一种研磨抛光牙缝的抛光条制造技术

技术编号:22457393 阅读:21 留言:0更新日期:2019-11-06 02:37
本发明专利技术涉及牙科医疗器械领域,具体而言,涉及一种研磨抛光牙缝的抛光条,基材为聚酯薄膜,包括若干研磨区和空白区,研磨区和空白区交替排列,研磨区单面有磨料,空白区表面光滑没有磨料。本发明专利技术的优点在于,具有三个磨料粒度不同的研磨区,分别为粗磨区、精磨区和抛光区,这样设计,一条抛光条可以实现从粗磨、精磨到抛光三步操作,方便使用。进一步,根据抛光条在牙缝研磨抛光应用时的具体要求,本发明专利技术将抛光条的抛光区设计成最长,精磨区次之,粗磨区最短。该设计贴合实际使用,可以使各研磨区得到充分使用,有效避免浪费。

A polishing strip for grinding and polishing teeth

【技术实现步骤摘要】
一种研磨抛光牙缝的抛光条
本专利技术涉及牙科医疗器械领域,具体而言,涉及一种研磨抛光牙缝的抛光条。
技术介绍
龋齿是俗称“虫牙”、“蛀牙”,是牙齿硬组织逐渐被破坏的一种疾病。龋齿最容易发生在磨牙和双尖牙的咬面小窝、裂沟中,以及相邻牙齿的接触面。前者称为窝沟龋,后者称为邻面龋。龋齿修补后需要形态调整及表面抛光,若修复面粗糙容易染色、食物残留及滋生细菌,并且患者舌头的感觉也非常差,感觉不舒服。近年来随着填充材料的发展,对研磨抛光材料有更高的要求,患者对美学也越来越重视,就拿复合树脂来说,里面所含的玻璃粉属于硬材料,树脂属于软材料,口内研磨抛光材料既要实现硬材料的研磨抛光同时满足软材料的完美曾亮。目前口内研磨抛光材料以车针和磨头居多,安装在高速手机上,实现研磨抛光,这种方式容易实现唇面和舌面的研磨抛光,但不能对邻面进行修整。本专利技术的抛光条可以很好地解决了邻面研磨抛光。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种研磨抛光牙缝的抛光条,以解决牙齿邻面的研磨抛光,避免相邻牙体组织的过多研磨。本专利技术提供了一种研磨抛光牙缝的抛光条,基材为聚酯薄膜,包括若干研磨区和空白区,研磨区和空白区交替排列,研磨区单面有磨料,空白区表面光滑没有磨料。所述研磨区有三个,分别是粗磨区(21)、精磨区(22)和抛光区(23)。所述空白区有四个,分别是空白区(11)、空白区(12)、空白区(13)和空白区(14),每个空白区长度为5~10mm。所述粗磨区(21)长度为30~50mm,粗磨区(21)表面磨料粒度为40~80μm;所述精磨区(22)长度为40~60mm,精磨区(22)表面磨料粒度为20~40μm;所述抛光区(23)长度为50~70mm,抛光区(23)表面磨料粒度为6~20μm。所述磨料为氧化铝、碳化硅、金刚石中的一种或两种。所述抛光条厚度为80~160μm。所述抛光条可单独使用,也可连续相连呈卷状,所述抛光条卷长度为1~6m。本专利技术的优点在于,具有三个磨料粒度不同的研磨区,分别为粗磨区(21)、精磨区(22)和抛光区(23),这样设计,一条抛光条可以实现从粗磨、精磨到抛光三步操作,方便使用。进一步,根据抛光条在牙缝研磨抛光应用时的具体要求,抛光区使用最频繁,消耗得最多,精磨次之,粗磨更次之,所以,本专利技术将抛光条的抛光区设计成最长,精磨区次之,粗磨区最短。该设计贴合实际使用,可以使各研磨区得到充分使用,有效避免浪费。本专利技术设计的抛光条的空白区5~10mm,便于使用者把持空白区进行操作,防止污染研磨区,另外便于进入牙缝,防止牙缝造成损伤,同时可防止抛光条过多进入口腔给患者带来的不适。本专利技术设计的抛光条很薄,厚度为80~160μm,不会造成牙缝过大的情况。本专利技术设计的抛光条可单独使用,也可连续相连呈卷状,每个抛光条卷长度为1~6m。使用时使用者可随用随取,避免浪费。附图说明为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为一种研磨抛光牙缝的抛光条的结构示意图。图2为一种卷状研磨抛光牙缝抛光条的结构示意图。图3为本专利技术在使用时的参考图。图示中的标号为:1-空白区;11-空白区;12-空白区;13-空白区;14-空白区;2-研磨区;21-粗磨区;22-精磨区;23-抛光区。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将对本专利技术的技术方案进行清楚、完整的描述。显然,所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施例。实施例下面结合附图对本专利技术做详细说明,实施例的用途仅在于解释本专利技术而非限定技术方案。一种研磨抛光牙缝的抛光条,基材为聚酯薄膜,包括若干研磨区和空白区,研磨区和空白区交替排列,研磨区单面有磨料,空白区表面光滑没有磨料。所述研磨区有三个,分别是粗磨区(21)、精磨区(22)和抛光区(23)。所述空白区有四个,分别是空白区(11)、空白区(12)、空白区(13)和空白区(14),每个空白区长度为5mm。所述粗磨区(21)长度为40mm,粗磨区(21)表面磨料粒度为60μm;所述精磨区(22)长度为50mm,精磨区(22)表面磨料粒度为30μm;所述抛光区(23)长度为60mm,抛光区(23)表面磨料粒度为10μm。所述的一种研磨抛光牙缝的抛光条,三个研磨区的磨料都为氧化铝。所述一种研磨抛光牙缝的抛光条,所述粗磨区(21)厚度135μm,精磨区(22)厚度为105μm,抛光区(23)厚度为85μm。该抛光条更有效的研磨抛光牙齿邻面,不破坏邻牙,便于操作,避免自身牙齿及牙龈的损伤,防止抛光条过多进入口腔给患者带来不适。本专利技术的优点在于,具有三个磨料粒度不同的研磨区,分别为粗磨区(21)、精磨区(22)和抛光区(23),这样设计,一条抛光条可以实现从粗磨、精磨到抛光三步操作,方便使用。进一步,根据抛光条在牙缝研磨抛光应用时的具体要求,抛光区使用最频繁,消耗得最多,精磨次之,粗磨更次之,所以,本专利技术将抛光条的抛光区设计成最长,精磨区次之,粗磨区最短。该设计贴合实际使用,可以使各研磨区得到充分使用,有效避免浪费。以上所述仅是本专利技术的优选实施方式,应当指出,对于本
的普通技术人员,在不脱离本专利技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本专利技术的保护范围。本文档来自技高网
...

【技术保护点】
1.一种研磨抛光牙缝的抛光条,基材为聚酯薄膜,其特征在于,包括若干研磨区和空白区,研磨区和空白区交替排列,研磨区单面有磨料,空白区表面光滑没有磨料。

【技术特征摘要】
1.一种研磨抛光牙缝的抛光条,基材为聚酯薄膜,其特征在于,包括若干研磨区和空白区,研磨区和空白区交替排列,研磨区单面有磨料,空白区表面光滑没有磨料。2.根据权利要求1所述的一种研磨抛光牙缝的抛光条,其特征在于,所述研磨区有三个,分别是粗磨区(21)、精磨区(22)和抛光区(23)。3.根据权利要求1所述的一种研磨抛光牙缝的抛光条,其特征在于,所述空白区有四个,分别是空白区(11)、空白区(12)、空白区(13)和空白区(14),每个空白区长度为5~10mm。4.根据权利要求1~3中任一项所述的一种研磨抛光牙缝的抛光条,其特征在于,所述粗磨区(21)长度为30~50mm,粗磨区...

【专利技术属性】
技术研发人员:王虹李鑫刘旭升
申请(专利权)人:盘锦国瑞升科技有限公司
类型:发明
国别省市:辽宁,21

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1