光刻胶用小型玻璃容器的清洗装置制造方法及图纸

技术编号:22339304 阅读:31 留言:0更新日期:2019-10-19 14:39
本实用新型专利技术涉及一种光刻胶用小型玻璃容器的清洗装置,包括具有4个侧板和1个底板的长方体形状的外框槽,外框槽的底板上固定连接有多个一层隔离板,各相邻一层隔离板之间以及最外侧的一层隔离板和侧板之间构成一层小型玻璃容器容纳腔,底板上对应每个一层小型玻璃容器容纳腔分别设有至少1个通孔;设有一托板,托板上固定连接有多个二层隔离板,各相邻二层隔离板之间以及最外侧的二层隔离板和侧板之间构成二层小型玻璃容器容纳腔,托板上对应每个二层小型玻璃容器容纳腔分别设有至少1个通孔;设有一压板,压板位于二层隔离板上方,压板上开设有多个通孔。该装置能实现光刻胶玻璃瓶的快速批量清洗,大大提高了清洗效率,保证了清洗效果。

Cleaning device of small glass container for photoresist

【技术实现步骤摘要】
光刻胶用小型玻璃容器的清洗装置
本技术涉及一种玻璃容器清洗装置,具体涉及一种用于对储存光刻胶的高洁净玻璃容器进行清洗的装置。
技术介绍
在半导体工业中,光刻胶是芯片及器件制造工艺中使用的关键材料。通常,光刻胶产品都要求颗粒度、水分和金属杂质等指标在较低的范围,从而保证在制造过程中芯片不会被光刻胶沾污,影响电路性能。随着集成电路尺寸不断减小,人们对集成电路制造过程中的金属杂质含量和颗粒度要求也随之不断提高。最高端的半导体芯片要求光刻胶等原材料的单个金属杂质含量控制在1ppb以内,颗粒度在0.15微米以上控制在10个/mL以内。光刻胶的包装容器也必须以最高的标准进行控制,否则容器内的颗粒物和金属杂质,会随着光刻工序附着在晶圆上,使微电路被颗粒物断路或短路,造成缺陷;进而影响整批半导体产品的良率。当前,我国正在大力发展半导体产业,其中对光刻胶的研发是重点之一。在光刻胶的研发过程中,需要多次进行光刻性能评估。在光刻胶配方研发过程中,配方数量巨大,但每个配方只会制备少量样品进行评估。因此,光刻胶专用的小型洁净玻璃容器需求量巨大,出于成本考虑,相关的玻璃容器的清洗工作也变得愈发重要。现有技术中,清洗时,需要将小瓶子一个个地放置在清洗槽内;然后每个瓶子内灌入清洗液,灌满后再分别进行清洗;清洗结束后还需再一个个倒空清洗液取出烘干。使用现有的清洗方式,主要的时间耗费在清洗液灌入和倒出每个瓶子的过程中。同时,大批量清洗小型玻璃容器,存在清洗液残留的情况,会造成清洗效果变差,颗粒度和金属杂质的指标过高。为确保容器的洁净度,只能采用少量多次的方式进行清洗,耗费大量的人力,不能满足配方开发时候的容器需求。因此,开发简易的、大批量清洗光刻胶容器的清洗装置势在必行。
技术实现思路
本技术的专利技术目的是提供一种光刻胶用小型玻璃容器的清洗装置,以实现对小型光刻胶容器的批量清洗,提高清洗效率和清洗质量。为达到上述专利技术目的,本技术采用的技术方案是:一种光刻胶用小型玻璃容器的清洗装置,包括具有4个侧板和1个底板的长方体形状的外框槽,所述外框槽的底板上固定连接有多个竖向布置的一层隔离板,各相邻一层隔离板之间以及最外侧的一层隔离板和侧板之间构成一层小型玻璃容器容纳腔,所述底板上对应每个一层小型玻璃容器容纳腔分别设有至少1个通孔;设有一可平放在所述外框槽内的托板,所述托板放置在所述一层隔离板上方,所述托板上固定连接有多个竖向布置的二层隔离板,各相邻二层隔离板之间以及最外侧的二层隔离板和侧板之间构成二层小型玻璃容器容纳腔,所述托板上对应每个二层小型玻璃容器容纳腔分别设有至少1个通孔;设有一压板,所述压板位于所述二层隔离板上方,压板上开设有多个通孔。上述技术方案中,每个小型玻璃容器容纳腔可以放入1排玻璃容器,隔离板之间的距离根据适用的玻璃瓶的大小确定,由于光刻胶用的小型玻璃容器通常采用100mL玻璃瓶,隔离板之间的距离以与100mL玻璃瓶适应为优选。侧板、底板、隔离板、托板和压板应采用高洁净的、具有一定强度的材料制备,例如采用PP、PDFE或HDPE等材料,也可以采用如铝材、316L的不锈钢材料。使用时,先在一层隔离板之间按序放入待清洗的玻璃瓶,在其上放入托板,再在托板上方的二层隔离板之间放入第二层待清洗的玻璃瓶,再放入压板。将上述装置整体放入一个清洗槽内,灌入清洗液,再此过程中,托板对第一层中的玻璃瓶限位,压板对第二层中的玻璃瓶限位,防止尚未灌入清洗液的瓶体浮起;由此,可以实现清洗液的快速灌入并避免瓶体的无规漂浮和碰撞。