一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，通过将指纹识别元件设置在彩膜基板的衬底基板与黑矩阵之间，该衬底基板背离指纹识别元件的侧面为显示面，当该彩膜基板作为液晶显示面板的彩膜基板时，使得背光模组发出的光线只在出射过程中需要经过液晶、色组等膜层，从手指反射至指纹识别元件的光线不需要再次经过液晶、色组等膜层，减少了液晶、色组等膜层对光线的干扰作用，降低了光线的损耗，提高了指纹识别的精度；另外，本发明专利技术提供的指纹识别元件在衬底基板上的正投影位于黑矩阵在衬底基板上的正投影内，这样指纹识别元件的设置不会影响彩膜基板的开口率；因此，本发明专利技术能够在不影响开口率的基础上实现提高指纹识别的精度。

A color film substrate and its manufacturing method, display panel and display device

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置
本专利技术涉及彩膜基板
，特别涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置。
技术介绍
现有技术提供的显示装置中，通常采用光敏二极管等光电传感器进行指纹识别。通常情况下，光敏二极管设置在阵列基板上，在光线从显示面板射出再经手指反射回光敏二极管的过程中，需要穿过比较多的膜层，造成光线损失，从而导致指纹识别精度不高。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种彩膜基板、其制作方法及检测装置，用以解决现有技术中指纹识别精度不高的问题。因此，本专利技术实施例提供了一种彩膜基板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵，以及位于所述衬底基板与部分所述黑矩阵之间的多个指纹识别元件，所述指纹识别元件在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影内，所述衬底基板背离所述指纹识别元件的侧面为显示面。可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述彩膜基板中，还包括：位于所述指纹识别元件与所述衬底基板之间的光学滤光器，所述光学滤光器在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影内；所述光学滤光器被配置为用于滤除环境光。可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述彩膜基板中，还包括：位于所述指纹识别元件与所述光学滤光器之间的透镜结构，所述透镜结构在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影内。可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述彩膜基板中，所述黑矩阵包括沿第一方向延伸的多条第一遮光部和沿第二方向延伸的多条第二遮光部，所述第一遮光部和所述第二遮光部交叉形成网格状的黑矩阵，所述指纹识别元件位于所述第一遮光部和所述第二遮光部的交叠区域，且各所述指纹识别元件呈阵列排布。可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述彩膜基板中，还包括：位于所述指纹识别元件与所述黑矩阵之间的薄膜晶体管、扫描线和读取线，所述薄膜晶体管在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影内；所述薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极，所述扫描线与所述栅极电连接，所述读取线与所述源极电连接，所述漏极与所述指纹识别元件电连接；所述薄膜晶体管被配置为用于将所述指纹识别元件输出的电信号通过所述读取线输出。可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述彩膜基板中，所述指纹识别元件为CMOS传感器。相应地，本专利技术实施例还提供了一种显示面板，包括：相对设置的阵列基板和彩膜基板，所述彩膜基板为本专利技术实施例提供的上述任一项所述的彩膜基板。相应地，本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括本专利技术实施例提供的上述显示面板，还包括位于所述阵列基板背离所述彩膜基板一侧的背光模组。相应地，本专利技术实施例还提供了一种本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成指纹识别元件；在所述指纹识别元件所在膜层背离所述衬底基板一侧形成黑矩阵。可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，在形成所述指纹识别元件之前，还包括：在所述衬底基板上形成光学滤光器。可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，在形成所述光学滤光器之后，在形成所述指纹识别元件之前，还包括：在所述光学滤光器背向所述衬底基板一侧形成透镜结构。可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，在形成所述指纹识别元件之后，在形成所述黑矩阵之前，还包括：在所述指纹识别元件背向所述衬底基板一侧形成薄膜晶体管、扫描线和读取线。本专利技术的有益效果：本专利技术实施例提供的彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，通过将指纹识别元件设置在彩膜基板的衬底基板与黑矩阵之间，该衬底基板背离指纹识别元件的侧面为显示面，当该彩膜基板作为液晶显示面板的彩膜基板时，从而使得背光模组发出的光线只在出射过程中需要经过液晶、色组等膜层，从手指反射至指纹识别元件的光线不需要再次经过液晶、色组等膜层，减少了液晶、色组等膜层对光线的干扰作用，降低了光线的损耗，提高了指纹识别的精度；另外，本专利技术提供的指纹识别元件在衬底基板上的正投影位于黑矩阵在衬底基板上的正投影内，这样指纹识别元件的设置不会影响彩膜基板的开口率；因此，本专利技术实施例提供的彩膜基板能够在不影响开口率的基础上实现提高指纹识别的精度。