一种改变激光光强分布膜片的制造方法技术

本发明专利技术公开了一种改变激光光强分布膜片的制造方法，其包括以下步骤：1）在光学基片上镀光学薄膜；2）利用飞秒激光逐点蒸发去除部分光学薄膜，使得光学薄膜形成激光透射或反射所需光强分布的光学表面结构。本发明专利技术采用飞秒激光在光学薄膜上逐点部分去除修饰成所需的光学表面结构，由于飞秒激光具有0.01um的修正能力，而且现在计算机可设计图案与打击次数，从而能根据所需要求精准和高效地改变光学薄膜的结构以改变光强分布。

【技术实现步骤摘要】
一种改变激光光强分布膜片的制造方法
本专利技术涉及激光领域，尤其涉及一种改变激光光强分布膜片的制造方法。
技术介绍
现有技术中，为了改变激光光强的分布一般采用机械设备直接在膜层上硬磨出来，上述方式不仅效率低，而且精准度差，然而在超薄的膜层上（厚度小于100μm）用机械设备是无法加工出来的。
技术实现思路
为了解决现有技术中的不足，本专利技术的目的在于提供一种高精准、高效率的改变激光光强分布膜片的制造方法。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：一种改变激光光强分布膜片的制造方法，其包括以下步骤：1）在光学基片上镀光学薄膜；2）利用飞秒激光逐点蒸发去除部分光学薄膜，使得光学薄膜形成激光透射或反射所需光强分布的光学表面结构。所述制造方法还包括步骤3）将所述光学表面结构进行抛光。所述光学薄膜的厚度小于或等于100μm。所述光学基片的材质为Si、YAG或TGG。所述制造方法应用于将高斯激光变为均匀激光，所述光学薄膜为金属膜，所述光学表面结构为连续环状的台阶结构，且各台阶为同轴线设置。所述制造方法应用于激光的渐变反射衰减，所述光学薄膜为金属膜，所述光学表面结构为一端向另一端逐级升高的台阶结构，各台阶均为长方体状。本专利技术采用以上技术方案，采用飞秒激光在光学薄膜上逐点部分去除修饰成所需的光学表面结构，由于飞秒激光具有0.01um的修正能力，而且现在计算机可设计图案与打击次数，从而能根据所需要求精准和高效地改变光学薄膜的结构以改变光强分布。附图说明以下结合附图和具体实施方式对本专利技术做进一步详细说明：图1为本专利技术实施例1中步骤1）中形成的结构示意图；图2为本专利技术实施例1中步骤2）中形成的结构示意图；图3为本专利技术实施例1中步骤3）中形成的结构示意图；图4为本专利技术实施例1具体应用中的示意图；图5为本专利技术实施例2中形成台阶结构的示意图；图6为本专利技术实施例2具体应用中的示意图。具体实施方式实施例1，如图1-3之一所示，本专利技术应用于激光的渐变反射衰减，具体制造方法包括以下步骤：1）在光学基片1上镀光学薄膜2，其中光学薄膜2为金属膜；2）利用飞秒激光逐点蒸发去除部分光学薄膜2，使得光学薄膜2形成激光透射或反射所需光强分布的光学表面结构3，该光学表面结构3为一端向另一端逐级升高的台阶结构，各台阶均为长方体状；步骤3）将所述光学表面结构3进行抛光。所述光学基片1的材质为Si、YAG或TGG。如图4所示，由激光源射出的高斯激光束经过上述光学表面结构3后形成均匀的激光。实施例2，如图5所示，所述制造方法应用于激光的渐变反射衰减，所述光学薄膜2也为金属膜，制造方法与实施例1相同，不同点是所述光学表面结构3为连续环状的台阶结构，且各台阶为同轴线设置。如图6所示，将上述光学表面结构3置于输出光纤和接收光纤之间，通过平移光学基片1实现进入接收光纤的光强线性衰减。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种改变激光光强分布膜片的制造方法，其特征在于：其包括以下步骤：1）在光学基片上镀光学薄膜；2）利用飞秒激光逐点蒸发去除部分光学薄膜，使得光学薄膜形成激光透射或反射所需光强分布的光学表面结构。

【技术特征摘要】
1.一种改变激光光强分布膜片的制造方法，其特征在于：其包括以下步骤：1）在光学基片上镀光学薄膜；2）利用飞秒激光逐点蒸发去除部分光学薄膜，使得光学薄膜形成激光透射或反射所需光强分布的光学表面结构。2.根据权利要求1所述的一种改变激光光强分布膜片的制造方法，其特征在于：所述制造方法还包括步骤3）将所述光学表面结构进行抛光。3.根据权利要求1所述的一种改变激光光强分布膜片的制造方法，其特征在于：所述光学薄膜的厚度小于或等于100μm。4.根据权利要求1所述的一种改变激光光强分布膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴砺，张建英，黄宏，林磊，任策，
申请(专利权)人：福州高意光学有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35