镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种镀膜装置，包括：箱体、加热组件和装夹组件。所述箱体包括相对设置的第一壁和第二壁，还包括位于所述第一壁和第二壁之间的侧壁，所述第一壁、第二壁以及侧壁合围成镀膜腔，所述第一壁上设置有进气口，所述第二壁上设置有排气口；加热组件包括沿第一壁至第二壁的方向排布的若干加热单元，且沿着第一壁至第二壁的方向，若干所述加热单元的温度依次降低；装夹组件，均匀设置在所述镀膜腔内。具有镀膜均匀度高、工作效率高的优点。

【技术实现步骤摘要】
镀膜装置
本技术涉及薄膜制备工艺
，特别是涉及一种镀膜装置。
技术介绍
为了防止物体表面的氧化、溶剂腐蚀等问题，一般会对物体的表面进行表面防护处理。传统使用的环氧树脂、聚氯脂、有机硅树脂、聚丙烯酸脂等防护涂料都是液体涂料。由于液体的粘度和表面张力等原因，涂层厚度不均匀，在棱、角等处涂层较薄，当物体之间，基板之间仅有很小间距时，会因涂层流不到而形成气隙。涂层固化，烘干后会因溶剂或小分子助剂的挥发，产生收缩应力或形成微小针孔。这些传统涂层的介电强度一般也在2000V/25μm以下，因此必须经多次涂敷，用较厚的涂层才能实现较可靠的防护。派瑞林(Parylene)又名聚对二甲苯的聚合物，是一种新型的敷形涂层材料。由单体对二甲苯均匀分布在被涂装物的缝隙和表层然后聚合。运用气相沉积的处理技术，可以于物体表面均匀涂覆形成膜厚，是一种保护性高分子材料。派瑞林活性分子的良好穿透力能在元件内部、底部，周围形成无针孔，厚度均匀的透明绝缘涂层，给元件提供一个完整的优质防护涂层，抵御酸碱、盐雾、霉菌及各种腐蚀性气件的侵害，这种室温沉积制备的0.1μm～100μm薄膜涂层，厚度均匀、致密无针孔、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，是当代最有效的防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料。现有的派瑞林涂覆工艺是，首先将物体放置在腔体内，然后向腔体内通入带有派瑞林的气体，带有派瑞林的气体与腔体内的物体表面接触从而在物体表面形成派瑞林镀膜。在实际操作时发现，在腔体内部且靠近通气口处的工件上的派瑞林镀膜厚度较厚，进而导致腔体内的工件的派瑞林镀膜厚度不均匀，影响了产品的效果。
技术实现思路
基于此，有必要针对上述的问题，提供一种镀膜装置，具有使工件上的镀膜厚度均匀且提高产能的优点。一种镀膜装置，包括：箱体，所述箱体包括相对设置的第一壁和第二壁，还包括位于所述第一壁和第二壁之间的侧壁，所述第一壁、第二壁以及侧壁合围成镀膜腔，所述第一壁上设置有进气口，所述第二壁上设置有排气口；加热组件，包括沿第一壁至第二壁的方向排布的若干加热单元，且沿着第一壁至第二壁的方向，若干所述加热单元的温度依次降低；以及装夹组件，均匀设置在所述镀膜腔内。在其中一个实施例中，至少所述第一壁和所述侧壁上设置有加热单元。在其中一个实施例中，所述加热组件的加热温度为-20℃-200℃。在其中一个实施例中，所述第一壁、侧壁和第二壁上均设置有加热单元，所述第一壁上的加热单元的温度为60℃，所述第二壁上的加热单元的温度为30℃；所述侧壁上设有两组加热单元，靠近所述第一壁上的加热单元的温度为50℃，靠近第二壁上的加热单元的温度问40℃。在其中一个实施例中，所述镀膜腔的容积为0.02m3-8m3。在其中一个实施例中，所述装夹组件为码放台或吊装架，所述装夹组件用于在镀膜过程中承载工件以使工件在镀膜过程中姿态固定。在其中一个实施例中，沿着所述进气口与所述排气口的直线方向为第一方向，所述装夹组件装夹工件以使所述工件与第一方向的夹角为0°-45°。在其中一个实施例中，所述工件与所述第一方向的夹角为0°-15°。在其中一个实施例中，所述加热组件设置在所述箱体外部。在其中一个实施例中，所述镀膜腔内靠近所述进气口处设置有匀气装置，所述匀气装置至少包括一个匀气板，所述匀气板上设有通气孔。有益效果：1、采用本申请的技术方案进行镀膜，工件上的镀膜均匀度更高；2、通过提升温度使镀膜时间更短，提高了工作效率。附图说明图1示出了本申请一个实施例中的镀膜装置的结构示意图；图2示出了五种派瑞林的分子结构；图3示出了本申请一个实施例中的镀膜装置中的工件的摆放状态示意图；图4示出了本申请一个实施例中的在工件上进行派瑞林镀膜的方法的示意性流程图。附图标记：100、箱体；110、镀膜腔；120、进气口；130、排气口；140、第一壁；150、第二壁；160、侧壁；200、加热组件；210、加热单元；300、匀气装置；310、匀气板；320、通气孔；400、工件。具体实施方式为了便于理解本技术，下面参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术较佳实施例。