一种新型氧化扩散炉系统用进气管技术方案

本实用新型专利技术涉及一种新型氧化扩散炉系统用进气管，包括前后连接的弯折通气管和直通气管，所述弯折通气管和直通气管均由石英管制成，所述弯折通气管与进气端连接，所述直通气管与出气端连通，所述直通气管靠近弯折通气管的下方具有开口与高压进气管连通，所述高压进气管与弯折通气管外壁通过胶接固定设置高压进气管，可以实现进气端的进气与高压进气管的进气之间的加速混合，实现扩散原子的均匀分布，同时可以实现出气端输出气体压力的微量调节，避免现有技术中对进气端整体气体压力的调节引起的出气端气体压力的过大波动，有效提高扩散加工工艺的稳定性。

A new type of intake pipe for oxidation diffusion furnace system

【技术实现步骤摘要】
一种新型氧化扩散炉系统用进气管
本技术涉及氧化扩散炉装置领域，具体是一种新型氧化扩散炉系统用进气管。
技术介绍
现有常压扩散炉进气方式为炉尾进气，通过尾气管从炉口出气，在炉内形成气体流场，中国技术专利CN206736407U公开了一种扩散炉用石英炉管，炉门上设置底面呈球面的导流槽，进气管穿过管体内部，在炉口处与炉门相对设置，当气体从进气管进入管体后，气体从进气管内喷出，直接喷向导流槽的底面，导流槽的底面为球面，喷向导流槽的气体经过导流槽底面的反弹后充满整个管体，并向炉尾流动，最终从炉尾中间的尾气管排出，掺杂原子在反应室内分布更均匀，但仍具有如下缺点：现有进气方式气体流场不均匀，掺杂原子在反应室内分布不均匀，炉尾气体浓度偏高，炉口气体浓度偏低，容易造成扩散后硅片片内与片间的均匀性相对较差，其主要原因在于采用反弹式气体流动方式，虽然局部实现了掺杂原子分布均匀的目的，但其是以牺牲进气管进气气体的压力为代价，从而导致炉尾气体浓度偏高，炉口气体浓度偏低的现象发生。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种新型氧化扩散炉系统用进气管，以解决现有技术中存在的缺陷。本技术解决上述技术问题的技术方案如下：一种新型氧化扩散炉系统用进气管，包括前后连接的弯折通气管和直通气管，所述弯折通气管和直通气管均由石英管制成，所述弯折通气管与进气端连接，所述直通气管与出气端连通，所述直通气管靠近弯折通气管的下方具有开口与高压进气管连通，所述高压进气管与弯折通气管外壁通过胶接固定。进一步的，所述弯折通气管上设置有固定用的乳白法兰二，所述直通气管的末端设置有固定用乳白法兰一；本技术的有益效果是：高压进气管可以实现进气端的进气与高压进气管的进气之间的加速混合，实现扩散原子的均匀分布，必要时可以实现出气端输出气体压力的微量调节，有效提高扩散加工工艺的稳定性。附图说明图1为本技术结构示意图；附图标记说明如下：1、进气端，2、乳白法拉二，3、高压进气管，4、弯折通气管，5、出气端，6、乳白法兰一，7、直通气管；具体实施方式以下结合附图对本技术的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本技术，并非用于限定本技术的范围。如图1所示，一种新型氧化扩散炉系统用进气管，包括前后连接的弯折通气管4和直通气管7，所述弯折通气管4和直通气管7均由石英管制成，所述弯折通气管4与进气端1连接，所述直通气管7与出气端5连通，所述直通气管7靠近弯折通气管4的下方具有开口与高压进气管3连通，所述高压进气管3与弯折通气管4外壁通过胶接固定。更具体的，所述弯折通气管4上设置有固定用的乳白法兰二2，所述直通气管7的末端设置有固定用乳白法兰一6；具体工作原理：通过设置弯折通气管，可以实现进气管安装角度的灵活调整，并且在直通气管设置高压进气管，可以实现进气端的进气与高压进气管的进气之间的加速混合，实现扩散原子的均匀分布，同时可以实现出气端输出气体压力的微量调节，避免现有技术中对进气端整体气体压力的调节引起的出气端气体压力的过大波动，有效提高扩散加工工艺的稳定性。以上所述仅为本技术的较佳实施例，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型氧化扩散炉系统用进气管，其特征在于：包括前后连接的弯折通气管和直通气管，所述弯折通气管和直通气管均由石英管制成，所述弯折通气管与进气端连接，所述直通气管与出气端连通，所述直通气管靠近弯折通气管的下方具有开口与高压进气管连通，所述高压进气管与弯折通气管外壁通过胶接固定。

【技术特征摘要】
1.一种新型氧化扩散炉系统用进气管，其特征在于：包括前后连接的弯折通气管和直通气管，所述弯折通气管和直通气管均由石英管制成，所述弯折通气管与进气端连接，所述直通气管与出气端连通，所述直通气管靠近弯折通气管的下方具有开...

【专利技术属性】
技术研发人员：张忠恕，
申请(专利权)人：张忠恕，
类型：新型
国别省市：北京,11