光学膜、光学膜的制造方法、偏振片及液晶显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种光学膜的制造方法，以及包含特定的嵌段共聚物的光学膜，其中，上述光学膜的制造方法包含通过将树脂A和树脂B进行共挤出，得到具有包含树脂A的核层和设置在核层面上的包含树脂B的表层的层叠膜的工序，以及将上述表层从上述层叠膜剥离的工序。上述光学膜的面内方向的延迟的绝对值为5nm以下，厚度方向的延迟的绝对值为10nm以下，且水蒸气透过率为20g/(m

Manufacturing method of optical film, optical film, polarizer and liquid crystal display device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学膜、光学膜的制造方法、偏振片及液晶显示装置
本专利技术涉及光学膜、光学膜的制造方法、偏振片及液晶显示装置。
技术介绍
设置在液晶显示装置的偏振片通常具有起偏器和用于保护起偏器的保护膜。在偏振片保护膜中，多数情况下要求延迟小，水蒸气透过率低。从这样的观点出发，提出了延迟小的起偏器保护膜(参考专利文献1)。此外，在制造和使用显示装置时的环境中，要求偏振片表现耐久性。例如，在制造显示装置时返工的时候、和使用显示装置时偏振片收缩的时候等，对于偏振片的保护膜，要求高剥离强度。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2011-013378号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的问题在专利文献1中提出的起偏器保护膜是使用包含嵌段共聚物的树脂而得到的，该嵌段共聚物包含芳香族乙烯基化合物氢化物的嵌段和二烯化合物氢化物的嵌段。根据这样的起偏器保护膜，能够减小面内方向的延迟。然而，当使用该起偏器保护膜时，会有下述问题：起偏器保护膜所包含的聚合物分子进行取向、分子间的络合降低从而在表层附近产生了凝聚破坏，由此能够引发偏振片中的保护膜的剥离强度不足。因此，本专利技术的目的在于提供一种与起偏器的密合性高、延迟小、且水蒸气透过率低的光学膜，能够容易地得到这样的光学膜的光学膜的制造方法，以及具备该光学膜、具有上述性能的偏振片和液晶显示装置。用于解决问题的方案对上述现有的起偏器保护膜中的问题进行研究，结果认为这是起因于在将该保护膜通过熔融挤出法进行成型的工序中，在该保护膜的表面形成了强取向层。因此，本专利技术人为了解决上述课题而进行了深入研究。结果本专利技术人发现：通过树脂A和树脂B的共挤出制作具有核层和设置在其面上的表层的层叠膜，将表层从该层叠膜剥离除去，由此得到了与对象物的密合性高、延迟小、且水蒸气透过率低的光学膜，完成了本专利技术。即，本专利技术为如下所述。[1]一种光学膜，其包含嵌段共聚物，上述嵌段共聚物包含：具有含环式烃基化合物单元的嵌段[Da]、以及具有链状烃化合物单元、或具有链状烃化合物单元和含环式烃基化合物单元的嵌段[Ea]，在表面与中央部的上述嵌段[Da]的体积与上述嵌段[Ea]的体积的组成比率的差为0～10％，面内方向的延迟的绝对值为5nm以下，厚度方向的延迟的绝对值为10nm以下，且水蒸气透过率为20g/(m2·日)以下。[2]根据[1]所述的光学膜，其是将包含上述嵌段共聚物的树脂进行挤出制膜而成的。[3]根据[1]或[2]所述的光学膜，其中，上述嵌段共聚物为如下的共聚物，上述共聚物包含每1分子2个以上的聚合物嵌段[Db]作为所述嵌段[Da]和每1分子1个以上的聚合物嵌段[Eb]作为所述嵌段[Ea]，上述聚合物嵌段[Db]具有含环式烃基化合物氢化物单元，上述聚合嵌段[Eb]具有链状烃化合物氢化物单元、或者具有链状烃化合物或其氢化物单元和含环式烃基化合物或其氢化物单元。[4]一种偏振片，其具有[1]～[3]中任1项所述的光学膜和起偏器。[5]一种液晶显示装置，其具有[4]所述的偏振片。[6]一种光学膜的制造方法，其包含以下工序：通过将树脂A和树脂B进行共挤出，得到层叠膜的工序，上述层叠膜具有包含树脂A的核层和设置在上述核层面上的包含树脂B的表层的，以及将上述表层从上述层叠膜剥离的工序，上述光学膜的面内方向的延迟的绝对值为5nm以下，厚度方向的延迟的绝对值为10nm以下，且水蒸气透过率为20g/(m2·日)以下。[7]根据[6]所述的光学膜的制造方法，其中，上述光学膜的上述面内方向的延迟的绝对值为2nm以下，上述光学膜的上述厚度方向的延迟的绝对值为2nm以下。[8]根据[6]或[7]所述的光学膜的制造方法，其中，上述树脂B包含含脂环式结构聚合物。[9]根据[6]～[8]中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，上述树脂A包含氢化嵌段共聚物，上述氢化嵌段共聚物包含每1分子2个以上的聚合物嵌段[D]和每1分子1个以上的聚合物嵌段[E]，上述聚合物嵌段[D]具有含环式烃基化合物氢化物单元，上述聚合物嵌段[E]具有链状烃化合物氢化物单元、或具有链状烃化合物氢化物单元和含环式烃基化合物氢化物单元。[10]根据[6]～[8]中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，上述树脂A包含嵌段共聚物，上述嵌段共聚物包含具有含环式烃基化合物单元的嵌段和具有链状烃化合物单元、或具有链状烃化合物单元和含环式烃基化合物单元的嵌段，在上述光学膜中，其在表面和中央部的组成比率的差为0～10％。专利技术效果本专利技术的光学膜能够制成与对象物的密合性高、延迟小、并且水蒸气透过率低的光学膜。根据本专利技术的光学膜的制造方法，能够容易地得到与对象物的密合性高、延迟小、并且水蒸气透过率低的光学膜。根据本专利技术的偏振片，能够提供具有上述那样的性能的偏振片。根据本专利技术的液晶显示装置，能够提供具有上述那样的性能的液晶显示装置。附图说明图1为示意性地示出本专利技术的制造方法中层叠膜制作工序的一个例子的剖面图。图2为示意性地示出本专利技术的制造方法中剥离工序的一个例子的剖面图。图3为示意性地示出在实施例的评价试验中使用的样品的剖面图。具体实施方式以下，对本专利技术示出实施方式及示例物，进行详细的说明。但是，本专利技术并不限定于以下示出的实施方式及示例物，在不脱离本专利技术的请求的范围及其同等的范围的范围内可以任意地变更实施。在以下的说明中，环式烃基是指芳香族环、环烷烃、环烯烃等包含环状的结构的烃基。此外，链状烃化合物是指不包含这样的环式烃基的烃化合物。在以下的说明中，只要没有另外说明，光学膜的面内方向的延迟Re为以Re＝(nx-ny)×d表示的值。此外，只要没有特别说明，光学膜的厚度方向的延迟Rth为以Rth＝{(nx+ny)/2-nz}×d表示的值。在此，nx表示在垂直于光学膜的厚度方向的方向(面内方向)中，给予最大折射率的方向的折射率。ny表示在光学膜的上述面内方向中与nx方向正交的方向的折射率。nz表示光学膜厚度方向的折射率。d表示光学膜的厚度。只要没有另外说明，延迟的测定波长为590nm。在以下说明中，只要没有另外说明，“偏振片”不只包含刚性的构件，也包含例如树脂制的膜这样的具有可挠性的构件。在以下的说明中，“长条”的膜是指相对于宽具有5倍以上的长度的膜，优选具有10倍或其以上的长度，具体而言，是指具有可卷成辊状而保管或搬运的程度的长度的膜。长条的膜的长度的上限没有特别限定，例如能够设为相对于宽度10万倍以下。[1.本专利技术的光学膜的制造方法]在本专利技术的某个方式中，光学膜的制造方法包含以下工序：通过将形成核层的树脂A和形成表层的树脂B进行共挤出，得到具有包含树脂A的核层和设置在核层面上的包含树脂B的表层的层叠膜的工序(层叠膜制作工序)、以及将表层从层叠膜剥离的工序(剥离工序)。[1.1.层叠膜制作工序的概要]在层叠膜制作工序中，通过将用于形成核层的树脂A和用于形成表层的树脂B进行共挤出，从而得到层叠膜。共挤出能够使用多层挤出机进行。在图1示出的实施方式中，层叠膜20在核层10的2个面上分别具有表层11、12。详细而言，层叠膜20具有表层11/核层10/表层12的层结构。图1示出的M为挤出成型机。层叠膜可以仅在核层一侧的面上具有表层，该情况下的层结构为表层/核层。从抑制膜的卷曲的观点出发，优选在核层的两面有表层。[1.1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学膜，其包含嵌段共聚物，所述嵌段共聚物包含：具有含环式烃基化合物单元的嵌段Da、以及具有链状烃化合物单元或具有链状烃化合物单元和含环式烃基化合物单元的嵌段Ea，在表面与中央部的所述嵌段Da的体积与所述嵌段Ea的体积的组成比率的差为0～10％，面内方向的延迟的绝对值为5nm以下，厚度方向的延迟的绝对值为10nm以下，且水蒸气透过率为20g/(m