灌入清洗液后,可以利用超声波清洗设备进行清洗。清洗完毕后,提起整个外框槽,从通孔排出槽内的清洗液,然后按住压板,倾倒或翻转外框槽,排出所有玻璃容器中的清洗液,由此,可以快速、完全地排除瓶体内的清洗液。如需进一步清洗,可以重复上述过程,根据需要可以多次采用清洗液清洗及使用纯水洗净。清洗结束后,去除压板,依次取出玻璃瓶后放入洁净烘箱烘干备用。进一步的技术方案,在所述侧板上对应所述托板和所述压板的高度分别固定连接有托板支撑件和压板支撑件,所述托板支撑件和压板支撑件在竖直方向上的投影不重合,所述托板上对应所述压板支撑件的位置设有避让槽。通过设置托板支撑件和压板支撑件将托板和压板上的力传递到侧板上,可以避免托板和压板的力作用在隔离板上,保证隔离板的稳定性,延长装置使用寿命。进一步的技术方案,设有压板定位结构,所述压板经压板定位结构与所述压板支撑件可拆式固定。在外框槽被翻转时,压板被定位,不需要人工按住压板。上述技术方案中,所述一层小型玻璃容器容纳腔和所述二层小型玻璃容器容纳腔的宽度与待清洗的小型玻璃容器的外径相配合。上述技术方案中,在一对所述侧板上开设有提手孔,以方便外框槽的移动和翻转。优选的技术方案,所述底板、托板和压板上的每一通孔的孔径为小型玻璃容器外径的15%~25%,相邻通孔间的距离为小型玻璃容器外径的40%~80%。优选的技术方案,所述底板、托板和压板上的通孔布局形式相同。进一步的技术方案,设有外框,所述外框是由4块侧板和1块底板构成的不漏水容器,其大小将外框槽容纳在内。外框可以作为清洗用的容器,清洗液被直接灌入外框中,并将外框移动至超声波清洗设备处清洗,可方便操作。由于上述技术方案运用,本技术与现有技术相比具有下列优点:1、本技术设置了具有双层结构的外框槽,对待清洗的光刻胶玻璃瓶进行限位,可以实现快速批量清洗;结合隔离板、托板和压板的作用,玻璃瓶被方便地限位,实现了清洗液的快速灌注和排出,大大提高了清洗效率;2、本技术装置能够方便地与超声清洗设备结合,从而有效去除容器内残留的金属杂质和颗粒物,保证清洗效果。附图说明图1是本技术实施例的结构正面透视示意图;图2是图1中的底部结构示意图;图3是外框结构示意图。其中:1、侧板;2、底板;3、一层隔离板;4、二层隔离板;5、压板;6、托板;7、一层小型玻璃容器容纳腔;8、二层小型玻璃容器容纳腔;9、通孔;10、托板支撑件;11、压板支撑件;12、抓手孔。具体实施方式下面结合附图及实施例对本技术作进一步描述:实施例一:一种光刻胶用小型玻璃容器的清洗装置,参见图1所示,由4个侧板1和1个底板2构成长方体形状的外框槽,板材可以采用PP、PDFE或HDPE材料。侧板上可以设有把手,或者通过开孔形成把手孔,以方便提拿。外框槽的底板2上固定连接有多个竖向布置的一层隔离板3,各相邻一层隔离板3之间以及最外侧的一层隔离板3和侧板1之间构成一层小型玻璃容器容纳腔7,如附图2所示,底板2上对应每个一层小型玻璃容器容纳腔分别设有10个通孔9(通过的数量可以根据需要增减,但应当保证每个容纳腔内至少有1个通孔),由此构成第一层。如图1,在第一层上方设有一可平放在所述外框槽内的托板6,托板6上固定连接有多个竖向布置的二层隔离板4,各相邻二层隔离板4之间以及最外侧的二层隔离板4和侧板1之间构成二层小型玻璃容器容纳腔8,所述托板6上对应每个二层小型玻璃容器容纳腔8分别设有通孔,本实施例中,托板上的通孔布置方式与底板相同,由此构成第二层。在第二层上方设有一压板5,压板5上开设有多个通孔。本实施例中,在侧板1上对应所述托板6和所述压板5的高度分别固定连接有托板支撑件10和压板支撑件11本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种光刻胶用小型玻璃容器的清洗装置,包括具有4个侧板和1个底板的长方体形状的外框槽,其特征在于:所述外框槽的底板上固定连接有多个竖向布置的一层隔离板,各相邻一层隔离板之间以及最外侧的一层隔离板和侧板之间构成一层小型玻璃容器容纳腔,所述底板上对应每个一层小型玻璃容器容纳腔分别设有至少1个通孔;设有一可平放在所述外框槽内的托板,所述托板放置在所述一层隔离板上方,所述托板上固定连接有多个竖向布置的二层隔离板,各相邻二层隔离板之间以及最外侧的二层隔离板和侧板之间构成二层小型玻璃容器容纳腔,所述托板上对应每个二层小型玻璃容器容纳腔分别设有至少1个通孔;设有一压板,所述压板位于所述二层隔离板上方,压板上开设有多个通孔。

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶用小型玻璃容器的清洗装置,包括具有4个侧板和1个底板的长方体形状的外框槽,其特征在于:所述外框槽的底板上固定连接有多个竖向布置的一层隔离板,各相邻一层隔离板之间以及最外侧的一层隔离板和侧板之间构成一层小型玻璃容器容纳腔,所述底板上对应每个一层小型玻璃容器容纳腔分别设有至少1个通孔;设有一可平放在所述外框槽内的托板,所述托板放置在所述一层隔离板上方,所述托板上固定连接有多个竖向布置的二层隔离板,各相邻二层隔离板之间以及最外侧的二层隔离板和侧板之间构成二层小型玻璃容器容纳腔,所述托板上对应每个二层小型玻璃容器容纳腔分别设有至少1个通孔;设有一压板,所述压板位于所述二层隔离板上方,压板上开设有多个通孔。2.根据权利要求1所述的光刻胶用小型玻璃容器的清洗装置,其特征在于:在所述侧板上对应所述托板和所述压板的高度分别固定连接有托板支撑件和压板支撑件,所述托板支撑件和压板支撑件在竖直方向上的投影不重合,所述托板上对应所述压板支撑件的位置设有避...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈玲顾大公马新龙毛智彪许从应
申请(专利权)人:江苏南大光电材料股份有限公司
类型:新型
国别省市:江苏,32

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