附图说明图1为本专利技术实施例提供的彩膜基板的结构示意图之一；图2为本专利技术实施例提供的彩膜基板的结构示意图之二；图3为本专利技术实施例提供的彩膜基板部分膜层的俯视结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的显示面板的结构示意图；图5A为本专利技术实施例提供的显示装置的结构示意图之一；图5B为本专利技术实施例提供的显示装置的结构示意图之二；图6为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图之一；图7为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图之二；图8为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图之三；图9为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图之四。具体实施方式为了使本专利技术的目的，技术方案和优点更加清楚，下面结合附图，对本专利技术实施例提供的彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置的具体实施方式进行详细地说明。附图中各层薄膜厚度和形状不反映彩膜基板的真实比例，目的只是示意说明本
技术实现思路
。本专利技术实施例提供了一种彩膜基板，如图1所示，包括：衬底基板1，位于衬底基板1上的黑矩阵2，多个色组3，黑矩阵2位于色组3之间，以及位于衬底基板1与部分黑矩阵2之间的多个指纹识别元件4，指纹识别元件4在衬底基板1上的正投影位于黑矩阵2在衬底基板1上的正投影内，衬底基板1背离指纹识别元件4的侧面为显示面。具体地，本专利技术实施例提供的彩膜基板，如图1和图5A所示，图5A为包括图1所示的彩膜基板的显示装置结构示意图，通过将指纹识别元件4设置在彩膜基板的衬底基板1与黑矩阵2之间，该衬底基板1背离指纹识别元件4的侧面为显示面，当该彩膜基板作为图4所示的液晶显示装置的彩膜基板时，背光模组500发出的光线L从显示面板出射后，经过手指10反射后形成反射光，反射光传输至彩膜基板上的指纹识别元件4，指纹识别元件4对入射到其上的光信号进行采集，由于指纹上存在特定的纹路，在手指10的脊和谷各位置处形成的反射光强度不同，最终使得各指纹识别元件4所采集到的光信号不同，从而进行指纹识别。本专利技术将指纹识别元件设置在彩膜基板中，在该彩膜基板应用在液晶显示装置中时，背光模组500发出的光线L从显示面板出射的过程中，需要经过液晶层300和色阻3，但是光线L在反射回指纹识别元件4的过程中，不需要再次经过色阻3和液晶层300，即本专利技术提供的包括本专利技术的彩膜基板的显示装置中，光线L在反射回指纹识别元件4的过程中经过的膜层结构较少，减少了液晶层300、色组3等膜层对光线的干扰作用，降低了光线的损耗，提高了指纹识别的精度；另外，本专利技术提供的指纹识别元件4在衬底基板1上的正投影位于黑矩阵2在衬底基板1上的正投影内，这样指纹识别元件4的设置不会影响彩膜基板的开口率；因此，本专利技术实施例提供的彩膜基板能够在不影响开口率的基础上实现提高指纹识别的精度。需要说明的是，在具体实施时，本专利技术实施例的黑矩阵的透光率需要尽可能低，以避免本专利技术实施例提供的彩膜基板所在的显示装置的背光模组出射的光线对指纹识别元件产生干扰。进一步地，在具体实施时，由本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵，以及位于所述衬底基板与部分所述黑矩阵之间的多个指纹识别元件，所述指纹识别元件在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影内，所述衬底基板背离所述指纹识别元件的侧面为显示面。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵，以及位于所述衬底基板与部分所述黑矩阵之间的多个指纹识别元件，所述指纹识别元件在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影内，所述衬底基板背离所述指纹识别元件的侧面为显示面。2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：位于所述指纹识别元件与所述衬底基板之间的光学滤光器，所述光学滤光器在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影内；所述光学滤光器被配置为用于滤除环境光。3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：位于所述指纹识别元件与所述光学滤光器之间的透镜结构，所述透镜结构在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影内。4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵包括沿第一方向延伸的多条第一遮光部和沿第二方向延伸的多条第二遮光部，所述第一遮光部和所述第二遮光部交叉形成网格状的黑矩阵，所述指纹识别元件位于所述第一遮光部和所述第二遮光部的交叠区域，且各所述指纹识别元件呈阵列排布。5.如权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：位于所述指纹识别元件与所述黑矩阵之间的薄膜晶体管、扫描线和读取线，所述薄膜晶体管在所述衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投...

【专利技术属性】
技术研发人员：褚博华，郭庆森，马国靖，卢梦梦，周波，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11