载体的位置获得所述电缆装置力的估计，以及使用所述电缆装置力的所述估计来确定所述补偿前馈力。8.根据权利要求6所述的量测工具，其中所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·P·亨佩尼尤斯，M·K·M·巴格根，T·J·德霍格，S·朱莉安娜，H·M·J·范德格罗伊斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL