一种阵列基板及其制备方法、显示面板技术

本发明专利技术公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板。该阵列基板包括多个呈阵列排布的像素区，所述阵列基板包括：基底；像素电极，设置在所述基底上且位于所述像素区；隔离柱，设置在所述基底上且位于相邻两个所述像素区之间，所述隔离柱的侧表面具有疏水特性；以及，取向膜，设置在所述像素电极和所述隔离柱上且位于所述像素区，所述取向膜的两侧均与所述隔离柱的侧表面接触，所述取向膜的背离所述基底一侧的表面呈自两侧朝向中间逐渐凸起的形状。该阵列基板更容易在像素区形成更高厚度的取向膜，从而提高像素区取向膜的铆定力，避免像素区液晶紊乱，进而避免了漏光问题和显示异常，提高了显示的对比度和显示品质。

An array substrate and its preparation method and display panel

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制备方法、显示面板
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。
技术介绍
在ADS模式的显示面板中，数据线12与公共电极13之间均存在电场。数据线12与公共电极13之间的电场会导致在数据线12两侧漏光。为了降低数据线两侧漏光，通常的方法为增加对应的黑矩阵21的宽度，这就使得黑矩阵的宽度需要达到31um以上。这个宽度的黑矩阵，导致显示面板开口率下降。为了降低数据线两侧漏光，同时提高显示面板的开口率，现有技术中，采用BPSOnArray技术，即在阵列基板上采用BPS(BlackPhotoSpacer，黑色间隙控制材料)技术。采用BPSOnArray技术后，大幅度提高了显示面板的开口率。但是，采用BPSOnArray技术的显示面板在暗态下，像素区密布点状漏光，该漏光严重影响了显示面板的对比度和正常显示。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的是，提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，以解决显示面板漏光问题。为了解决上述技术问题，本专利技术实施例提供一种阵列基板，包括多个呈阵列排布的像素区，所述阵列基板包括：基底；像素电极，设置在所述基底上且位于所述像素区；隔离柱，设置在所述基底上且位于相邻两个所述像素区之间，所述隔离柱的侧表面具有疏水特性；以及，取向膜，设置在所述像素电极和所述隔离柱上且位于所述像素区，所述取向膜的两侧均与所述隔离柱的侧表面接触，所述取向膜的背离所述基底一侧的表面呈自两侧朝向中间逐渐凸起的形状。可选地，所述隔离柱包括设置在所述基底上的BPS层以及设置在所述BPS层外表面上的疏水材料层。可选地，所述疏水材料层的材质包括特氟龙。可选地，所述阵列基板还包括设置在所述像素电极和所述取向膜之间且位于所述像素区的调节层，所述调节层的两侧边缘均与所述隔离柱的侧表面接触，所述调节层的朝向所述取向膜一侧的表面呈自两侧朝向中间逐渐凹陷的形状。可选地，所述调节层的材质包括疏水材料。可选地，所述像素电极包括多个间隔设置的电极条。为了解决上述技术问题，本专利技术实施例还提供一种阵列基板的制备方法，所述阵列基板包括多个呈阵列排布的像素区，所述制备方法包括：在基底上形成位于像素区的像素电极以及位于相邻两个所述像素区之间的隔离柱，所述隔离柱的侧表面具有疏水特性；在所述像素电极和所述隔离柱上形成位于所述像素区的取向膜，所述取向膜的两侧均与所述隔离柱的侧表面接触，所述取向膜的背离所述基底一侧的表面呈自两侧朝向中间逐渐凸起的形状。可选地，在基底上形成位于相邻两个所述像素区之间的隔离柱，所述隔离柱的侧表面具有疏水特性，包括：在基底上形成位于相邻两个所述像素区之间的BPS层；在所述BPS层上形成疏水材料层。可选地，所述疏水材料层的材质包括特氟龙。可选地，通过转印工艺形成所述取向膜。可选地，所述在所述像素电极和所述隔离柱上形成位于所述像素区的取向膜，包括：在所述像素电极和所述隔离柱上形成位于所述像素区的调节层，所述调节层的两侧边缘均与所述隔离柱的侧表面接触，所述调节层的朝向所述取向膜一侧的表面呈自两侧朝向中间逐渐凹陷的形状；在所述调节层上形成所述取向膜。可选地，所述调节层的材质包括疏水材料。可选地，采用涂覆工艺形成所述调节层。为了解决上述技术问题，本专利技术实施例还提供了一种显示面板，包括如上所述的阵列基板。本专利技术实施例的阵列基板，形成的取向膜的上表面呈自两侧朝向中间逐渐凸起的形状。这就使得取向膜中间位置的厚度大于两侧位置的厚度，即取向膜在像素区中间位置的厚度大于两侧位置的厚度，从而，更容易在像素区形成更高厚度的取向膜，很容易使像素区取向膜的厚度达到600埃以上，进而，在摩擦形成沟槽时便可以在像素区形成良好的摩擦效果，提高像素区取向膜的铆定力，避免像素区液晶紊乱，进而避免了漏光问题和显示异常，提高了显示的对比度和显示品质。本专利技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。附图说明附图用来提供对本专利技术技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本专利技术的技术方案，并不构成对本专利技术技术方案的限制。图1为一种ADS模式显示面板的结构示意图；图2为图1中的A-A截面视图；图3为一种采用BPS技术的ADS模式显示面板的结构示意图；图4为图3中的B-B截面视图；图5为一种显示面板中阵列基板在形成取向膜前隔离柱的示意图；图6为包含图5所示阵列基板的显示面板在暗态下的示意图；图7为一种采用BPS技术阵列基板的结构示意图；图8为图7所示阵列基板中一次转印形成取向膜后像素区中间区域的示意图；图9为图7所示阵列基板中一次转印形成取向膜后隔离柱侧部的示意图；图10为图7所示阵列基板中两次转印形成取向膜后像素区中间区域的示意图；图11为图7所示阵列基板中两次转印形成取向膜后隔离柱侧部的示意图；图12为一次转印形成取向膜后显示面板在暗态下的示意图；图13为两次转印形成取向膜后显示面板在暗态下的示意图；图14为本专利技术第一实施例阵列基板的俯视结构示意图；图15为图14中的C-C截面结构示意图；图16为毛细现象结构示意图；图17为图2所示显示面板工作状态示意图；图18a为采用BPS技术的显示面板的工作状态示意图；图18b为隔离柱为BPS材料时图18a所示显示面板的漏光量示意图；图18c为采用本专利技术实施例隔离柱时图18a所示显示面板的漏光量示意图；图19a为阵列基板中形成像素电极后的结构示意图；图19b为阵列基板中形成BPS层后的结构示意图；图19c为阵列基板中形成疏水材料层后的结构示意图；图19d为阵列基板中形成调节层后的结构示意图。附图标记说明：10—基底；11—像素电极；12—数据线；13—公共电极；14—隔离柱；141—BPS层；142—疏水材料层；15—取向膜；17—调节层；21—黑矩阵；100—像素区。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本专利技术的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。图1为一种ADS模式显示面板的结构示意图，图2为图1中的A-A截面视图。如图1和图2所示，ADS模式显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板。阵列基板上设置有像素电极11、数据线12和公共电极13，像素电极11、数据线12和公共电极13分别位于不同层。彩膜基板上设置有黑矩阵21，黑矩阵21用于遮挡漏光。数据线12与像素电极11、数据线13与公共电极13之间均存在电压差，因此，数据线12与像素电极11之间、数据线12与公共电极13之间均存在电场。数据线12与公共电极13之间的电场会导致在数据线12两侧漏光。为了降低数据线两侧漏光，通常的方法为增加对应的黑矩阵21的宽度，这就使得黑矩阵的宽度需要达到31um以上。这个宽度的黑矩阵，导致显示面板开口率下降。图3为一种采用BPS技术的ADS模式显示面板的结构示意图，图4为图3中的B-B截面视图。如图3和图4所示，显示面板采用BPSOnArray技术，即在阵列基板上采用BPS(BlackPhotoSpacer，黑色间隙控制材料)技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括多个呈阵列排布的像素区，其特征在于，所述阵列基板包括：基底；像素电极，设置在所述基底上且位于所述像素区；隔离柱，设置在所述基底上且位于相邻两个所述像素区之间，所述隔离柱的侧表面具有疏水特性；以及，取向膜，设置在所述像素电极和所述隔离柱上且位于所述像素区，所述取向膜的两侧均与所述隔离柱的侧表面接触，所述取向膜的背离所述基底一侧的表面呈自两侧朝向中间逐渐凸起的形状。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括多个呈阵列排布的像素区，其特征在于，所述阵列基板包括：基底；像素电极，设置在所述基底上且位于所述像素区；隔离柱，设置在所述基底上且位于相邻两个所述像素区之间，所述隔离柱的侧表面具有疏水特性；以及，取向膜，设置在所述像素电极和所述隔离柱上且位于所述像素区，所述取向膜的两侧均与所述隔离柱的侧表面接触，所述取向膜的背离所述基底一侧的表面呈自两侧朝向中间逐渐凸起的形状。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述隔离柱包括设置在所述基底上的BPS层以及设置在所述BPS层外表面上的疏水材料层。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述疏水材料层的材质包括特氟龙。4.根据权利要求1～3中任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述像素电极和所述取向膜之间且位于所述像素区的调节层，所述调节层的两侧边缘均与所述隔离柱的侧表面接触，所述调节层的朝向所述取向膜一侧的表面呈自两侧朝向中间逐渐凹陷的形状。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述调节层的材质包括疏水材料。6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素电极包括多个间隔设置的电极条。7.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述阵列基板包括多个呈阵列排布的像素区，所述制备方法包括：在基底上形成位于像素区的像素电极以及位于相邻两个...

【专利技术属性】
技术研发人员：岳阳，王洪润，姚琪，杨桐，李翔，于勇，黄海涛，徐传祥，廖峰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11