一种硅基光调制器光路监控结构制造技术

技术编号:22363288 阅读:67 留言:0更新日期:2019-10-23 04:25
本发明专利技术涉及光通信技术领域,尤其是涉及一种硅基光调制器光路监控结构,包括一个或多个光探头,每个光探头后端连接一个监控探测器;所述光路监控结构与光调制器集成,所述光调制器包括合束器,所述一个或多个光探头分别与所述合束器的输出波导耦合;其中,当所述合束器的两端输入光为反相输入时,干涉相消,所述一个或多个光探头接收干涉后的散射光,并探测光功率,所述监控探测器将对应探头探测到的光功率转换成光电流。本发明专利技术在不额外增加工艺难度的条件下,利用光探头和监控探测器接收干涉后的散射光来实现光路监控,输出反相时无相位偏移,可克服偏置点锁定偏差的问题,并有效降低分光器带来的传输损耗。

An optical path monitoring structure of silicon-based optical modulator

【技术实现步骤摘要】
一种硅基光调制器光路监控结构
本专利技术涉及光通信
,尤其是涉及一种硅基光调制器光路监控结构。
技术介绍
硅光子技术是基于硅材料,利用现有CMOS工艺进行光器件开发和集成的新一代技术,在光通信、数据中心、超级计算、生物、国防、AR/VR技术、智能汽车与无人机等许多领域将扮演极其关键的角色。当前硅光子技术日渐成熟,其高集成度、小尺寸、低功耗、光电集成等优点备受瞩目,未来硅光子技术将有可能会替代当前的自由空间耦合技术,并且硅光子技术具有解决长远的技术演进(高速率、高集成度)和成本矛盾的能力。硅光子芯片可以集成高速率调制器、传输波导、耦合器、高速率Ge-Si探测器等,将无源芯片和有源芯片实现了单片集成。但是,硅光产品目前仍有技术瓶颈:1)硅光波导耦合损耗较大;2)硅材料温度敏感,对功率和温控有更高要求;3)硅光需要混合集成激光器,封装良率较低成本优势有限。如何降低硅光芯片的传输损耗,优化发射端出光功率是硅光产业化面临的一个重要的研究课题,通常的方式是增大激光器出光功率来提高发射功率,但是容易引起器件功耗增大、提高芯片工艺难度等问题;另外一个方式是,优化硅光调制器芯片本身的损耗,其损耗主要包括:光耦合损耗、光传输损耗、光电调制吸收损耗。在光调制器中,光监控端口或MPD的功能主要有两个:①光功率值监控;②光调制器工作点反馈调节与锁定。如图1所示,在常规的硅基单马赫-曾德尔干涉仪(Mach–ZehnderInterferometer,简写为MZI)调制器中,调制器部分主要包括1x2MMI合束器001、硅波导002、热相移器004和有源掺杂区005,光路监控部分主要包括第一监控探测器007。其中,光路监控方式通常有两种:在图1(a)中,光路监控部分还包括2x2MMI光耦合器003(MMI为多模干涉),主要利用2x2MMI光耦合器003两个输出端反相,在所述2x2MMI光耦合器003干涉相消时,光功率监控值最大;所述2x2MMI光耦合器003干涉相长时,光功率监控值最小。此时,光监控端和光输出端相位差理论上为180°,但在所述2x2MMI光耦合器003的实际加工中,由于工艺误差会不可避免地引起相位偏移,即相位误差,如图2所示,相位误差而且,相位偏移是随机的,无法通过算法补偿来消除,导致利用光监控端来做工作点调节反馈时,不是最佳工作点,会影响强度调制器的误码率(BER)或相位调制器的光信噪比(OSNR)。在图1(b)中,光路监控部分还包括分光比例为95:5的分光耦合器006,主要利用所述分光耦合器006实现监控分光,其中,光输出端口为95%的比例,光监控端口为5%的比例。此种监控方式在整个O波段或C波段内,其波长相关性大于1dB,光监控端口分光比例由于工艺误差会在4%~6%波动,同时会在单个MZI调制器的光输出端口引入大于0.25dB的额外传输损耗。传输损耗的引入尤其在多级MZI调制器结构中明显,如偏振复用正交相位调制器(DP-IQ)中采用4级MZI结构,若采用95:5的分光耦合器结构将额外增加光输出端口约1dB的额外传输损耗。鉴于此,克服上述现有技术所存在的缺陷是本
亟待解决的问题。
技术实现思路
本专利技术需要解决的技术问题是:在传统的调制器光路监控结构中,通常采用2x2MMI光耦合器或分光耦合器来实现光路监控,输出反相时容易引入相位误差,导致偏置点锁定偏差的问题,还可能会带来额外的传输损耗。本专利技术通过如下技术方案达到上述目的:本专利技术提供了一种硅基光调制器光路监控结构,包括一个或多个光探头,每个光探头后端连接一个监控探测器;所述光路监控结构与光调制器集成,所述光调制器包括合束器,所述一个或多个光探头分别与所述合束器的输出波导011耦合;其中,当所述合束器的两端输入光为反相输入时,干涉相消,所述一个或多个光探头接收干涉后的散射光,并探测光功率,所述监控探测器将对应探头探测到的光功率转换成光电流。优选的,所述光探头设置两个,分别为第一光探头008和第二光探头012,所述监控探测器相应设置两个,分别为第一监控探测器007和第二监控探测器009;所述第一光探头008后端连接所述第一监控探测器007,所述第二光探头012后端连接所述第二监控探测器009;所述第一光探头008和所述第二光探头012设置在所述输出波导011的同侧或两侧。优选的,所述第一光探头008和所述第二光探头012设置在所述输出波导011的两侧,且各光探头的中心线与所述输出波导011的中心线呈一夹角。优选的,各光探头的波导厚度H=220nm,与输出波导011的厚度相同;各光探头的末端宽度Wtip=90nm;其中,所述末端为靠近所述输出波导011的一端;各光探头末端与所述输出波导011中心线的水平距离dx=1.2um,竖直距离dy=1.4um;两个光探头相对所述输出波导011的中心线呈对称分布,且各光探头的中心线与所述输出波导011中心线的夹角α=8°。优选的,所述光调制器为DP-IQ相位调制器,由四个MZI调制器结构组成,分别为X-I、X-Q、Y-I和Y-Q;所述光路监控结构设置6个,分别为第一光路监控结构014、第二光路监控结构015、第三光路监控结构016、第四光路监控结构017、第五光路监控结构018和第六光路监控结构019;所述第一光路监控结构014用于监控X-I路MZI调制器结构的光功率,所述第二光路监控结构015用于监控X-Q路MZI调制器结构的光功率,所述第三光路监控结构016用于监控X路的光功率;所述第四光路监控结构017用于监控Y-I路MZI调制器结构的光功率,所述第五光路监控结构018用于监控Y-Q路MZI调制器结构的光功率,所述第六光路监控结构019用于监控Y路的光功率;每个光路监控结构均包括两个光探头和两个监控探测器,且所述两个光探头对称设置在对应合束器输出波导的两侧。优选的,在所述第三光路监控结构016和所述第六光路监控结构019的后端还设置有偏振旋转合束器013;X偏振光和Y偏振光分别经过IQ正交相位调制后,由所述偏振旋转合束器013将X偏振和Y偏振的调制光进行合束。优选的,当设置多个光探头时,对应的多个监控探测器并联,使得最终光电流为所述多个监控探测器探测的光电流之和。优选的,所述光探头为一段锥形波导,锥形波导的粗端与对应的监控探测器连接,细端朝向所述输出波导011,并与所述输出波导011耦合。优选的,所述光探头采用硅光高精度光刻和刻蚀工艺形成,所述监控探测器为锗硅光电二极管。优选的,所述合束器为Y型合束器或多模干涉合束器。本专利技术的有益效果是:本专利技术提供的光调制器光路监控结构中,在不额外增加工艺难度的条件下,利用光探头和监控探测器接收干涉后的散射光来实现光路监控,输出反相时光监控端口和光输出端口的相位差固定,无相位偏移,可克服偏置点锁定偏差的问题,并有效降低了分光器带来的传输损耗;同时,该结构设计简单,容易在硅光芯片上单片集成。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案,下面将对本专利技术实施例中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地,下面所描述的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有的一种单MZI硅基光调本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种硅基光调制器光路监控结构,其特征在于,光路监控结构包括一个或多个光探头,每个光探头后端连接一个监控探测器;所述光路监控结构与光调制器集成,所述光调制器包括合束器,所述一个或多个光探头分别与所述合束器的输出波导(011)耦合;其中,当所述合束器的两端输入光为反相输入时,干涉相消,所述一个或多个光探头接收干涉后的散射光,并探测光功率,所述监控探测器将对应探头探测到的光功率转换成光电流。

【技术特征摘要】
1.一种硅基光调制器光路监控结构,其特征在于,光路监控结构包括一个或多个光探头,每个光探头后端连接一个监控探测器;所述光路监控结构与光调制器集成,所述光调制器包括合束器,所述一个或多个光探头分别与所述合束器的输出波导(011)耦合;其中,当所述合束器的两端输入光为反相输入时,干涉相消,所述一个或多个光探头接收干涉后的散射光,并探测光功率,所述监控探测器将对应探头探测到的光功率转换成光电流。2.根据权利要求1所述的硅基光调制器光路监控结构,其特征在于,所述光探头设置两个,分别为第一光探头(008)和第二光探头(012),所述监控探测器相应设置两个,分别为第一监控探测器(007)和第二监控探测器(009);所述第一光探头(008)后端连接所述第一监控探测器(007),所述第二光探头(012)后端连接所述第二监控探测器(009);所述第一光探头(008)和所述第二光探头(012)设置在所述输出波导(011)的同侧或两侧。3.根据权利要求2所述的硅基光调制器光路监控结构,其特征在于,所述第一光探头(008)和所述第二光探头(012)分别设置在所述输出波导(011)的两侧,且各光探头的中心线与所述输出波导(011)的中心线呈一夹角。4.根据权利要求3所述的硅基光调制器光路监控结构,其特征在于,各光探头的波导厚度H=220nm,与所述输出波导(011)的厚度相同;各光探头的末端宽度Wtip=90nm;其中,所述末端为靠近所述输出波导(011)的一端;各光探头末端与所述输出波导(011)中心线的水平距离dx=1.2um,竖直距离dy=1.4um;两个光探头相对所述输出波导(011)的中心线呈对称分布,且各光探头的中心线与所述输出波导(011)中心线的夹角α=8°。5.根据权利要求1所述的硅基光调制器光路监控结构,其特征在于,所述光调制器为DP-IQ相位调制器,由四个MZI调制器结构组成,分别为X-I...

【专利技术属性】
技术研发人员:梁雪瑞陈宏刚胡蕾蕾张博胡毅罗勇马卫东
申请(专利权)人:武汉光迅科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

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