但是，本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使本技术公开内容的理解更佳透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。相反，当元件被称为“直接在”另一元件“上”时，不存在中间元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。如图1所示，图1示出了本申请一个实施例中的镀膜装置的结构示意图。镀膜装置包括箱体100、加热组件200和装夹组件(图中未示出)。其中，箱体100内设有镀膜腔110，箱体100上设置有进气口120和排气口130；加热组件200设置在箱体100上，用于对镀膜腔110内进行加热；装夹组件均匀设置在镀膜腔110内，工件400装夹在装夹组件上。加热组件200控制箱体100内的温度以使箱体100内的温度自进气口120至排气口130的方向依次降低。本申请各实施例中的镀膜装置通入的气体含有派瑞林。派瑞林镀膜实质上是派瑞林单体吸附在工件400的表面，派瑞林单体之间发生自由基聚合反应形成高分子链，高分子链叠加成膜。如果吸附的派瑞林单体在聚合反应发生之前解吸附，并离开工件400表面则不会形成膜。本申请中，派瑞林在镀膜腔110的靠近进气口120处浓度高于靠近排气口130处，因此靠近进气口120处的派瑞林单体之间更容易发生自由基聚合反应形成高分子链，进而使靠近进气口120处的工件400表面的派瑞林镀膜厚度较厚。本申请通过加热组件200控制箱体100内的温度，且温度自进气口120至排气口130的方向依次降低。温度越高，派瑞林单体的解吸附速率越高，温度越低，派瑞林单体的解吸附速率越低，因此，派瑞林单体在进气口120处的解吸附速率高于派瑞林单体在排气口130处的解吸附速率。也就是说，靠近进气口120处，派瑞林的浓度高，容易在工件400表面形成更加厚的膜，但是通过高温控制，加快了派瑞林单体的解吸附速率，进而又减少了工件400表面的派瑞林镀膜的厚度。同理，靠近排气口130处，派瑞林的浓度低，在工件400表面形成的膜比较薄，但是通过低温控制，使派瑞林单体的解吸附速度慢，进而有增加了工件400表面的派瑞林镀膜的厚度。如此可以实现镀膜腔110内的工件400具有更加均匀的派瑞林镀膜的厚度。如图1所示，在其中一个实施例中，箱体100可以为正方体、长方体或圆柱体等形状。具体地，箱体100包括相对设置的第一壁140和第二壁150，还包括位于第一壁140和第二壁150之间的侧壁160。当箱体100为正方体或长方体时，侧壁160为平面；当箱体100为圆柱体时，侧壁160为弧面。第一壁140、第二壁150和侧壁160合围成镀膜腔110，工件400摆放在镀膜腔110内，在镀膜腔110内实现镀膜。第一壁140上设置有进气口120，第二壁150上设置有排气口130。在图1中，进气口120位于上方，排气口本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜装置，其特征在于，包括：箱体，所述箱体包括相对设置的第一壁和第二壁，还包括位于所述第一壁和第二壁之间的侧壁，所述第一壁、第二壁以及侧壁合围成镀膜腔，所述第一壁上设置有进气口，所述第二壁上设置有排气口；加热组件，包括沿第一壁至第二壁的方向排布的若干加热单元，且沿着第一壁至第二壁的方向，若干所述加热单元的温度依次降低；以及装夹组件，均匀设置在所述镀膜腔内。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜装置，其特征在于，包括：箱体，所述箱体包括相对设置的第一壁和第二壁，还包括位于所述第一壁和第二壁之间的侧壁，所述第一壁、第二壁以及侧壁合围成镀膜腔，所述第一壁上设置有进气口，所述第二壁上设置有排气口；加热组件，包括沿第一壁至第二壁的方向排布的若干加热单元，且沿着第一壁至第二壁的方向，若干所述加热单元的温度依次降低；以及装夹组件，均匀设置在所述镀膜腔内。2.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，至少所述第一壁和所述侧壁上设置有加热单元。3.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述加热组件的加热温度为-20℃-200℃。4.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述第一壁、侧壁和第二壁上均设置有加热单元，所述第一壁上的加热单元的温度为60℃，所述第二壁上的加热单元的温度为30℃；所述侧壁上设有两组加热单元，靠近所述第一壁上的加热...

【专利技术属性】
技术研发人员：云洋，
申请(专利权)人：深圳奥拦科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：广东,44