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.03.30 JP 2017-0683381.一种光学膜，其包含嵌段共聚物，所述嵌段共聚物包含：具有含环式烃基化合物单元的嵌段Da、以及具有链状烃化合物单元或具有链状烃化合物单元和含环式烃基化合物单元的嵌段Ea，在表面与中央部的所述嵌段Da的体积与所述嵌段Ea的体积的组成比率的差为0～10％，面内方向的延迟的绝对值为5nm以下，厚度方向的延迟的绝对值为10nm以下，且水蒸气透过率为20g/(m2·日)以下。2.根据权利要求1所述的光学膜，其是将包含所述嵌段共聚物的树脂进行挤出制膜而成的。3.根据权利要求1或2所述的光学膜，其中，所述嵌段共聚物为如下的共聚物，所述共聚物包含每1分子2个以上的聚合物嵌段Db作为所述嵌段Da和每1分子1个以上的聚合物嵌段Eb作为所述嵌段Ea，所述聚合物嵌段Db具有含环式烃基化合物氢化物单元，所述聚合嵌段Eb具有链状烃化合物氢化物单元或者具有链状烃化合物或其氢化物单元和含环式烃基化合物或其氢化物单元。4.一种偏振片，其具有权利要求1～3中任1项所述的光学膜和起偏器。5.一种液晶显示装置，其具有权利要求4所述的偏振片。6.一种光学膜的制造方法，其包含以下工序：通过将树脂A和树脂B进行共挤出，...

【专利技术属性】
技术研发人员：辻野斗马，周宏晃，
申请(专利权)人：日本瑞翁株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP